SEMICON Japan 2011 開催に併せて、ギガフォトンではプライベートセミナーを開催致します。 今回は、「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」をテーマに、国外大手デバイスメーカーのトップ技術者の方を講師にお迎えし、リソグラフィ技術の最前線についてお話いただくほか、ギガフォトンがご提案する技術面・製品面でのソリュー ションをご紹介します。

 

日　時	2011年12月9日(金)、15:00～17:15 (17:15～夕食及び歓談)
会　場	東京ベイ幕張「幕張ホール」
テーマ	「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」

 

プログラム(同時通訳あり)
15:00-15:15	「開催の挨拶」ギガフォトン株式会社　代表取締役社長　渡辺裕司
15:15-15:45	Updates of Lithography Technologies 株式会社東芝、デバイスプロセス開発センター、 リソグラフィプロセス技術開発部 部長　工学博士　東木達彦
15:45-16:15	Current Status for NXE EUV Scanners and Expectation to Source Suppliers エーエスエムエルジャパン株式会社 テクニカルマーケティング ディレクター 森崎　健史
16:15-16:45	EUV Lithography Development Status Mr. YoonSuk Hyun Senior Engineer, Research & Development Division DRAM Process AP Team HYNIX Semiconductor Inc.
16:45-17:15	ギガフォトン LPP EUV 光源開発の現状とロードマップ ギガフォトン株式会社 事業推進部　副部長　工学博士 住谷　明
17:15 -	会食

セミナーお問い合わせ
ギガフォトン株式会社 営業部　業務課 : 長谷川　雅彦
TEL: 0285-28-8415 FAX: 0285-28-8439
E-mail: masahiko_hasegawa@gigaphoton.com