「ギガフォトンセミナー」開催

SEMICON Japan 2011 開催に併せて、ギガフォトンではプライベートセミナーを開催致します。 今回は、「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」をテーマに、国外大手デバイスメーカーのトップ技術者の方を講師にお迎えし、リソグラフィ技術の最前線についてお話いただくほか、ギガフォトンがご提案する技術面・製品面でのソリュー ションをご紹介します。

 

日 時 2011年12月9日(金)、15:00~17:15 (17:15~夕食及び歓談)
会 場 東京ベイ幕張「幕張ホール」
テーマ 「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」

 

プログラム(同時通訳あり)
15:00-15:15 「開催の挨拶」ギガフォトン株式会社 代表取締役社長 渡辺裕司
15:15-15:45 Updates of Lithography Technologies
株式会社東芝、デバイスプロセス開発センター、
リソグラフィプロセス技術開発部
部長 工学博士 東木達彦
15:45-16:15 Current Status for NXE EUV Scanners and Expectation to Source Suppliers
エーエスエムエルジャパン株式会社
テクニカルマーケティング ディレクター
森崎 健史
16:15-16:45 EUV Lithography Development Status
Mr. YoonSuk Hyun
Senior Engineer, Research & Development Division
DRAM Process AP Team
HYNIX Semiconductor Inc.
16:45-17:15 ギガフォトン
LPP EUV 光源開発の現状とロードマップ
ギガフォトン株式会社
事業推進部 副部長 工学博士
住谷 明
17:15 - 会食

セミナーお問い合わせ
ギガフォトン株式会社 営業部 業務課 : 長谷川 雅彦
TEL: 0285-28-8415 FAX: 0285-28-8439
E-mail: masahiko_hasegawa@gigaphoton.com