2011 International Symposia on Extreme Ultraviolet Lithography and Lithography Extensions におけるギガフォトンの発表予定

ギガフォトンは、10月17日(月)~10月21日(金)に米国フロリダ州マイアミのJWマリオットマーキーズマイアミで開催される「2011 International Symposia on Extreme Ultraviolet Lithography and Lithography Extensions」で次の論文発表を行います:

■ プレゼンテーション発表 10月17日(月)、11:45 - 12:05

Development of LPP-EUV Source for HVM EUVL
Author(s): Junichi Fujimoto, Hiroaki Nakarai, Tsukasa Hori, Satoshi Tanaka, Yukio Watanabe, Yasufumi Kawasuji, Takeshi Ohta, Tamotsu Abe, Hakaru Mizoguchi
Gigaphoton Inc., Komatsu Ltd.

■ ポスター発表  10月17日(月)、17:40 – 19:40; 10月18日(火)、14:30– 16:00

Investigation on high conversion efficiency and Tin debris mitigation for laser produced plasma EUV light source
Author(s): Toru Suzuki, Tsukasa Hori, Tatsuya Yanagida, Takayuki Yabu, Hitoshi Nagano, Yasunori Wada, Soumagne Georg, Junichi Fujimoto, Hakaru Mizoguchi
Komatsu Ltd., Gigaphoton Inc.

■ ポスター発表  10月17日(月)、17:40 – 19:40; 10月18日(火)、14:30– 16:00

Efficient EUV Emission by Double-pulse Irradiation on Tin Droplet
Author(s): Atsushi Sunahara, Katsunobu Ninishihara, Richard More, Akira Sasaki, and Tsukasa Hori, Junichi Fujimoto, Hakaru Mizoguchi
Institute for Laser Technology, Japan, Institute of Laser Engineering, Osaka Univ., Lawrence Berkley National Lab, USA,
JAEA Kansai Advanced Photon Research Institute, Japan, Komatsu Ltd., Gigaphoton Inc.

■ プレゼンテーション発表 10月20日(木)、14:25-14:50

Performance of Bandwidth Tuning Laser for Focus Drilling
Author(s): Takahito Kumazaki, S. Tanaka, H. Tanaka, Y. Watabe, S. Matsumoto, T. Matsunaga, J. Fujimoto
Gigaphoton Inc.