「ギガフォトンセミナー」開催

SEMICON JAPAN 2008にあわせて、プライベートセミナーを開催します。今回は、「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」をテーマに、国外大手デバイスメーカーのトップ技術者の方を講師にお迎えし、リソグラフィ技術の最前線についてお話いただくほか、ギガフォトンがご提案する技術面・製品面でのソリュー ションをご紹介します。

 

日 時 2008年12月5日(金)、15:00~17:00 (17:00~夕食及び歓談)
会 場 東京ベイ幕張「幕張ホール」
テーマ 「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」

 

プログラム(同時通訳あり)
15:00-15:15 「開催の挨拶」ギガフォトン株式会社 代表取締役社長 渡辺裕司
15:15-15:45 Innovation of a Lithography Technology for Next Generation
株式会社東芝セミコンダクター社、プロセス技術推進センター、
半導体プロセス開発第二部
部長 工学博士 東木達彦
15:45-16:15 The New Lithography Material
Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor Business
Senior Engineer
Dr Yi Shiyong
16:15-16:40 LPP-EUV光源の研究開発の現状と将来
ギガフォトン株式会社 開発部
担当部長 遠藤 彰
16:40-17:00 ギガフォトンDUVレーザロードマップ
ギガフォトン株式会社
マーケティング室
室長 榎波 龍雄
17:00 - 会食

セミナーお問い合わせ
ギガフォトン株式会社 営業本部第一営業部 担当 : 松井 優達
TEL: 0285-28-8415 FAX: 0285-28-8439
E-mail: yuutatsu_matsui@gigaphoton.com

 

「SPIE Advanced Lithography 2008」で論文発表、出展

ギガフォトンは、2月24日(日)~2月29日(金)に開催される「SPIE Advanced Lithography 2008」(会場: 米サンノゼ・コンベンション・センター、サンノゼマリオットホテル)で 次の論文発表を行います(ギガフォトンが参画しているEUVAの発表も含まれています):

■ 論文発表 2月26日(火)、4:50 PM - 5:10 PM

CO2 laser-produced Sn-plasma source for high-volume manufacturing EUV lithography (Paper Presentation)
Paper 6921-29 of Conference 6921
Authors(s):  Akira Endo, Yoshifumi Ueno, Georg Soumagne, Masaki Nakano, Hiroshi Komori, Hideo Hoshino, Takashi Suganuma, Takayuki Yabu, Takeshi Asayama, Krzysztof Nowak, Masato Moriya, Hiroshi Someya, Tamotsu Abe, Hakaru Mizoguchi, Akira Sumitani, Koichi Toyoda, Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (Japan)

■ 論文発表・ポスター展示、2月28日(木)、 6:00 PM - 8:00 PM

Reliable high-power injection locked 6kHz 60W laser for ArF immersion lithography (ポスター展示) 
Paper 6924-198 of Conference 6924
Authors(s):  Takahito Kumazaki, Ryoichi Nohdomi, Hiroaki Nakarai, Takashi Matsunaga, Kouji Kakizaki, Junichi Fujimoto, Hakaru Mizoguchi, Gigaphoton Inc. (Japan)

High-power and high-energy stability injection lock laser light source for double exposure or double patterning ArF immersion lithography (論文発表) 
Paper 6924-199 of Conference 6924
Authors(s):  Masaya Yoshino, Hiroaki Nakarai, Takashi Matsunaga, Junichi Fujimoto, Ryoichi Nohdomi, Kouji Kakizaki, Taku Yamazaki, Hakaru Mizoguci, Gigaphoton Inc. (Japan)

Magnetic debris mitigation of a CO2 laser-produced Sn plasma

Paper 6921-113 of Conference 6921
Author(s): Yoshifumi Ueno, Georg Soumagne, Masato Moriya, Takashi Suganuma, Takayuki Yabu, Tamotsu Abe, Hirosh Komori, Akira Endo, Akira Sumitani, Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (Japan)

Sn-droplet target development for laser-produced plasma EUV-light source  
Paper 6921-114 of Conference 6921
Author(s): Masaki Nakano, Takayuki Yabu, Hiroshi Someya, Tamotsu Abe, Georg Soumagne, Akira Endo, Akira Sumitani, Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (Japan)

LPP EUV-light source employing high-power CO2 laser  
Paper 6921-115 of Conference 6921
Author(s): Hideo Hoshino, Takashi Suganuma, Tamotsu Abe, Takeshi Asayama, Krzysztof Nowak, Masato Moriya, Akira Endo, Akira Sumitani, Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (Japan)

 

編集者各位:ギガフォトンは、SPIE Advanced Lithography 2008において、出展を予定しています。ギガフォトン及び同社の技術と製品に関する詳細につきましては、小間番号115 にお立ち寄りください。