SEMICON JAPAN 2007出展にあわせて、プライベートセミナーを開催します。今回は、「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」をテーマに、国外大手デバイスメーカーのトップ技術者の方を講師にお迎えし、リソグラフィ技術の最前線についてお話いただくほか、ギガフォトンがご提案する技術面・製品面でのソリュー ションをご紹介します。

 

日　時	2005年12月7日(金)、15:00～17:00 (17:00～夕食及び歓談)
会　場	幕張東京ベイ幕張「幕張ホール」
テーマ	「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」

 

プログラム(同時通訳あり)
15:00-15:15	「開会ごあいさつ」ギガフォトン株式会社　代表取締役社長　渡辺裕司
15:15-15:45	東芝のリソグラフィ戦略と露光光源への要求 株式会社東芝セミコンダクター社、プロセス技術推進センター、 半導体プロセス開発第二部 部長　工学博士　東木達彦
15:45-16:15	EUVの現状 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor Business Senior Engineer Dr Goo, Doohoon
16:15-16:40	EUV光源の現状 LPP光源開発を中心として光源研究室長 EUVA 住谷明
16:40-17:00	ギガフォトンDUVレーザロードマップ ギガフォトン株式会社 マーケティング室 井上宏俊
17:00 -	夕食及び歓談

セミナーお問い合わせ
ギガフォトン株式会社 営業本部第一営業部　担当: 松井　優達
TEL: 0285-28-8415 FAX: 0285-28-8439