「SPIE Advanced Lithography 2007」で論文発表、出展

ギガフォトンは、2月25日(日)~3月2日(金)に開催される「SPIE Advanced Lithography 2007」(会場: 米サンノゼ・コンベンション・センター、サンノゼマリオットホ テル)で 次の論文発表を行います。(ギガフォトンが参画しているEUVAの発表も含まれて います)

■ 論文発表 2月28日(水)、8:00 am - 8:20 am、Session 6

Laser-produced EUV light source development for HVM, A. Endo, H. Hoshino, T. Ariga, T. Miura, Y. Ueno, M. Nakano, T. Asayama, H. Komori, G. Soumagne, H. Mizoguchi, A. Sumitani, K. Toyoda, Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (Japan) [6517-23]

■ ポスター展示 3月1日(木)、5:30 pm - 8:00 pm

Reliable high-power injection locked 6kHz 60W laser for ArF immersion lithography, H. Watanabe, S. Komae, R. Nohdomi, T. Yamazaki, H. Nakarai, J. Fujimoto, Gigaphoton Inc. (Japan); T. Matsunaga, K. Kakizaki, Komatsu Ltd. (Japan); H. Mizoguchi, Gigaphoton Inc. (Japan) [6520-111]
CO2 laser and Sn-droplet target development for EUVL, A. Endo, H. Hoshino, T. Ariga, T. Miura, Y. Ueno, M. Nakano, T. Asayama, H. Komori, G. Soumagne, H. Mizoguchi, A. Sumitani, K. Toyoda, Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (Japan) [6517-122]
Characterization of various Sn targets with respect to debris and fast ion generation, Y. Ueno, H. Hoshino, T. Ariga, T. Miura, M. Nakano, H. Komori, G. Soumagne, A. Endo, H. Mizoguchi, A. Sumitani, K. Toyoda, Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (Japan) [6517-123]
Small field exposure tool (SFET) light source, T. Abe, T. Suganuma, M. Moriya, T. Yabu, T. Asayama, H. Someya, Y. Ueno, G. Soumagne, A. Sumitani, H. Mizoguchi, Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (Japan) [6517-124]

■ 論文発表 3月2日(金)、11:35 am - 11:55 am、Session 15

Ultra-narrowed injection lock laser light source for higher NA ArF immersion lithography tool, M. Shimbori, Ushio Inc. (Japan); T. Matsunaga, T. Suzuki, K. Kakizaki, Komatsu Ltd. (Japan); S. Tanaka, M. Yoshino, Gigaphoton Inc. (Japan); T. Kumazaki, S. Nagai, Y. Kawasuji, H. Umeda, Komatsu Ltd. (Japan); H. Nagano, Y. Sasaki, Ushio Inc. (Japan); H. Taniguchi, H. Mizoguchi, Gigaphoton Inc. (Japan) [6520-75]

 

また、 最新鋭ArFエキシマレーザGT61A を始めとする、主力製品のプレゼンテーション展示を行う予定です(小間番号番号200)。