「ギガフォトンセミナー」に開催

SEMICON JAPAN 2006出展にあわせて、プライベートセミナーを開催します。今回は、「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」をテーマに、国外大手デバイスメーカーのトップ技術者の方を講師にお迎えし、リソグラフィ技術の最前線についてお話いただくほか、ギガフォトンがご提案する技術面・製品面でのソリュー ションをご紹介します。

 

日 時 2005年12月8日(金)、15:00~17:00 (17:00~夕食及び歓談)
会 場 幕張東京ベイ幕張「幕張ホール」
テーマ 「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」

 

プログラム(同時通訳あり)
15:00-15:20 「開会ごあいさつ」 ギガフォトン株式会社 代表取締役社長 渡辺裕司
15:20-15:50 「32nm Lithography技術における展望」 Dr. SHIN JAN GHO, Senior Engineer, Memory Division Fab Process Development Team, Semiconductor Business, Samsung Electronics Co., Ltd.
15:50-16:15 「ArFレーザ最新技術と製品ロードマップ」 ギガフォトン株式会社 取締役 溝口 計
16:15-16:40 「EUV光源の現状」 EUVA 光源開発室長 住谷 明
16:40-16:55 「レーザダウンタイム低減に向けてファブ稼働率向上への貢献」 ギガフォトン株式会社 マーケティング室 高久 賢次
17:00 - 夕食及び歓談

セミナーお問い合わせ
ギガフォトン株式会社 営業本部第一営業部 担当: 松井 優達
TEL: 0285-28-8415 FAX: 0285-28-8439