量産450 mmリソグラフィプロセスに対するギガフォトンの最先端高出力レーザーGT64Aの有効性を実証する重要な試金石

ニューヨーク州アルバニー、栃木県小山市; 2014年2月17—リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸仁、www.gigaphoton.com)は、本日同社の主要製品である高出力ArF液浸レーザー「GT64A」が、ニューヨーク州アルバニーのニューヨーク州立大学(SUNY)ナノスケール理工学部(CNSE)に本部を置く、グローバル450 mmコンソーシアム(G450C)にて、初の450 mm ArF液浸リソグラフィスキャナー光源として使用されることになったと発表しました。このレーザーはCNSE内のG450Cの施設での技術デモンストレーションと同様に、G450Cの施設内外での開発及び試験に使用されることになります。GT64AのCNSEへの搬入は2015年4月に予定されています。

G450Cは、450 mmウェーハサイズへの移行を容易にするために2011年9月にニューヨーク州のアンドリュー・M・クオモ知事によって発表された官民共同の協力団体であり、インテル、IBM、グローバルファウンドリーズ、サムスン、およびTSMCがCNSEのメンバーとなっています。新しい450 mm用クリーンルームはNanoFab Xtension (NFX)拡張施設内のCNSEのアルバニーナノテク複合棟に設置されています。

 GT64Aは、非常に高いレーザー発振効率レベルを有し、450 mmウェーハの製造用途におけるマルチパターニングのために最大120 Wの出力を達成することができます。また光エネルギー出力は顧客のプロセスに基づいて自動的に最適なレベルに調整でき、大幅に向上した重ね合わせ精度、クリティカルディメンション制御、およびラインエッジラフネスの低減と組み合わせて、非常に安定したエネルギー、スペクトル幅、波長、ビーム形状を実現します。これらはすべて、マルチパターニング ・リソグラフィにとって非常に重要な要素であり、GT64Aはそれらを全て兼ね備えています。さらに、GT64Aは製品コンセプトとして環境に優しいことに重きを置いており、電気、ガス、冷却(設備)リソースの消費およびコストを最小限にしています。

 CNSE製造イノベーション部門の部長で、G450CのゼネラルマネージャーであるPaul Farrar Jr.氏は、「アンドリュー・クオモ知事のリーダーシップとビジョンのもと、ニューヨーク州は、450 mmウェーハ技術にとって重要な産業進化のハブとして確固たる地位を確立しています。我々は、ギガフォトン社と緊密に連携し、同社の技術と能力を活かして450 mm技術への重要な移行を可能にする一翼を担うことを楽しみにしています」とコメントしています。

 ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの都丸仁氏は、次のように述べています。「G450Cによって進められる重要な革新的事業に参加する機会を得て、我々は非常に興奮しています。これは、健全な大量生産環境とロードマップを維持するために必要な、製品、サービス、及び技術ソリューションを長年にわたって提供してきたギガフォトンが、新たに成し遂げた重要な成果です。私達は今後もEcoPhoton™プログラムによる環境への影響を最小限にするための技術と、それを含む先進リソグラフィ技術の研究開発への投資を続けていく所存です」。

G450Cについて

G450Cは、ニューヨーク州(CNSE)、インテル、TSMC、サムスン、IBM、グローバルファウンドリーズから成る官民パートナーシッププログラムで、450 mmウェーハへの協調移行を可能にするために費用効果の高い試験ウェーハの製造インフラ、機器試作品、大量のツールを開発しています。このプログラムはCNSEが持っている能力を活用して包括的産業エコシステムの共同開発活動および支援を行います。さらなる情報については、www.g450c.orgをご覧ください。

ギガフォトンについて

2000年に設立されて以来、ギガフォトンはアジア全体、米国およびヨーロッパ地域の主要半導体チップメーカーによって使用されるユーザーフレンドリな、高性能DUVレーザー光源を開発、供給してきました。

 ギガフォトンの、特許を取得した革新的技術LPP EUVソリューションは、費用効果と生産性に優れたリソグラフィ光源の大量生産において先導的役割を果たしています。グローバルなビジネス展望を持って、ギガフォトンは、研究開発から製造までの事業のすべての局面においてエンドユーザーのニーズに焦点をあて、業界最高の信頼性と世界水準の顧客サポートでリソグラフィ光源を供給する世界No.1企業になるよう努力しています。詳細は、www.gigaphoton.comをご覧ください。

寺嶋 克知

ギガフォトン株式会社

経営企画部

TEL: 0285-28-8410

Eメール: katsutomo_terashima@gigaphoton.com

久永 直人

ギガフォトン株式会社

営業部

TEL: 0285-28-8415

Eメール: naoto_hisanaga@gigaphoton.com

Marking an important step in demonstrating the capability of Gigaphoton’s most advanced high-power GT64A laser for high-volume-production 450mm lithography processes

Albany, New York and Oyama, Japan; February 17, 2014 — Gigaphoton Inc., a major lithography light source manufacturer, announced today that the company’s flagship high-power ArF Immersion Laser (GT64A) will be used by the Global 450 Consortium (G450C), headquartered at SUNY’s College of Nanoscale Science and Engineering (CNSE) in Albany, New York, as the light source for its first 450mm ArF Immersion lithography scanners. The laser will be used for both off-site and on-site development and testing, as well as technology demonstrations at CNSE’s G450C facility. Delivery of the laser to CNSE is expected in April 2015. 

G450C is a public-private partnership announced by New York Governor Andrew M. Cuomo in September 2011 to facilitate the 450mm wafer size transition. G450C is spearheaded by CNSE in partnership with Intel, IBM, GLOBALFOUNDRIES, Samsung and TSMC. The new 450mm cleanroom is located at CNSE’s Albany NanoTech Complex within the NanoFab Xtension (NFX) expansion. 

The GT64A, with its extremely high laser efficiency levels, can achieve a power output of up to 120W for multi-patterning in 450mm wafer production applications. The light energy output can be automatically adjusted to optimum levels based on each customer’s process. The GT64 A incorporates a highly stable energy, spectral bandwidth, wavelength, and beam profile, combined with greatly improved overlay accuracy, critical dimension control, and minimization of line-edge roughness – all of which are extremely important for multi-patterning lithography. Furthermore, the GT64A’s product concept relies heavily on eco-friendliness, minimizing the consumption and cost of electricity, gas, and cooling (facilities) resources.

 Paul Farrar, Jr., CNSE Vice President for Manufacturing Innovation and General Manager of G450C, said, “Under the leadership and vision of Governor Andrew Cuomo, New York is firmly established as the hub for the critical industry evolution to 450mm wafer technology. We look forward to working closely with Gigaphoton Inc., and to utilizing its technology and capabilities to help enable the important transition to 450mm technology.”

 “We are very excited by this opportunity to be a part of the critical and ground-breaking work led by G450C,” said Hitoshi Tomaru, President and CEO of Gigaphoton. “This represents yet another important achievement in Gigaphoton’s long-standing commitment to offering the products, services, and technical solutions necessary to sustain a healthy, high-volume manufacturing environment and roadmap. We are committed to continuing to invest in the research and development of advanced lithography technologies, including technologies for minimizing environmental impact through our EcoPhoton™ program.”

 About G450C

The G450C is a public-private partnership program comprising New York State (CNSE), Intel, TSMC, Samsung, IBM and GLOBALFOUNDRIES that is developing a cost-effective test wafer fabrication infrastructure, equipment prototypes and high-volume tools to enable a coordinated industry transition to 450mm wafers. The program uses the capabilities established at CNSE for joint development activities and support of a comprehensive industry ecosystem.  Additional information can be found at www.g450c.org.

 About Gigaphoton

Since its founding in 2000, Gigaphoton has developed and delivered user-friendly, high-performance DUV laser light sources used by major semiconductor chipmakers in the Pan-Asian, US and European regions.

 Gigaphoton’s patented, innovative LPP EUV technology solutions lead the way to cost-effective, highly productive lithography sources for high-volume production. With a global business outlook, Gigaphoton strives to be the world’s number-one lithography light source provider, focusing on end-user needs in every phase of its business, from research and development to manufacturing, to best-in-class reliability and world-class customer support. For more information please visit www.gigaphoton.com

 Media Contacts: 

Katsutomo Terashima

Corporate Planning Division

Gigaphoton Inc.

P: +81-285-28-8410

E: katsutomo_terashima@gigaphoton.com

 

Naoto Hisanaga

Sales Division

Gigaphoton Inc.

P: +81-285-28-8415

E: naoto_hisanaga@gigaphoton.com