EUVリソグラフィ装置用のLPP光源として量産レベルの出力への大きな一歩を踏み出す

栃木県小山市；　2014年6月30日 — リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社は、現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ（LPP）光源のプロトタイプにおいて、最大出力92 Wを発光効率（CE）4.2%で達成することに成功したと本日発表しました。

今回のEUV発光は、Snターゲット（すずのドロップレット）に対して、固体プリパルスレーザーと炭酸ガス（CO２）レーザーを組み合わせて最適化し照射することによって達成されました。今後、同社では量産対応EUVスキャナーの実現に向けて、2014年末までに150 Wの出力、最終的には250 Wを目指し更なる研究開発に取り組んでいます。

この最大出力92 Wを達成した独自技術によるプロトタイプLPP光源は、20 µmのすず（Sn）ドロップレットを、固体レーザーによるプリパルスとCO₂レーザーによるメインパルスで照射することでEUVを発光させ、また、高出力な超電導磁石とH₂ガスを用いたSnエッチングを組み合わせることで、照射によるSnデブリの発生を抑制しています。　また、コレクターミラーの寿命を最大限に延ばすために、超伝導磁石で強力な磁場を発生させ、すずドロップレットの熱膨張から発生する不要なデブリを、スズキャッチャーへ導いて除去します。

ギガフォトン代表取締役社長兼CEOである都丸仁氏は、次のようにコメントしています。　「このEUV光源出力92 Wの達成は、市場が要求する高出力、低ランニングコストで安定稼働が可能なLPP光源の実現に向けて、ユニークな技術開発を着実に進めてきた成果です。ギガフォトンの高度な技術力と量産に向けたLPP光源の開発努力が、この量産用EUVリソグラフィスキャナーの開発を加速し、次世代露光技術としてのEUVスキャナー導入の機運を一層高めるものと確信しております」。

*本件は、独立行政法人「新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）」の助成プログラムの成果を活用しています。

ギガフォトンについて

２０００年に設立されて以来、ギガフォトンはアジア全体、米国およびヨーロッパ地域の主要半導体メーカーによって使用されるユーザーフレンドリーな、高性能DUVレーザー光源を開発、供給してきました。

ギガフォトンの、特許を取得した革新的技術であるLPP EUVソリューションは、費用対効果と生産性に優れた量産向けEUVスキャナーの実現に向けて先導的役割を果たしています。グローバルなビジネス展望を持って、ギガフォトンは、研究開発から製造までのあらゆる事業分野においてエンドユーザーのニーズに焦点をあて、業界最高の信頼性と世界水準の顧客サポートでリソグラフィ光源を供給する世界No. 1企業になるよう努めております。詳細は、http://www.gigaphoton.comをご覧ください。

 報道関係者向けの連絡窓口

Taking a big step toward achieving HVM-level output as
an LPP light source required for EUV scanners

OYAMA, JAPAN; June 30, 2014 — Gigaphoton Inc., a major lithography light source manufacturer, announced today that it has successfully achieved 92 W EUV light source output at 4.2 percent conversion efficiency (CE) on its prototype laser-produced plasma (LPP) light sources for EUV lithography scanners.

The 92 W output was achieved by irradiating an Sn target (tin droplet) with a solid-state pre-pulse laser and a CO₂ laser after combining and optimizing these lasers. Gigaphoton remains committed to continuing its R&D efforts, targeting 150 W output by the end of 2014 and ultimately up to 250 W output for high-volume manufacturing. 

The prototype LPP light source that has achieved 92 W output with Gigaphoton’s unique technologies allows emission of EUV by radiating ultra-small tin (Sn) droplets of less than 20 μm in diameter with the solid-state pre-pulse laser and main pulse CO₂ laser. In addition, a combination of a high-output superconducting magnet and Sn etching allows suppression of Sn debris caused by radiation. To maximize the life of the collector mirror, a high-output superconducting magnet generates a powerful magnetic field to guide unwanted debris caused by thermal expansion of the tin droplets towards the tin catcher.

“The achievement of 92 W output with our EUV light source is a fruit of the steady-yet-unique R&D efforts that we have made to achieve development of higher output, stable, and lower CoO LPP light sources,” said Hitoshi Tomaru, President and CEO of Gigaphoton, “I believe that Gigaphoton’s expertise and efforts to develop the LPP light source that accelerates development of EUV scanners for HVM will further encourage the industry to introduce EUV scanners as the next-generation lithography tools.”

* This utilizes the achievement of a program subsidized by NEDO（New Energy and Industrial Technology Development Organization）

About Gigaphoton

Since it was founded in 2000, Gigaphoton has developed and delivered user-friendly, high-performance DUV laser light sources used by major semiconductor manufacturers in the Pan-Asian, US and European regions.

Gigaphoton’s patented, innovative LPP EUV technology solutions lead the way to cost-effective, highly productive lithography light sources for high-volume production. With a global business outlook, Gigaphoton strives to be the world’s number-one lithography light source provider, focusing on end-user needs in every phase of its business, from research and development to manufacturing to best-in-class reliability and world-class customer support. Visit http://www.gigaphoton.com.

 Media Contacts