OYAMA, Japan, January 31, 2007 – Gigaphoton Inc., a major lithography light source manufacturer for the global semiconductor industry, announced today that it has completed construction of a new building at its headquarters campus. Slated to open February 1, this new facility will house a state-of-the-art, Class-1,000 cleanroom that features expanded research and development capabilities and laser light source maintenance training for field service engineers. With training and R&D transitioned to the new facility, the existing building will now be fully dedicated to production of Gigaphoton’s advanced laser systems. This will enable Gigaphoton to nearly double its manufacturing capability as early as April.
In addition to the expanded cleanroom area for research and development activities, the training facilities have increased significantly. This expansion investment will allow Gigaphoton to further augment its already high-quality customer support capabilities to address its growing installed base. The new facility will also house Gigaphoton’s customer support administrative functions, as well as a spare parts warehouse.
Known for their extremely high reliability and lower cost of ownership, Gigaphoton’s laser light sources are widely used by most of the world’s major chipmakers. Over the past four years, Gigaphoton has dramatically increased its market share—capturing 30 percent of the global market for laser light sources (based on number of units sold) in 2006, according to company data. This is due to its popular “G41K” series krypton fluoride (KrF) laser units, which are installed in the mass-production factories of the world’s leading semiconductor manufacturers, as well as its GigaTwin series, a twin-chamber argon fluoride (ArF) laser. Gigaphoton reports that the number of GigaTwin units shipped has doubled every 6 months since the product’s introduction in 2005.
According to Dr. Yuji Watanabe, president and representative director of Gigaphoton, increased demand for its advanced light sources led the company to expand its existing facilities. “Gigaphoton’s high-quality, extremely reliable, and high-uptime products enable chipmakers’ fabs to run at benchmark levels. As a result, customers continue to turn to us as they realize the benefits afforded by our advanced lithography light source solutions, for which we provide superior service and support. All of this, together with our newly expanded production capabilities, will position us to capture a larger share of the excimer light source market over the next few years.”
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About Gigaphoton
Gigaphoton Inc. was founded in 2000 as a joint venture of Komatsu Ltd., the world’s No. 2 construction machinery manufacturer, and Ushio Inc., the world’s No. 1 lithography lamp manufacturer. Since then, Gigaphoton has been developing and marketing user-friendly, highly innovative laser light sources that make a great contribution to lithography technology so as to meet the stringent requirements of the ultra-fine circuit patterns of the gigabit era, and is delivering them to major lithography tool suppliers in the global semiconductor industry. As the world’s no. 2 excimer laser light source manufacturer, Gigaphoton holds a strong position in Asian market, including Japan, while also continuing to enjoy rapid growth in the U.S. and European markets. More information about Gigaphoton can be found on the company’s website at:www.gigaphoton.com
The company name, logo, and designations GT40A, GT60A, and GT61A are trademarks of Gigaphoton, Inc. The content of this release may be revised without prior notice. Gigaphoton shall not be liable for updating or announcing a correction if the content of this release is changed for any reason in the future.
© 2007 Gigaphotonギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、本社事業所(栃木県小山市)に建設した新棟内のクリーンルームが完成し、2月1日より稼動を開始すると発表しました。新クリーンルームには、同事業所内の既存工場から研究・開発施設を移設・拡充するとともに、レーザ装置のメンテナンストレーニングのためのスペースを併設します。これにより、既存工場を完全に生産活動に振り向け、生産能力を現在の1.5倍以上に高める計画です。
新棟には、研究・開発及びトレーニング用のクリーンルームをはじめ事務所、パーツ倉庫が設置されます。拡充された研究・開発用クリーンルームに加えてトレーニング施設は従来の5割以上拡充し、増大する稼動レーザ装置へ高品質なサポートを提供するためのフィールドサービスエンジニア教育のためのインフラを整備します。
ギガフォトンのレーザ装置は、極めて高いその信頼性・経済性により、世界各地のほとんどの半導体メーカーで採用されています。過去数年にわたりマーケットシェアを飛躍的に伸ばしており、2006年には販売台数ベースの世界シェアが30%を超えました(注)。主力商品であるKrFレーザG41Kシリーズが世界各地の半導体メーカーの量産工場で採用されていることに加え、2005年より市場投入が始まったツインチャンバのArFレーザ、GigaTwinシリーズの出荷実績も出荷開始以来半年毎に2倍以上のペースで拡大しています。
クリーンルーム新設について、ギガフォトン社長の渡辺裕司はこうコメントしています。「工場の稼働率向上に貢献することを主眼とした高品質・高信頼性の製品作りが幅広い支持を受けており、ますます多くの引き合いを頂いています。今後も更なる成長を続けるため、生産能力の増強を決断しました。」
(注) ギガフォトン独自調査による
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ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。
社名、ロゴは、株式会社ギガフォトンの商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。©2007 ギガフォトン
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ギガフォトン株式会社 企画管理部 佐藤 日出一
TEL: 0285-28-8410 Email: hideichi_satou@gigaphoton.com
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