OYAMA, JAPAN: July 9, 2012 — Gigaphoton, Inc., a major lithography light source manufacturer, has announced that the company will begin shipping “s” series hardware and software products in the 3rd quarter of 2012.  This will provide for further enhancement of lithography exposure performance and significant, additional reduction of the operating costs and downtime of the GT6xA ArF excimer laser series for multi-pattern immersion lithography scanners.

The “s” series functions include four types of technologies: sMPL creating greater depth of focus with precise spectrum control using a newly developed line-narrowing module (LNM) and dedicated software; sGRYCOS lowering operating costs with a newly developed chamber; sTGM reaching higher uptime with a combination of a newly developed absolute wavelength calibration module (AWM) and control software; andsMONITORING ensuring high performance stability with sophisticated monitoring software. In the semiconductor industry where fierce price competition is common, it is essential to enhance equipment performance and reduce operating costs and downtime. Gigaphoton’s “s” series functions perfectly meet these requirements.

The “s” series functions are included on the GT63A model as standard features*1 and are available as upgrades for the GT60A*2, GT61A, and GT62A.

“It is very important that the excimer laser used for lithography scanners enhance exposure performance and throughput as well as ensure reliability. But, satisfying these requirements at lower cost is equally important. We will start shipping the “s” series functions to match these needs. I believe this will create additional value for our customers. We at Gigaphoton will continue to respond to our customers’ trust with leading-edge technologies and support teams,” said Hitoshi Tomaru, president of Gigaphoton.


About Gigaphoton
Since its founding in 2000, Gigaphoton has developed and delivered user-friendly, high-performance DUV laser light sources used by major semi-conductor chipmakers in the Pan-Asian, US and European regions.
Gigaphoton’s patented, innovative LPP EUV technology solutions will lead the way to cost-effective, highly productive lithography sources for high-volume production. With a global business outlook, Gigaphoton strives to be the world’s number-one lithography light source provider, focusing on end-user needs in every phase of its business, from research and development to manufacturing to best-in-class reliability and world-class customer support.
Visit http://www.gigaphoton.com/e/index.html.


*1)  sMPL is provided as an option.

*2 ) sGRYCOS is not compatible with the older GT60A model.ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸 仁)は、同社の液浸露光装置向けArFエキシマレーザ ー「GT6xA」シリーズ向けに、露光性能の向上をはじめランニングコストとダウンタイムの大幅な低減を可能とする新技術“s”シリーズファンクションを、ソフトウェア及びハードウェアアップグレード製品として実現し、2012年第3四半期(2012年7月~9月)に出荷開始すると発表しました。

”s“シリーズファンクションは、ギガフォトンが独自開発した深い 焦点深度を実現するスペクトル制御技術(sMPL)、低ランニングコストを実現するチャンバー技術(sGRYCOS)、高稼働率を実現するガス制御技術(sTGM)、高安定性を実現するモニタリング技術(sMONITORING)の4種類の技術です。価格競争の激しい半導体産業において、装置性能向上、ランニングコストとダウンタイムの削減はお客様のビジネスにとって極めて重要です。ギガフォトンは、”s“シリーズファンクションの出荷開始により、お客様の装置性能向上、ランニングコスト削減への要望にお応えします。


ギガフォトン代表取締役社長の都丸仁はこうコメントしています。「露光用レーザ ーにとって、高い技術に裏付けられた露光性能の向上や高スループット化、信頼性の確保のみならず、それらを低コストで実現させて行く事が極めて重要です。この度、ギガフォトンは露光性能向上と共にランニングコストとダウンタイムを低減する“s”シリーズファンクションの出荷を開始します。これにより、お客様に更なる価値を届ける事ができると確信しております。当社は、今後も高い技術とサポート力でお客様の信頼に応えてまいります。」


  • sMPL
  • sTGM
    実現手段: PCベースのモニタリングソフトウェア

注:すべて、ギガ フォトンのフィールドサービスによる取り付け(調整)が必要です。



ギガフォトン株式会社(http://www.gigaphoton.com)は2000年の設立以来、世界トップクラスの露光用エキシマレーザ ーメーカーとして、日本を含むアジア市場、欧米市場の大手半導体メーカー各社に製品が採用されています。また、次世代のリソグラフィ技術として注目されているEUV光源に関しても、ギガフォトンの革新的な独自技術「LPP EUV」ソリューションは、次世代デバイスの量産での低コスト化、高生産化を実現する技術として、世界中の半導体メーカーから高い注目を集めています。ギガフォトンは、世界一のリソグラフィ光源メーカーを目指し、研究開発から製造・顧客サポートに至るすべての分野で常に顧客の要求に最優先で取り組んでいます。

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