ギガフォトン、ArFエキシマレーザー「GT6xA」シリーズ向け 「“s”シリーズファンクション」を出荷開始

ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸 仁)は、同社の液浸露光装置向けArFエキシマレーザ ー「GT6xA」シリーズ向けに、露光性能の向上をはじめランニングコストとダウンタイムの大幅な低減を可能とする新技術“s”シリーズファンクションを、ソフトウェア及びハードウェアアップグレード製品として実現し、2012年第3四半期(2012年7月~9月)に出荷開始すると発表しました。

”s“シリーズファンクションは、ギガフォトンが独自開発した深い 焦点深度を実現するスペクトル制御技術(sMPL)、低ランニングコストを実現するチャンバー技術(sGRYCOS)、高稼働率を実現するガス制御技術(sTGM)、高安定性を実現するモニタリング技術(sMONITORING)の4種類の技術です。価格競争の激しい半導体産業において、装置性能向上、ランニングコストとダウンタイムの削減はお客様のビジネスにとって極めて重要です。ギガフォトンは、”s“シリーズファンクションの出荷開始により、お客様の装置性能向上、ランニングコスト削減への要望にお応えします。

”s”シリーズファンクションは、GT63Aシリーズに標準搭載*1)されるほか、GT63Aとプラットフォームが共通なGT60Aシリーズ*2)、GT61Aシリーズ、GT62Aシリーズにもアップグレードキットを用意しています。

ギガフォトン代表取締役社長の都丸仁はこうコメントしています。「露光用レーザ ーにとって、高い技術に裏付けられた露光性能の向上や高スループット化、信頼性の確保のみならず、それらを低コストで実現させて行く事が極めて重要です。この度、ギガフォトンは露光性能向上と共にランニングコストとダウンタイムを低減する“s”シリーズファンクションの出荷を開始します。これにより、お客様に更なる価値を届ける事ができると確信しております。当社は、今後も高い技術とサポート力でお客様の信頼に応えてまいります。」

Sシリーズファンクションの機能と実現手段

  • sMPL
    機能:焦点深度増大
    実現手段:新開発のLNM(狭帯域化モジュール)と、それを制御するソフトウェア
  • sGRYCOS
    機能:ランニングコストとダウンタイム低減
    実現手段:新開発のチャンバー
  • sTGM
    機能:ダウンタイム低減
    実現手段:新開発のAWM(絶対波長較正モジュール)と、それを制御するソフトウェア
  • sMONITORING
    機能:安定稼働
    実現手段: PCベースのモニタリングソフトウェア

注:すべて、ギガ フォトンのフィールドサービスによる取り付け(調整)が必要です。
*1)sMPLはオプションです。
*2)GT60Aシリーズには、新開発チャンバーを搭載してもsGRYCOS機能は使用できません。

 

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ギガフォトン株式会社(http://www.gigaphoton.com)は2000年の設立以来、世界トップクラスの露光用エキシマレーザ ーメーカーとして、日本を含むアジア市場、欧米市場の大手半導体メーカー各社に製品が採用されています。また、次世代のリソグラフィ技術として注目されているEUV光源に関しても、ギガフォトンの革新的な独自技術「LPP EUV」ソリューションは、次世代デバイスの量産での低コスト化、高生産化を実現する技術として、世界中の半導体メーカーから高い注目を集めています。ギガフォトンは、世界一のリソグラフィ光源メーカーを目指し、研究開発から製造・顧客サポートに至るすべての分野で常に顧客の要求に最優先で取り組んでいます。

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