OYAMA, JAPAN: February 12, 2013 — Gigaphoton, Inc., a major lithography light source manufacturer, announced that the company received ASML acceptance and started shipment of the GT63A in January, the next-generation ArF excimer laser for multi-patterning immersion lithography scanners.
The GT63A is another step in the continuing evolution of the Gigaphoton ArF platform. With its advanced twin-chamber architecture, laser output control algorithm and beam alignment technology, the GT63A provides lithography users demonstrated world class reliability performance, superior maintenance recovery times and best-in-class module lifetimes.
The GT63A is compatible with the previously announced “s-Series” laser enhancements. These powerful GT63A features were designed in response to customers’ requirements to advance existing ArF technology for stricter performance requirements and significant operational cost reductions. These features include: sMPL(Spectrum Multi-Positioning LNM), the first customer approved spectrum control or “focus drilling” technology enabling greater depth of focus (DOF); sGRYCOS (Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System), a unique technology extending chamber module lifetimes; sTGM (Supreme Total Gas Manager), a gas management system eliminating routine chamber gas refills; and sMONITORING (Smart Monitoring), real-time information management tracking the highest laser stability in the market.
“The GT63A is another example of Gigaphoton’s continued commitment to the Semiconductor Equipment industry and support of all our scanner vendor partners. This advanced ArF immersion technology, combined with demonstrated and significant reductions in electricity, gas and facility cooling resources, has raised the bar again for laser output performance, facility cost reductions and environmental sensitivity. We look forward to continued product development and continuous improvement of our “green” initiative, EcoPhoton™, 120W DUV power and EUV source development. Gigaphoton continues to invest in these technologies to advance lithography performance.” said Mr. Hitoshi Tomaru, President and CEO of Gigaphoton, Inc.
About Gigaphoton
Since its founding in 2000, Gigaphoton has developed and delivered user-friendly, high-performance DUV laser light sources used by major semi-conductor chipmakers in the Pan-Asian, US and European regions.
Gigaphoton’s patented, innovative LPP EUV technology solutions lead the way to cost-effective, highly productive lithography sources for high-volume production. With a global business outlook, Gigaphoton strives to be the world’s number-one lithography light source provider, focusing on end-user needs in every phase of its business, from research and development to manufacturing to best-in-class reliability and world-class customer support.ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸 仁）は、同社のマルチパターニング対応液浸露光装置向け次世代ArFエキシマレーザー「GT63A」を、この1月からASML向けに出荷開始したと発表しました。
GT63Aは、ギガフォトンの進化するArFプラットフォームにおける、次なるステップです。その優れたツインチャンバー・アーキテクチャー、出力コントロールアルゴリズムとビームアライメントテクノロジーにより、GT63Aはお客様に世界トップクラスの信頼性、リカバリータイムとモジュール寿命を提供します。
GT63Aは、既にアナウンス済の”s“シリーズファンクションに対応しています。この強力なGT63Aのファンクションにより、ギガフォトンはお客様の更なるArFレーザーの装置性能向上、ランニングコスト削減への要望にお応えします。
その特徴は、既にお客様から高い評価を受けているsMPL(Spectrum Multi-Positioning LNM)：深い焦点深度を実現するスペクトル制御技術と、sGRYCOS(Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System)：低ランニングコストを実現するチャンバー技術、sTGM(Supreme Total Gas Manager)：高稼働率を実現するガス制御技術、sMONITORING(Smart Monitoring)：高安定性を実現するモニタリング技術にあります。
ギガフォトン代表取締役社長の都丸仁はこうコメントしています。「GT63Aは、ギガフォトンの継続的な半導体装置業界へのコミットメントと、露光機メーカーに対する貢献の具体的な例証です。この先進的なArFレーザーは、電気・ガス・冷却リソースの大幅な削減も可能としており、レーザーの出力性能のみならず、設備コスト削減と環境への配慮にも大きな競争力を持っています。私達は、継続的な製品開発と共に、環境負荷低減、EcoPhoton™、120W DUVパワー、EUVソースの開発にも積極的に取り組んでいます。ギガフォトンは、リソグラフィー性能の向上に向け、これらの技術に投資し続けていきます。」
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ギガフォトン株式会社（http://www.gigaphoton.com）は2000年の設立以来、世界トップクラスの露光用エキシマレーザーメーカーとして、日本を含むアジア市場、欧米市場の大手半導体メーカー各社に製品が採用されています。また、次世代のリソグラフィ技術として注目されているEUV光源に関しても、ギガフォトンの革新的な独自技術「LPP EUV」ソリューションは、次世代デバイスの量産での低コスト化、高生産化を実現する技術として、世界中の半導体メーカーから高い注目を集めています。ギガフォトンは、世界一のリソグラフィ光源メーカーを目指し、研究開発から製造・顧客サポートに至るすべての分野で常に顧客の要求に最優先で取り組んでいます。
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