ギガフォトンが次世代リソグラフィ ワークショップ(NGL2017)にて講演をします

ギガフォトンが2017年7月18-19日に開催される、次世代リソグラフィ ワークショップ(NGL2017)にて3本講演をします。皆様のお越しをお待ちしています。

『次世代リソグラフィ ワークショップ (NGL201 NGL201 7)』

http://www.somuka.titech.ac.jp/ttf/access/index.html

場所:東工大 蔵前会館(大岡山)

ギガフォトン講演予定

<7月18日>

1)13:30 (於Kuramae Hall)

先端露光機用DUV光源に求められる性能とその性能相関関係

(営業部 大賀)

2)17:20-19:20 (於Kuramae Hall)  Poster SessionsA

ArF液浸リソグラフィ向け光源技術開発 (開発部 對馬)

<7月19日>

3)15:50 (於Kuramae Hall)

半導体量産用高出力LPP-EUV光源の開発 (CTO溝口)