GT65A

サブ10nmノード向け液浸露光機対応、生産性向上へ貢献するArFエキシマレーザー

 

インジェクションロック方式を採用したプラットフォームの7世代目にあたるGT65Aは、最先端技術を導入し、スペクトル幅(E95)可変および安定性向上による「露光性能改善」、モジュール寿命延長による「高稼働率」、ヘリウムフリーによる「環境負荷軽減」により、お客様のさらなる生産性(ウェハアウトプット)向上を実現しています。


主な特長

1. スペクトル幅(E95)可変
お客様の様々な条件・用途に合わせ、スペクトル幅の変更が可能となります。使用例として、異なる世代の露光機におけるコントラスト性能の差をスペクトル幅で補正することが可能です。また、スペクトル幅可変機能によりOPCの特性の装置間もしくはマスク間のマッチングを取ることも可能です*1
*1)接続される露光機により機能が異なります。

2. スペクトル幅(E95)安定性向上
スペクトル幅制御速度を、従来の20倍に向上させることに成功しました。これにより、装置稼働中におけるスペクトル幅がより安定し、クリティカルディメンションエラーの低減が可能になります。

3. モジュール寿命延長
主要モジュールの寿命を延長させることで、メンテナンス頻度のさらなる低減を実現しました。これにより、長期間にわたる装置の稼動が可能となります。

4. ヘリウムフリー
ArFエキシマレーザー稼動のために用いられるヘリウムの使用量をゼロとする技術を導入。これにより、お客様のコスト削減および環境負荷の軽減に貢献します。


主仕様*
発振波長 193 nm
平均出力 ≥60 W
パルスエネルギー 10.0 - 20.0 mJ
発振周波数 6,000 Hz
スペクトル幅(95 %エネルギー積算-E95) 0.20 – 0.45 pm
(*) 各仕様値は代表値です