• 会社情報
  • 会社概要
  • 経営実績・予測
  • 歴史
  • マネージメント・チーム
  • 地図
• 採用情報
  • 採用について
  • 社員の声
    • 大石 憲司
      (営業部)
    • 星野 奈津美
      (管理部管理課)
    • 手井 大輔
      (レーザ開発部光学技術課)
    • 新村 啓輔
      (カスタマサポート部欧米カスタマサポート部)
    • 伊藤 陽治
      (生産部製造課)
    • 小西 歩未
      (総務部人事課)
    • 山本 美奈
      (カスタマサポート部部品業務課)
  • 採用FAQ
  • 新卒採用
  • 経験者採用
• プライバシーについて
• 製品
  • 半導体リソグラフィ用エキシマレーザ
    • ArF Immersion
    • ArF Dry
    • KrF
  • その他
    • GIGANEX シリーズ
• 品質
  • 最先端工場
  • G能塾（ぎのうじゅく）
  • 信頼性向上
• 個人情報保護への取り組み
• CSR 職場環境改善プロジェクト
• 職場環境改善プロジェクト
• カスタマーポータル
  • ダッシュボード
  • プレゼン資料
  • コンタクト
  • フォーラム
  • ツール
    • Power & Gas
    • レーザ使用状況
  • アナウンス
  • 設定
• サポート
  • 保守
  • REDeeMの活用
  • トレーニング
• 技術情報
  • レーザとは
    • 1. レーザーとは
    • 2. エキシマレーザとは
  • GigaTwin Platform
    • 1. インジェクションロック技術
    • 2. インジェクションロックのメリット
    • 3. インジェクションロック方式の課題
    • 4. ツインチャンバシステム 共通プラットフォーム
  • E95とリソグラフィプロセス
    • 1. 概要
    • 2. E95の定義と影響
    • 3. E95とk1ファクターの関係
    • 4. E95の安定性改善
    • 5. E95性能変化によるバイアスの発生
  • Bandwidth Control Module
    • 1. 概要
    • 2. BCMの原理・構成
    • 3. 実機搭載時のスペクトル性能
    • 4. sMPL (Spectrum Multi-Positioning LNM) 技術
  • EUVトピックス
    • 1. EUVリソグラフィとは？
    • 2. EUVリソグラフィを巡る世界の動き
  • ディスプレイパネルのレーザアニール
    • ディスプレイパネルのレーザアニール
  • Technical Paper
• カスタマーポータルのご使用にあたって
• お問い合わせ
• リンク
• FAQ
• サイトマップ