4. sMPL (Spectrum Multi-Positioning LNM) 技術

半導体の微細化によりCDが小さくなるにつれ、コンタクトホール形成時の焦点深度(DOF)が浅くなってしまう問題が顕在化しています。ギガフォト ンはこの問題を解決するための一つの方法として、レーザのスペクトル幅を大きく可変させることでDOFを伸張させる技術を開発しました。
図10は露光シミュレータprolith v9.3を使用して、スペクトル幅を変化させた時のDOFの変化を示しています。

従来のE95=0.3 pmのスペクトル幅に対してE95=2.4 pmまでスペクトル幅を太くすることで、従来よりも4.5倍以上のDOFを確保することができる結果を得ました。

図10 スペクトル性能とDOF
図10 スペクトル性能とDOF

ギガフォトンでは、下図11に示すように、LNM内部でモードを切り替える方法を採用することで、従来のE95=0.3 pmを出力することを維持したまま、E95を2.4 pmより太くする技術を開発しました。また、その時のスペクトル波形はほぼ相似であるため、露光機のレンズ設計にも支障はありません。


図11 スペクトル可変方式と実証されたスペクトル波形

この技術は、露光機メーカー及び半導体メーカー様と共同で量産試験を実施し、その有効性は確認済みです。