2. 液晶製造用レーザアニールの課題

4K/8K製造プロセスの課題

液晶パネルの解像度は年々良くなり小型中型パネルに適用されています。しかし、大型パネルにおいては、より高解像度で、かつ低コストなものを作ることが課題となっています。
4K/8Kのパネルは2020年までに販売されると予想されていますが、大型化と低コスト化が課題です。

大面積のエキシマレーザアニール(ELA)が困難?

現在のレーザアニールにおいては、レーザビームをライン形状(ラインビーム)に形成し、材料表面をアニールする技術が主流です。この方式では、Gen8.5以上のパネルをアニールする場合、ラインビームの光学レンズ径が1.5m以上必要になってしまい、均一なビームを形成することは困難とされています。
一方、レーザのパルスエネルギーは1J~2J程度の高エネルギーが求められます。しかしエキシマレーザでは1パルス毎の高エネルギー化と高繰り返し化の両立が難しいため、スループットの向上には限界があります。また、この方式では1スキャンでGen10をアニールすることは難しく、120インチ以上のパネルを作るためには別の方法を検討する必要があります。

極小面積レーザアニール方式(MLA)

このレーザアニール方式は、パネルサイズをいくらでも大きくできる唯一の方法です。しかし、アニール装置のスループットを上げるためには、レーザパルスの高エネルギー化と高繰り返し化の両立が不可欠です。