기가포톤, 가공 장치용 KrF 레이저 G200K 출하

2019년 3월 20일

토치기현 오야마시; 2019년 2월 22일 —반도체 리소그래피 광원 제조업체인 기가포톤 주식회사(본사: 토치기현 오야마시, 대표이사 사장: 우라나카 카츠미)는 최대 출력 200W의 가공 장치용 KrF 레이저 G200K를 2019년 2월에 출하했다고 발표했습니다.

기가포톤은 반도체 리소그래피 분야에서 축적한 높은 기술력을 활용한 고신뢰성 엑시머 레이저 “GIGANEX”(기가넥스) 시리즈를 2016년에 발표, 제1탄으로 FPD 제조공정중 어닐용 KrF 레이저 GT600K를 발표했습니다. 이번에 출시한 가공 장치를 위한 KrF 레이저 G200K는 제2탄에 해당합니다. 최대 출력 200W의 G200K는 기가포톤의 레이저 성능 안정화 기술과 모듈 수명 연장 기술을 집약하여 높은 신뢰성을 실현하였으며, 고객의 요구에 부응하는 가공 장치용 레이저로 기대를 모으고 있습니다.

기가포톤 대표이사 사장인 우라나카 카츠미는 이와 같이 말하고 있습니다. ‘기가포톤의 “GIGANEX”는 우리가 오랜 기간 축적한 엑시머 레이저 기술을 반도체 리소그래피 이외의 분야에서 응용한다는 콘셉트를 바탕으로 시리즈화하고 있습니다. 이번에 제2탄인 G200K가 출하되어 제품 라인업을 확대했습니다. 기가포톤은 앞으로도 “GIGANEX”에 의한 솔루션을 제공하여 산업계에 널리 공헌해 나가겠습니다.’

 
기가포톤(Gigaphoton) 개요

기가포톤은 2000년 설립 이래 레이저 공급업체로서 반도체 제조사에 가치 있는 솔루션을 제공해왔다. 기가포톤은 초기 연구개발 단계부터 제조, 판매, 보수서비스에 이르기까지 사용자의 시각을 반영한 세계최고수준의 지원을 제공하고자 최선을 다하고 있다. 자세한 사항은 웹사이트(www.gigaphoton.com)에서 확인할 수 있다.

 
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기가포톤주식회사
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