기가포톤, 미세 어블레이션 비아 가공용 300W KrF 레이저 ‘G300K’를 출하

기존 기술을 응용한 GIGANEX 시리즈 신제품, 고출력, 고신뢰성, 저가격 모델

토치기현 오야마시; 2020년 4월 14일, 반도체 리소그래피용 광원 제조업체인 기가포톤 주식회사(본사: 토치기현 오야마시, 대표이사 사장: 우라나카 카츠미)는 반도체 제조 리소그래피용 광원 기술을 응용한 GIGANEX 시리즈의 신제품 KrF 레이저 ‘G300K’를 3월에 출하했다고 발표했습니다.

KrF 레이저 ‘G300K’는 당사의 리소그래피용 광원용 KrF 레이저의 기술을 기반으로 미세 어블레이션 등 ‘가공의 최적화’를 콘셉트로 하여 고안정성, 99% 이상의 고가동률, 고출력을 유지하면서 저가격을 실현한 모델입니다. 이에 따라 반도체 제조 백엔드 공정에서의 미세 어블레이션 비아 가공 공정의 생산성 향상과 저비용화를 서포트합니다.

여러 개의 칩으로 구성된 차세대 반도체 패키지에서는 외형 치수를 줄이는 동시에 동작 주파수나 대역폭 등을 높게 유지하는 것, 전력 효율을 높이는 것, 제조 비용을 낮게 유지하는 것 등이 요구되고 있습니다. 최근 이러한 요구를 실현시킬 패키징 기술의 미세화가 주목받고 있으며, 이를 위해서는 층간을 연결하는 비아 구멍의 미세화가 필수입니다. 그리고 이 가공을 빠르고 저렴하게 할 수 있어서 유기 절연막의 미세 어블레이션 비아 가공이 주목받고 있습니다만, 그 광원으로서 미세화에 유리한 단파장 및 고스루풋 실현과 고출력을 양립시키는 파장 248nm의 KrF 엑시머 레이저 ‘G300K’는 최적이라고 말할 수 있습니다.

기가포톤 대표이사 사장 겸 CEO 우라나카 카츠미 씨는 이렇게 말하고 있습니다. ‘GIGANEX 시리즈의 신제품 G300K는 고객의 다양한 요구를 충족시키고 생산성의 향상과 저비용화를 서포트합니다. 반도체 제조 이외의 분야에서 전개하는 GIGANEX 시리즈는 다양한 고객님으로부터 신기술 솔루션에 대한 기대를 받고 있습니다. 저희는 GIGANEX 시리즈가 앞으로도 새로운 애플리케이션에 적용되어 차세대 산업계 발전에 공헌할 수 있도록 매진하겠습니다.’

기가포톤(Gigaphoton) 개요

기가포톤은 2000년 설립 이래 레이저 공급업체로서 반도체 제조사에 가치 있는 솔루션을 제공해왔다. 기가포톤은 초기 연구개발 단계부터 제조, 판매, 보수서비스에 이르기까지 사용자의 시각을 반영한 세계최고수준의 지원을 제공하고자 최선을 다하고 있다. 자세한 사항은 웹사이트(www.gigaphoton.com)에서 확인할 수 있다.。

 

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