GT66A

새로운 테크놀로지의 요구에 부응하는 액침 노광 광원

GT66A

 

최첨단 장치 제조는 현재 무어의 법칙이 계속되고 있으며, 테크놀로지 노드의 미세화가 진행되고 있습니다. 이러한 최첨단 장치에서는 웨이퍼에 전사되는 노광 패턴 특히 EPE(Edge Placement Error) 에 대한 대응이 요구됩니다. 광원으로서 EPE에 직접적 영향을 미치는 CD LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness) 저감을 실현하여 양산 현장에서의 일드 향상을 제공합니다.

신형 액침 노광용 광원 ‘GT66A’는 신개발 광학 모듈을 통해 스펙클 콘트라스트를 30% 저감하여 LER/LWR 저감에 성공했습니다. 또한 최신 고내구성 부품을 도입하여 모듈의 유지 보수 주기를 30% 연장했습니다.이를 통해 프로세스 일드의 추가적인 개선과 광원의 가용성 향상을 실현하고 최첨단 노드 양산에서의 높은 생산성을 서포트합니다.


주요 특징

  1. 최첨단 노드에서의 생산성 개선
    신개발 광학 모듈을 통해 스펙클 콘트라스트를 30% 저감에 의한 LER/LWR의 개선을 실현했습니다. 이를 통해 리소그래피 최첨단 노드 양산에서의 더욱 향상된 생산성 개선을 제공합니다.
  2. 고수준의 가용성
    최신 고내구성 부품을 도입하여 모듈의 유지 보수 주기를 30% 연장했습니다. 이를 통해 고수준의 가용성을 실현하여 생산성 향상에 공헌합니다.
  3. 3. 서스테이너빌리티 솔루션의 제공
    헬륨 프리 기술의 표준 장비로 희귀 가스의 공급 부족 리스크에 대비할 뿐만 아니라 유틸리티의 소비량 절감 기술을 통해 환경에도 배려한 광원입니다.

주요 사양*
발진 파장 193 nm
출력 60-90W
발진 주파수 6,000 Hz
스펙트럼 폭(95% 에너지 적산-E95) 300 +/- 1.5fm wafer average
특징 EPE 저감 솔루션
Continuous Reliability Improvement (CRI) Package
서스테이너빌리티 솔루션
(*) 각 사양값은 대표값입니다