G300K

GIGANEX 시리즈 신제품, 차세대 미세 어블레이션 가공용 300W KrF 레이저. 고출력, 고신뢰성의 COO 저감 대응 모델

G300K
 
KrF 레이저 ‘G300K’는 GIGANEX의 라인업에 추가되는 신기종이며, 미세 어블레이션 등 ‘가공의 최적화’를 콘셉트로 하여 고출력, 99% 이상의 고가동률을 유지하면서 고객님의 ROI 최대화를 실현한 모델입니다. 누계 출하 실적이 900대 이상 되는 당사의 반도체 리소그래피용 KrF 광원 G41K를 기본 플랫폼으로 채택하여 고출력에 최적화된 전원, 레이저 챔버를 신규 개발해 탑재했습니다. 이를 통해 반도체 제조 백엔드 공정에서의 차세대 미세 어블레이션 가공에서 생산성 향상과 COO 저감에 따른 고객님의 ROI 최대화를 서포트합니다.


주요 특징

  1. 고반복, 고출력
    가공용 KrF 레이저로서는 유일한 4000Hz의 고반복, 300W의 고출력을 달성. 기존의 UV 레이저에서는 실현 불가능 영역에서의 미세 어블레이션 가공이 가능합니다.
  2. 높은 가동률
    반도체 리소그래피 KrF 광원으로서 900대 이상의 실적을 자랑하는 G41K의 신뢰성을 그대로 유지한 채 99% 이상의 고가동을 실현합니다.
  3. 긴 수명
    반도체 제조 광원에서 축적한 생산성에 견딜 수 있는 모듈 수명을 그대로 유지한 채 긴 유지 보수 주기를 보유하여 고객님의 수율 향상과 유지 보수 비용의 절감을 서포트합니다.

주요 사양*
발진 파장 248 nm
평균 출력 75W 300W
펄스 에너지 75mJ 75mJ
발진 주파수 1000Hz 4000Hz
용도 차세대 미세 어블레이션 가공
(*) 각 사양값은 대표값입니다