4. sMPL(Spectrum Multi-Positioning LNM) 기술

반도체의 미세화로 CD가 작아짐에 따라 접점 구멍 형성 시의 초점 심도(DOF)가 얕아지는 문제가 표출되고 있습니다. 기가포톤은 이 문제를 해결하기 위한 하나의 방법으로 레이저의 스펙트럼 폭을 크게 가변시켜 DOF를 늘리는 기술을 개발했습니다.
그림10은 노광 시뮬레이터 prolith v9.3을 사용하여 스펙트럼 폭을 변화시켰을 때의 DOF 변화를 나타내고 있습니다.

기존의 E95=0.3pm의 스펙트럼 폭에 대해 E95=2.4pm까지 스펙트럼 폭을 굵게 만들어 기존보다도 4.5배 이상의 DOF를 확보할 수 있는 결과를 얻었습니다.

그림10 스펙트럼 성능과 DOF
그림10 스펙트럼 성능과 DOF

기가포톤에서는 아래 그림11에 나타낸 바와 같이 LNM 내부에서 모드를 전환하는 방법을 채용하여, 기존의 E95=0.3pm를 출력하는 것을 유지한 채 E95를 2.4pm보다 굵게 만드는 기술을 개발했습니다. 또한 그때의 스펙트럼 파형은 거의 비슷하므로 노광기의 렌즈 설계에도 지장은 없습니다.


그림11 스펙트럼 가변 방식과 실증된 스펙트럼 파형

이 기술은 노광기 제조업체 및 반도체 제조업체와 공동으로 양산 시험을 실시하여 그 유효성은 확인을 마쳤습니다.