1. 레이저 어닐링

레이저 어닐링이란 무엇인가요?

어닐이란 표면을 가열한 후 냉각하여 재료 표면을 변형시키는 프로세스로, 노 및 램프를 통한 가열 및 레이저 어닐링 등의 방법이 있습니다. 레이저 어닐링은 문자 그대로 레이저를 이용하여 실시하는 어닐링을 말하며, 표면을 급가열하여 자기 냉각할 수 있고, 또한 그 프로세스를 대기 속에서 실시할 수 있습니다. 레이저 어닐링의 기본 장치 구성은 레이저 빔을 집광 렌즈로 집광한 후 스캐너나 스테이지로 재료 표면을 주사시키는 구성으로 이루어져 있습니다.

액정 제조용 레이저 어닐링이란 무엇인가요?

액정 패널 기판의 실리콘(Si)막에 레이저를 조사한 후 저온으로 가열하여 폴리 실리콘(p-Si) 액정으로 개질하는 것을 말합니다.

왜 레이저 어닐링이 필요한가요?

원래는 노에서 고온 가열하여 p-Si화를 실시해 왔습니다. 그러나 고온 가열하면 기판이 열의 영향을 받거나 시간이 지나치게 걸리는 등의 문제가 있습니다. 레이저 어닐링을 통한 저온 가열은 재료 표면을 급가열하여 자기 냉각할 수 있기 때문에 노에 의한 고온 가열의 문제를 해결했습니다.

레이저 어닐링에는 어떤 효과가 있습니까?

트랜지스터의 구동 부분은 일반적으로 비결정성 실리콘(a-Si, 비정질 반도체)층으로 형성되며, 전자가 이동하는 속도(이동도 특성)가 0.5 정도로 구동되고 있습니다. LTPS 프로세스를 통해 a-Si층을 p-Si층으로 개질하면 이동도 100 이상으로 고속 구동이 가능하여 패널의 고화질화에 대응할 수 있습니다.

라인 빔 방식과 멀티 렌즈 어레이 방식의 차이는 무엇인가요?

현재의 Gen8(글래스 패널 크기) 세대까지는 라인 빔을 사용하여 글래스 기판 위의 Si막 앞면을 조사하여 어닐링하고 있습니다. 최근, 고체 레이저의 발전도 있어 YAG 레이저를 통한 멀티 렌즈를 사용한 극소 어닐링도 개발되고 있습니다. 이는 본래 트랜지스터 내에 한해 어닐링하기 위해 효율적으로 에너지를 사용할 수 있는 프로세스로 주목받고 있습니다.