2. 엑시머 레이저란

엑시머 레이저(Excimer Laser)란 레이저 매질에 희가스 및 할로겐 등의 혼합 가스를 이용하는 자외선(UV) 레이저로, 대표적인 예로 ArF 엑시머 레이저(파장 193nm), KrF 엑시머 레이저(파장 248nm), XeCl 엑시머 레이저(파장 308nm), XeF 엑시머 레이저(파장 351nm)가 있습니다.
엑시머 레이저는 자외 영역의 레이저로는 예외적으로 고효율로 발진할 수 있고, 또한 장치를 비교적 소형화할 수 있는 특징이 있으므로 공업 및 의료(라식 등의 시력 교정 수술용) 등 다양한 분야에서 응용되고 있습니다.

엑시머 레이저의 응용 예
엑시머 레이저가 발하는 자외광이 가진 높은 광자 에너지와 매우 높은 첨두 전력은 대단히 매력적이므로 이 강력한 빛을 이용할 수 없는지 다양한 공업 분야에서 응용 연구가 진행되고 있습니다. 예를 들어 CO2 레이저나 YAG 레이저로 대응할 수 없는 재료에 대한 마킹, 고분자 필름 및 반도체 박막 등의 어블레이션 가공, 테플론 등 수지의 표면 개질, 도핑 및 증착 등 반도체 제조 프로세스의 응용, TSV의 구멍 가공 등이 있습니다.
그중에서도 가장 성공한 예 중 하나는 반도체 제조 리소그래피용 광원입니다. 자세한 내용은 여기를 참조해 주십시오.
또한 최근에는 액정의 고화질화에 따라 액정 제조용 레이저 어닐링이 주목을 받고 있습니다. 이는 다결정의 저온 폴리 실리콘(LTPS=Low Temperature Poly-silicon) 제조 프로세스에 필수적인 공정입니다.