2012.5.14　News & Event
ギガフォトンの100％出資韓国現地法人が事業活動を開始
現地法人を通して韓国市場での一層の事業拡大と韓国半導体メーカーとの関係強化を目指す
詳細

 韓国語版リリースはここからダウンロード (PDF)

2012.4.1　Management Team
ギガフォトンは創立13期目を新経営体制でスタート、更なる成長を目指します。
詳細

2012.4.1　Technical Paper
2011年2月12日～2月16日 カリフォルニアのサンノゼにて開催されたSPIE Advanced Lithography2012 で発表した論文をアーカ イブへ掲載しました。
詳細

2012.3.21　News & Event
Gigaphoton USA、 オレゴン州ビーバートンの本社機能を強化
経営、物流、トレーニング施設を一箇所に集約し、北米向け顧客サービスを強化
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、
http://www.gigaphoton.com/ ）は、 100％出資の米国法人Gigaphoton USA Inc.（米オレゴン州ビーバートン）が新しい本社事務所及びトレーニングセンターを開設したと発表しました。
詳細

2012.2.23　News & Event
代表取締役の異動に関するお知らせ
当社は、2012年2月21日開催の臨時取締役会において、下記のとおり代表取締役の異動について決議いたしましたので、お知らせいたします。
詳細

都丸新代表取締役社長ポートレートは以下よりダウンロードできます：
President Tomaru Photo (Jpeg 306 KB)

2012.2.13　News & Event
量産向けEUV光源で発光を確認
2012年出荷開始予定のEUV露光用LPP光源の量産化計画が前進
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、
http://www.gigaphoton.com/）は、2012年中に出荷を予定しているEUV露光用LPP光源において、7W相当のEUV発光を確認 したと発表しました。
詳細

2012.2.6　News & Event
ギガフォトン、マルチパターニング対応ArFエキシマレーザ「GT63A」を出荷開始
独自開発した新技術”s”シリーズファンクションの投入により、GigaTwinプラットフォーム製品で露光性能の向上、ランニングコストとダウンタイムの大幅低減を実現
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、www.gigaphoton.com）は、マルチパターニング用液浸露光装置に向けた次世代のArFエキシマレーザ「GT63A」を2012年第2四半期（2012年4月～6月）に出荷開始すると発表しました。
詳細

2012.2.6　News & Event
SPIE Advanced Lithography 2012におけるギガフォトンの発表予定
ギガフォトンは、2月12日(日)～2月16日(木)に開催される「SPIE Advanced Lithography 2012」（会場: 米サンノゼ・コンベンション・センター、サンノゼマリオットホテル）次の論文発表を行います：
詳細

2011.12.5　News & Event
露光用エキシマレーザ、1,000台の出荷を達成
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、 www.gigaphoton.com）は、露光用エキシマレーザ製品シリーズの出荷台数が、累計1,000台に達したと発表しました。ギガフォトンは、その前身であるコマツにて1985年に日本初のエキシマレーザ装置KLE-630を発売し、1987年には世界初の露光用エキシマレーザKLE-630Sを発売しました。以来、市場の高い期待に応え、高精細・高スループット・低ランニングコストを追求した露光用エキシマレーザを次々と発売してきました。
詳細

2011.11.17　News & Event
「ギガフォトンセミナー」開催
SEMICON Japan 2011 開催に併せて、ギガフォトンではプライベートセミナーを開催致します。
今回は、「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」をテーマに、国外大手デバイスメーカーのトップ技術者の方を講師にお迎えし、リソグラフィ技術の最前線についてお話いただくほか、ギガフォトンがご提案する技術面・製品面でのソリュー ションをご紹介します。
詳細

2011.11.8　Technical Paper
10月17日(月)～10月21日(金)に米国フロリダ州マイアミのJWマリオットマーキーズマイアミで開催された 「2011 International Symposia on Extreme Ultraviolet Lithography and Lithography Extensions」 で発表した論文をアーカイブへ掲載しました。

ギがプォトン及びコマツが発表した論文をダウンロードすることができます。詳細

2011.10.17　News & Event
2011 International Symposia on Extreme Ultraviolet Lithography and Lithography Extensions におけるギガフォトンの発表予定
ギガフォトンは、10月17日(月)～10月21日(金)に米国フロリダ州マイアミのJWマリオットマーキーズマイアミで開催される「2011 International Symposia on Extreme Ultraviolet Lithography and Lithography Extensions」にて論文発表を行います。
詳細

2011.7.12　News & Event
EUV光源で磁場によるデブリ除去技術を実証
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、2012年初旬に出荷を予定しているEUV露光用LPP光源にて、同社の独自技術である磁場によるデブリ除去技術を実証したと発表しました。
詳細

2011.5.18　News & Event
ギガフォトン、コマツの全額出資の子会社となる
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、本日コマツが同社の50%株式をウシオより買い取ったことにより、コマツの全額出資の子会社となりました。
詳細

2011.4.25　News & Event
株式大量異動に関するお知らせ
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、現在50%の株式を保有するコマツ（社長：野路國夫）が残り50％の株式をウシオ電機(株)＜以下、ウシオ＞（社長：菅田史朗）より買い取ることで合意したと発表しました。
詳細

2011.3.31　Technical Paper
2011年2月27日～3月3日 カリフォルニアのサンノゼにて開催されたSPIE Advanced Lithography2011で発表した論文をアーカイブへ掲載しました。

ギガフォトンおよびEUVAが発表した論文 をダウンロードすることができます。 詳細

2011.3.25　News & Event
東北地方太平洋沖地震の当社への影響に関するお知らせ(第三報)
3月14日の第一報、3月16日の第二報に引き続き、以下に現時点での当社の状況と復旧見込の第三報をご連絡いたします。
詳細

2011.3.16　News & Event
東北地方太平洋沖地震の当社への影響に関するお知らせ(第二報)
3月14日の第一報に引き続き、以下に現時点での当社の状況と復旧見込の第二報をご連絡いたします。
詳細

2011.3.14　News & Event
東北地方太平洋沖地震の当社への影響に関するお知らせ
このたびの東北地方太平洋沖地震により、亡くなられた方々のご冥福をお祈り申し上げますとともに、 被災されたみなさま、そのご家族の方々に対しまして、心よりお見舞い申し上げます。 一日も早い復旧復興をお祈り申し上げます。
詳細

2011.2.28　News & Event
ギガフォトン、EUV光の生成で最高変換効率3.3％を実証
- 高出力・低コストEUVリソグラフィ光源の実現に向けて大きく前進 -
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/）は、 すず(Sn)のプラズマからの極端紫外光（EUV）の生成において3.3％の変換効率（CE）を実証したと発表しました。
詳細

2011.2.28　News & Event
2012年度新卒採用に向けてCareersページをリニューアルオープンしました。
新Careersページはここから　 BEAM TO YOUR FUTURE

2011.2.28　News & Event
「SPIE Advanced Lithography 2011」で論文発表、出展
ギガフォトンは、2月27日(日)～3月3日(木)に開催される「SPIE Advanced Lithography 2011」（会場: 米サンノゼ・コンベンション・センター、サンノゼマリオットホテル）で出展（小間番号119）及び次の論文発表を行います（ギガフォトンが参画しているEUVAの発表も含まれています）：
詳細