ギガフォトン

What's New

2011.12.5　News & Event
露光用エキシマレーザ、1,000台の出荷を達成
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、 www.gigaphoton.com）は、露光用エキシマレーザ製品シリーズの出荷台数が、累計1,000台に達したと発表しました。ギガフォトンは、その前身であるコマツにて1985年に日本初のエキシマレーザ装置KLE-630を発売し、1987年には世界初の露光用エキシマレーザKLE-630Sを発売しました。以来、市場の高い期待に応え、高精細・高スループット・低ランニングコストを追求した露光用エキシマレーザを次々と発売してきました。
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2011.11.17　News & Event
「ギガフォトンセミナー」開催
SEMICON Japan 2011 開催に併せて、ギガフォトンではプライベートセミナーを開催致します。
今回は、「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」をテーマに、国外大手デバイスメーカーのトップ技術者の方を講師にお迎えし、リソグラフィ技術の最前線についてお話いただくほか、ギガフォトンがご提案する技術面・製品面でのソリュー ションをご紹介します。
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2011.11.8　Technical Paper
10月17日(月)～10月21日(金)に米国フロリダ州マイアミのJWマリオットマーキーズマイアミで開催された 「2011 International Symposia on Extreme Ultraviolet Lithography and Lithography Extensions」 で発表した論文をアーカイブへ掲載しました。

ギがプォトン及びコマツが発表した論文をダウンロードすることができます。arrow詳細

2011.10.17　News & Event
2011 International Symposia on Extreme Ultraviolet Lithography and Lithography Extensions におけるギガフォトンの発表予定
ギガフォトンは、10月17日(月)～10月21日(金)に米国フロリダ州マイアミのJWマリオットマーキーズマイアミで開催される「2011 International Symposia on Extreme Ultraviolet Lithography and Lithography Extensions」にて論文発表を行います。
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2011.7.12　News & Event
EUV光源で磁場によるデブリ除去技術を実証
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、2012年初旬に出荷を予定しているEUV露光用LPP光源にて、同社の独自技術である磁場によるデブリ除去技術を実証したと発表しました。
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2011.5.18　News & Event
ギガフォトン、コマツの全額出資の子会社となる
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、本日コマツが同社の50%株式をウシオより買い取ったことにより、コマツの全額出資の子会社となりました。
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2011.4.25　News & Event
株式大量異動に関するお知らせ
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、現在50%の株式を保有するコマツ（社長：野路國夫）が残り50％の株式をウシオ電機(株)＜以下、ウシオ＞（社長：菅田史朗）より買い取ることで合意したと発表しました。
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2011.3.31　Technical Paper
2011年2月27日～3月3日 カリフォルニアのサンノゼにて開催されたSPIE Advanced Lithography2011で発表した論文をアーカイブへ掲載しました。

ギガフォトンおよびEUVAが発表した論文 をダウンロードすることができます。 arrow詳細

2011.3.25　News & Event
東北地方太平洋沖地震の当社への影響に関するお知らせ(第三報)
3月14日の第一報、3月16日の第二報に引き続き、以下に現時点での当社の状況と復旧見込の第三報をご連絡いたします。
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2011.3.16　News & Event
東北地方太平洋沖地震の当社への影響に関するお知らせ(第二報)
3月14日の第一報に引き続き、以下に現時点での当社の状況と復旧見込の第二報をご連絡いたします。
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2011.3.14　News & Event
東北地方太平洋沖地震の当社への影響に関するお知らせ
このたびの東北地方太平洋沖地震により、亡くなられた方々のご冥福をお祈り申し上げますとともに、 被災されたみなさま、そのご家族の方々に対しまして、心よりお見舞い申し上げます。 一日も早い復旧復興をお祈り申し上げます。
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2011.2.28　News & Event
ギガフォトン、EUV光の生成で最高変換効率3.3％を実証
- 高出力・低コストEUVリソグラフィ光源の実現に向けて大きく前進 -
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/）は、 すず(Sn)のプラズマからの極端紫外光（EUV）の生成において3.3％の変換効率（CE）を実証したと発表しました。
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2011.2.28　News & Event
2012年度新卒採用に向けてCareersページをリニューアルオープンしました。
新Careersページはここから　arrow BEAM TO YOUR FUTURE

2011.2.28　News & Event
「SPIE Advanced Lithography 2011」で論文発表、出展
ギガフォトンは、2月27日(日)～3月3日(木)に開催される「SPIE Advanced Lithography 2011」（会場: 米サンノゼ・コンベンション・センター、サンノゼマリオットホテル）で出展（小間番号119）及び次の論文発表を行います（ギガフォトンが参画しているEUVAの発表も含まれています）：
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2010.11.17　News & Event / Technical Paper
「ギガフォトンセミナー」開催
SEMICON JAPAN 2010開催に併せて、ギガフォトンではプライベートセミナーを開催致します。
今回は「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」と題し、デバイスメーカーのトップ技術者の方々を講師にお迎えし、リソグラフィ技術の最前線についてお話頂き、また弊社の提案する技術面・製品面でのソリューションをご紹介し、受講者の皆様へ充実した時間をお約束致します。
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EUV Symposiumの論文をアーカイブへ掲載しました。arrow 詳細

2010.8.1　News & Event
リソグラフィーの進化とともに10周年
2000年8月1日に誕生したギガフォトンも、おかげさまで10周年を迎えることができました。
ひとえに、お客様 、サプライヤの皆様 、そして社員の家族 を始めとする多くの方々の ご支援とご協力のおかげです。 この場を借りて会社を代表して感謝申し上げます。　arrow詳細

2010.4.26　News & Event
EUV光源で出力100W超を達成
高出力と安定性･経済性を追求した独自技術による露光用EUV光源の量産化計画が前進　arrow詳細

2010.3.23　Technical Paper
2010年2月21日～25日 カリフォルニアのサンノゼにて開催されたSPIE Advanced Lithography 2010で発表した論文をアーカイブへ掲載しました。

ギガフォトンおよびEUVAが発表した論文 をダウンロードすることができます。 arrow詳細

2009.12.1　Technical Paper
「2009年 International Symposium on ExtremeUltravioletおよびthe 6th　International Symposium on Immersion Lithography Extensionsの論文をアーカイブへ掲載しました

ギガフォトンおよびEUVAが発表した論文 をダウンロードすることができます。 arrow詳細

2009.4.22　News & Event
インジェクションロックArFエキシマレーザGT62Aが第１回レーザー学会産業賞の装置・システム部門で「優秀賞」を受賞しました。   arrow詳細

レーザー学会産業省

2009.3.23　Technology / Technical Paper / Career
レーザ運用コスト(Cost of Operation =CoO)の削減
2008年5月からスタートした、レーザのコスト削減についての連載第6回です。 第6回では活動結果について最終報告します。
arrow第6回CoO削減技術：最終報告

技術論文のアーカイヴを更新しました。arrow 詳細
経験者採用要項を更新しました。arrow 詳細

2008.11.27　News & Event
ギガフォトンセミナー」開催
SEMICON JAPAN 2008にあわせて、プライベートセミナーを開催します。今回は、「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」をテーマに、国外大手デバイスメーカーのトップ技術者の方を講師にお迎えし、リソグラフィ技術の最前線についてお話いただくほか、ギガフォトンがご提案する技術面・製品面でのソリュー ションをご紹介します。
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2008.11.27　Quality
第31回オールコマツ技能競技会でギガフォトン代表、山口勝彦が４位
第31回オールコマツ技能競技大会が、2008年10月16日から10月18日まで開催されました。
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2008.10.29　Technology
レーザ運用コスト(Cost of Operation =CoO)の削減
5月からスタートした、レーザのコスト削減についての連載第5回です。 第5回では消耗品交換時間の 短縮について解説します。

arrow第5回消耗品交換時間の短縮

2008.9.1　News & Event
「SEMICON TAIWAN 2008」に出展
ギガフォトンは、9月9日（火）から11日（木）に台湾の台北にあるTaipei World Trade Centerで開催される「SEMICON TAIWAN 2008」に出展し、GPIレーザ（ArF、KrF）の信頼性を紹介する一方で、最新鋭の ArFエキシマレーザGT62Aなど、主力製品のパネル展示を行う予定です(小間番号 : B-872)。

2008.7.14　Technology
レーザ運用コストの削減 連載第3回、第4回掲載
ギガフォトンのユニークなコスト削減技術GRYCOS、MPL、TGMが 7月7日にプレスリリースされました。 ギガフォトンのCoO削減取り組みを紹介する連載ではこれら技術を含む さまざまなCoO削減アプローチについて解説します。

arrow第3回CoCの削減
arrow第4回CoDの削減

2008.7.7　News & Event
レーザコストを削減する技術をリリースしました。
ArFレーザプラットフォームであるGigaTwin向けに、ランニングコストと ダウンタイムを大幅に削減する新技術を独自開発したと発表しました。 arrow 詳細

2008.7.7　Technology
レーザ運用コスト(Cost of Operation =CoO)の削減
5月からスタートした、レーザのコスト削減についての連載第2回です。 第2回ではダウンタイムコストの考え方、レーザダウンタイムの分類についてです。 arrow 詳細

2008.7.7　About Us
ギガフォトン欧州オフィスがオープンしました。 arrow 詳細

2008.7.7　Quality
G能塾成果情報
5月にご紹介したギガフォトン独自のユニークな教育システム、G能塾の成果として 社内技能競技会での成果が出ました。 arrow 詳細

2008.5.26　Technology
新連載：レーザ運用コスト(Cost of Operation =CoO)の削減
ギガフォトンが2006年から取り組んでいるレーザのコスト削減についての連載を スタートしました。 レーザに関わるコストの考え方、削減ロードマップとそれを実現する技術や手法 などについてギガフォトン独自の視点からのアプローチをご紹介します。 arrow 詳細

2008.5.26　Technology
2008年 SPIE Advanced Lithographyの論文をアーカイブへ掲載しました ギガフォトンおよびEUVAが発表した論文をダウンロードすることができます。 arrow 詳細

2008.5.26　About Us / Career
経営実績・予測、採用ページを更新しました。
2007年度の経営実績ページを更新しました。 arrow 詳細
来年度の定期採用および経験者採用の募集要項をアップデートしました。 arrow 詳細