Celebrating Our 10th Anniversary
as Part of the Evolution of Photolithography

We at Gigaphoton are pleased to announce that we are celebrating the 10-year anniversary of our founding (on August 1, 2000).

We deeply appreciate the tremendous support and cooperation throughout the years of our customers, our suppliers, and the families of all of our employees.

Representing Gigaphoton, I’d like to express ourthanks to all of you.

As you know, in the semiconductor industry, we constantly face new technological challenges; every one-and-a-half or two years, we must introduce technologies that allow finer circuit patterns.

For lithography light sources, we have continued development of technologies to enhance spectral quality, repetition rate, and output power, as well as to shorten the wavelengths from i-line UV to KrF excimer lasers and from KrF to ArF excimer lasers.

At present, we are proceeding with development of EUV light sources, which are indispensable to achieve the design rule of hp 22 nm.

For our current production models of KrF and ArF excimer laser light sources, we have been working on reducing cost while maintaining their high quality levels, and simultaneously providing round-the-clock technical support to maintain an extremely high uptime of beyond 99%.

In such a dynamic business environment, we have faced crucial challenges several times. However, we have been able to successfully overcome them while building a firm relationship of mutual trust between our customers and suppliers and employees. We have grown to become a leading company with a 50% world market share.

We at Gigaphoton will continue to provide the No.1 technologies and quality products and contribute to development of the semiconductor industry and of society.

I would like to ask for your continuous support and encouragement.

President and Representative Director

2000年8月1日に誕生したギガフォトンも、おかげさまで10周年を迎えることができました。

ひとえに、お客様 、サプライヤの皆様 、そして社員の家族 を始めとする多くの方々の ご支援とご協力のおかげです。

この場を借りて会社を代表して感謝申し上げます。

ご存知のとおり、半導体業界では1年半~2年毎に微細化技術を導入するために常に新しい技術チャレンジが要求されます。

リソグラフィ光源についてはこれまでi線からKrF、ArFへと短波長化を進めると同時にスペクトルの品質・周波数・出力を向上させる技術開発を続けてまいりました。

現在ではhp22nm以下のデザインルールを実現する ために不可欠な技術として、EUV光源の開発を進めています。

現在の当社の量産装置であるKrFおよびArFのエキシマレーザにおいては、高品質を維持しながらコスト削減に取り組む一方で、昼夜を問わない手厚いサポートで99%を上回る非常に高い稼働率を維持しています。

このようなダイナミックな事業環境の中、 何度も厳しい局面を迎えたギガフォトンではありますが、お客様およびサプライヤの皆様と社員との信頼関係を大切に育てながら、現在では全世界のおよそ半分のマーケットシェアを占める企業に成長することができました。

今後もNo.1の技術 と品質の 製品を提供し、 半導体産業と社会の発展に貢献していく所存です。

引き続きご愛顧・ご支援のほどよろしくお願い申し上げます。

代表取締役社長 渡辺 裕司