ArF Immersion

ArF Dry

Data Products


<h2 class="wp-block-heading" id="支援-130nm-以下技術節點的-4-khz-arf-準分子雷射裝置">支援 0.13μm 設計規則的 2 kHz ArF 準分子雷射裝置</h2>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要特色">主要特色</h3>



<ul class="wp-block-list"><li>進一步提升飽受好評的 G20K 能量安定性</li><li>改良窄頻寬化光學系統，實現支援 0.13 µm 技術節點微影製程的超窄頻寬化性能：頻譜半值 0.5 pm</li></ul>
</div></div>
</div></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要規格"><strong>主要規格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>規格項目</th><th>值<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>發射波長</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均輸出功率</td><td>20 W</td></tr><tr><td>脈衝能量</td><td>10.0 mj</td></tr><tr><td>發射頻率</td><td>2,000 Hz</td></tr><tr><td>譜頻幅度（FWHM）</td><td>0.5 pm</td></tr><tr><td>譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95）</td><td>1.4 pm</td></tr><tr><td>累計能量安定性</td><td>0.35 %</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>
</div></div>



<p class="wp-block-paragraph"></p>


G21K

<div class="wp-block-image">
<figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G300K_500.png" alt="G300K" class="wp-image-7601" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G300K_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G300K_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G300K_500-150x150.png 150w" sizes="auto, (max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure>
</div>


<p class="wp-block-paragraph"></p>



<h2 class="wp-block-heading" id="全新giganex系列產品-下一代精細燒蝕加工用300w-krf雷射-高輸出-高可靠且可減低coo的機型">下一代精細燒蝕加工用300W KrF雷射。高輸出、高可靠且可減低COO的機型</h2>



<p class="wp-block-paragraph">KrF雷射「G300K」，以精細燒蝕等「優化加工」為概念，維持高輸出和99％以上高運行率，同時實現客戶最大投資報酬率 (ROI) 的機型。基本平臺採用本公司累計出貨量超過 900台的半導體微影用KrF光源G41K，配備新開發的優化高輸出電源和雷射共振腔。藉此支援客戶在半導體後段製程中的下一代精細燒蝕加工，透過提高產能和降低COO實現最大ROI。</p>



<hr class="wp-block-separator has-css-opacity"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要特點">主要特點</h3>



<h4 class="wp-block-heading" id="高重複性-高輸出"><strong><strong>高重複性、高輸出</strong></strong></h4>



<p class="wp-block-paragraph">唯一能達成4000Hz高重複性和300W高輸出的加工用KrF雷射。可在傳統UV雷射所無法達成的領域上，進行精細燒蝕加工。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="高運行率"><strong><strong>高運行率</strong></strong></h4>



<p class="wp-block-paragraph">作為半導體微影KrF光源，在保有900台以上績效的G41K可靠性之下，達到99%以上的高運行率。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="壽命長"><strong><strong>壽命長</strong></strong></h4>



<p class="wp-block-paragraph">模組壽命可承受半導體製造光源所培養之生產力，而且維護週期長，支援客戶提高成品率和降低維護成本。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading" id="主要規格"><strong>主要規格</strong></h3>


<figure class="wp-block-table">
<table class="has-fixed-layout">
<thead>
<tr>
<th>規格項目</th>
<th colspan="2">值<sup>*</sup></th>
</tr>
</thead>
<tbody>
<tr>
<td>振盪波長</td>
<td colspan="2">248 nm</td>
</tr>
<tr>
<td>平均輸出</td>
<td>75W</td>
<td>300W</td>
</tr>
<tr>
<td>脈衝能量</td>
<td>75mJ</td>
<td>75mJ</td>
</tr>
<tr>
<td>振盪頻率</td>
<td>1000Hz</td>
<td>4000Hz</td>
</tr>
<tr>
<td>用途</td>
<td colspan="2">下一代精細燒蝕加工</td>
</tr>
</tbody>
</table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>


<p class="wp-block-paragraph"></p>


High Power KrF

高輸出KrF

G300K


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G60K_500.png" alt="G60K" class="wp-image-7600" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G60K_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G60K_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G60K_500-150x150.png 150w" sizes="auto, (max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading" id="實現既有能力150-的高輸出-以滿足未來更高輸出要求的krf曝光專用光源">實現既有能力150%的高輸出，以滿足未來更高輸出要求的KrF曝光專用光源</h2>



<p class="wp-block-paragraph">沿襲Gigaphoton長年累積的產品技術經驗的KrF光源技術為基礎，支持每小時300片以上掃描光刻處理量的KrF曝光用光源G60K，可提供既有能力的150%的輸出，並透過延長模組壽命至200%以改善可用性。此外，透過新開發的電源和模組，備有因應未來高輸出所需高頻率效能的擴展性，支持日後KrF曝光技術的需求。此外，透過標準配備無氦氣技術，有助於減少気体的消耗量。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要特點">主要特點</h3>



<h4 class="wp-block-heading" id="支持每小時300片掃描光刻機處理量的高輸出">支持每小時300片掃描光刻機處理量的高輸出</h4>



<p class="wp-block-paragraph">引進新型電源供應裝置，而得以實現往常150%的60W輸出。藉此，即使在厚膜光刻膠等低靈敏度光刻膠中，也能抑制處理量損失，進而提升生產力。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="承襲已具實際成果的99-9-以上可用性支援技術">承襲已具實際成果的99.9%以上可用性支援技術</h4>



<p class="wp-block-paragraph">現場上的可用性和效能穩定性皆高而備受客戶所肯定，以G41K技術為基礎的機種，實現在所有輸出領域中99.9%以上的可用性。再者，透過投入新技術，將模組壽命延長至200%，從而提升可用性。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="提供可持續發展解決方案">提供可持續發展解決方案</h4>



<p class="wp-block-paragraph">標準配備無氦氣技術的光源，除了為稀有氣體供應不足風險做好準備之外，還採用減少気体等公用設施消耗量的環保技術。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要規格">主要規格</h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>規格項目</th><th>值<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>振盪波長</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>輸出</td><td>40W &#8211; 60W</td></tr><tr><td>脈衝能量</td><td>10mJ &#8211; 15mJ</td></tr><tr><td>振盪頻率</td><td>4000Hz</td></tr><tr><td>特點</td><td>Continuous Reliability Improvement (CRI) Package<br>可持續發展解決方案<br>・Helium Free Operation<br>・TGM Gas Management</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>
</div></div>


G60K


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img decoding="async" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G45K_500.png" alt="G45K" class="wp-image-7620"/></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading" id="支援50w的4khz-krf準分子雷射">支援50W的4kHz KrF準分子雷射</h2>



<p class="wp-block-paragraph">4kHz KrF準分子雷射系列的第3代機種G45K，是提升最尖端記憶體晶片(memory chip)生產效率、功率高達50 W的高輸出機種。再者，藉由延長模組壽命和綠能技術(Green technical)，同時實現「提升運作率」和「減少對環境的影響」。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="特色">特色</h3>



<h4 class="wp-block-heading" id="高輸出化">高輸出化</h4>



<p class="wp-block-paragraph">輸出功率高達50W，與傳統機種相比多出25%，得以提升最尖端記憶體晶片的產能。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="延長模組壽命">延長模組壽命</h4>



<p class="wp-block-paragraph">將主要模組壽命延長20%，減少因維護設備而產生的停機時間，可望藉此更進一步提高設備運作率。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="綠色技術">綠色技術</h4>



<p class="wp-block-paragraph">標準搭載「無氦氣」，將設備運作期間的氦氣用量降至零，並藉由連接氖氣回收系統「hTGM」，降低營運成本和減少對環境的影響。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要規格">主要規格</h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>規格項目</th><th>值<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>發射波長</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均輸出功率</td><td>40 W – 50 W</td></tr><tr><td>脈衝能量</td><td>10.0 &#8211; 12.5 mJ</td></tr><tr><td>發射頻率</td><td>4,000 Hz</td></tr><tr><td>譜頻幅度（FWHM）</td><td>0.35 pm</td></tr><tr><td>譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95）</td><td>1.1 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>
</div></div>


G45K

<div class="wp-block-image">
<figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G41K_500.png" alt="" class="wp-image-7648" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G41K_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G41K_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G41K_500-150x150.png 150w" sizes="auto, (max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure>
</div>


<h2 class="wp-block-heading" id="支援-130nm-以下技術節點的-4-khz-arf-準分子雷射裝置">支援 130nm 以下技術節點的 4 kHz KrF 準分子雷射裝置</h2>



<p class="wp-block-paragraph">為 4kHz KrF 準分子雷射系列第 2 代機種 G41K 標準加載磁浮雷射共振腔、高效率 LNM、MM 的機種。<br>高效率進一步提升，達到 40W 的輸出功率。支援需要更高用量的先進曝光製程。光學模組達到 30 百萬脈衝使用壽命長壽化（與本公司 G41K 機種相比約提升 50 %）。<br>G41K 可藉由現場更換模組升級為 G41K-1H。</p>



<hr class="wp-block-separator has-css-opacity"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要特色">主要特色</h3>



<ul class="wp-block-list">
<li>效率較 G41K 更高，達到 40W 高輸出功率／超低CoO</li>



<li>TGM 軟體導入，可延長氣體使用壽命達 100%</li>



<li>市場上稼動的雷射裝置數以百計，具有壓倒性高可靠度</li>
</ul>
</div></div>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要規格"><strong>主要規格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>規格項目</th><th>值<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>發射波長</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均輸出功率</td><td>40 W</td></tr><tr><td>脈衝能量</td><td>10.0 mj</td></tr><tr><td>發射頻率</td><td>4,000 Hz</td></tr><tr><td>譜頻幅度（FWHM）</td><td>0.35 pm</td></tr><tr><td>譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95）</td><td>1.1 pm</td></tr></tbody></table><figcaption class="wp-element-caption">(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>
</div></div>


G41K-1H


<h2 class="wp-block-heading" id="支援-130nm-以下技術節點的-4-khz-arf-準分子雷射裝置">支援 0.18μm 設計規則的 2 kHz ArF 準分子雷射裝置</h2>



<p class="wp-block-paragraph">G20K 以能量安定性 ±0.4 %、半值振幅 0.6 pm 以下的狹隘頻譜線寬，支援 0.18 μm 節點微影的高解析度。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要特色">主要特色</h3>



<ul class="wp-block-list"><li>發射頻率由 G10K 的 1000 Hz 改進至 2000 Hz，達到高產量需求</li><li>大幅提升雷射發射穩定性與模組耐久性，達到進一步減低 CoO（每次脈衝的經常成本）的目的</li><li>筐體精緻化，與 G10K 相較，安裝所需面積縮小 14 %</li><li>全新設計的固態脈衝電源模組，減少 20 % 耗電量</li></ul>
</div></div>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要規格"><strong>主要規格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>規格項目</th><th>值<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>發射波長</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均輸出功率</td><td>20 W</td></tr><tr><td>脈衝能量</td><td>10.0 mj</td></tr><tr><td>發射頻率</td><td>2,000 Hz</td></tr><tr><td>譜頻幅度（FWHM）</td><td>0.6 pm</td></tr><tr><td>譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95）</td><td>2.0 pm</td></tr><tr><td>累計能量安定性</td><td>0.4 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>
</div></div>



<p class="wp-block-paragraph"></p>


G20K


<h2 class="wp-block-heading" id="支援-130nm-以下技術節點的-4-khz-arf-準分子雷射裝置">支援 0.25 μm～0.18 μm 設計規則的 1 kHz 準分子雷射裝置</h2>



<p class="wp-block-paragraph">準分子雷射因使用氟氣、高壓放電、深紫外光等化學反應強烈的要素，如何同時達成穩定性與耐久性是最大的技術課題。而除了上述功能外，曝光用準分子雷射更要求出光的單色性及輸出能量均衡性。</p>



<p class="wp-block-paragraph">G10K 是首度解決前述難題的準分子雷射設備，自 1997 年推出以來，以其劃時代性穩定稼動與性能廣受微影光源市場的好評，目前仍活躍於生產現場。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要特色">主要特色</h3>



<ul class="wp-block-list"><li>穩定激發與高度耐久性，達到高稼動率與經濟性</li><li>以獨家 RF 預電離方式、全新開發的高電壓脈衝電源，大幅改善發射穩定性並大幅提升耐久性能</li><li>不但讓各結構模組性能遊刃有餘，並以貫徹所有零件、製程的品質保證體制確保產品高度可靠性。</li></ul>
</div></div>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主要規格"><strong>主要規格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>規格項目</th><th>值<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>發射波長</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均輸出功率</td><td>10 W</td></tr><tr><td>脈衝能量</td><td>10.0 mj</td></tr><tr><td>發射頻率</td><td>1,000 Hz</td></tr><tr><td>譜頻幅度（FWHM）</td><td>0.6 pm</td></tr><tr><td>譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95）</td><td>2.0 pm</td></tr><tr><td>累計能量安定性</td><td>0.5 %</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各規格值為代表值</figcaption></figure>
</div></div>


G21KG21K

支援 0.13μm 設計規則的 2 kHz ArF 準分子雷射裝置

主要特色

主要規格

Other KrF

G300K

G60K

G45K

G41K-1H

G20K

G10K

規格項目	值^*
發射波長	248 nm
平均輸出功率	20 W
脈衝能量	10.0 mj
發射頻率	2,000 Hz
譜頻幅度（FWHM）	0.5 pm
譜頻幅度（以 95 %能量累計，E95）	1.4 pm
累計能量安定性	0.35 %