ArF Immersion

ArF Dry

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<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT66A_500.png" alt="GT66A" class="wp-image-7586" srcset="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT66A_500.png 500w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT66A_500-300x300.png 300w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT66A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">满足进一步技术要求的浸没式光刻光源</h2>



<p>最先进产品制造目前仍继续应用摩尔定律，技术节点日益微细化。这些最尖端产品对转印到晶圆上的曝光图案、特别是EPE（Edge Placement Error）具有很高的要求。作为光源通过降低直接影响EPE的CD LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness)，为提高批量生产现场的成品率提供帮助。<br><br>新型浸没式曝光光源“GT66A”通过新开发的光学模块成功地将散斑对比度降低30%，减少了LER/LWR。还通过引入最新的高度耐用零件，将模块的维护周期延长30%。由此实现进一步改善工序成品率、提高光源的可用性，为最尖端节点批量生产的高生产性提供帮助。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading">主要特点</h3>



<h4 class="wp-block-heading">改善最尖端节点的成品率</h4>



<p>通过新开发的光学模块将散斑对比度降低30%，并实现了LER/LWR的改善。从而为光刻尖端节点批量生产的节点进一步改善提供帮助。</p>



<h4 class="wp-block-heading">高水平的可用性</h4>



<p>还通过引入最新的高度耐用零件，将模块的维护周期延长30%。由此实现高水平的可用性，并有助于提高生产性。</p>



<h4 class="wp-block-heading">提供可持续发展解决方案</h4>



<p>该光源标配无氦技术，除可以防备稀有气体供给不足的风险外，还能通过气体的消耗量削减技术实现更环保。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading"><strong>主要规格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>规格项目</th><th>值<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>振荡波长</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>输出</td><td>60 &#8211; 90W</td></tr><tr><td>振荡频率</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>光谱宽度(95%能量积分宽度-E95)</td><td>300 +/- 1.5fm wafer average</td></tr><tr><td>特点</td><td>减少EPE的解决方案<br>Continuous Reliability Improvement (CRI) Package<br>可持续发展解决方案</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各规格值为代表值</figcaption></figure>
</div></div>


GT66A

<div class="wp-block-image">
<figure class="aligncenter size-full is-resized"><img loading="lazy" decoding="async" width="800" height="800" src="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800.png" alt="GT80A" class="wp-image-8942" style="object-fit:cover;width:500px;height:500px" srcset="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800.png 800w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800-300x300.png 300w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800-150x150.png 150w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800-768x768.png 768w" sizes="(max-width: 800px) 100vw, 800px" /></figure></div>


<h2 class="wp-block-heading has-text-align-center" id="an-immersion-lithography-light-source-that-meets-more-stringent-technological-demands">进化浸没光刻光源推动光刻性能</h2>



<p>I</p>



<p>在最先进的设备制造中，除了要进行扩展，还需要高生产力。这些最先进的设备必须满足转移到晶圆上的光刻图案的要求，特别是EPE（边缘定位误差）和高生产力。作为光源，GT80A通过减少直接影响EPE的CD LER / LWR（关键尺寸线边缘粗糙度/线宽粗糙度），在大规模生产现场提供了改善的产量。</p>



<p>新型浸没式光刻光源“GT80A”成功地通过新开发的模块将重复率提高了12.5%。与GT65相比，这导致了36%的斑点对比度减小，并进一步降低了LWR / CDU（关键尺寸均匀性）。这些进展使工艺产量进一步提高，并支持在最先进节点的生产中实现高生产力。</p>



<hr class="wp-block-separator has-css-opacity"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h2 class="wp-block-heading" id="key-features">主要特点</h2>



<h3 class="wp-block-heading" id="improved-yield-with-state-of-the-art-nodes">与最先进的节点相比，提高产量</h3>



<p>GT80A通过提高重复率和应用新的光学模块，将斑点对比度降低了36％，并改善了LER / LWR。这些进展将提高光刻中领先节点的产量。</p>



<h3 class="wp-block-heading" id="high-level-of-availability">高可用性水平</h3>



<p>GT80A采用新开发的模块，实现了增强的重复率。这将为生产领先节点提供更高的产量。</p>



<h3 class="wp-block-heading" id="providing-sustainability-solutions">提供可持续解决方案</h3>



<p>GT80A采用无氦技术，是一种环保的光源，可以减少稀有气体供应短缺的风险，并利用技术降低能源消耗。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h2 class="wp-block-heading" id="general-specifications">一般规格</h2>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>项目</th><th>数值<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>波长</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>输出功率</td><td>60 &#8211; 90 W</td></tr><tr><td>重复率</td><td>6,750 Hz</td></tr><tr><td>谱宽度<br>（95％积分能量 &#8211; E95）</td><td>300 +/- 1.5 fm wafer average</td></tr><tr><td>特点</td><td>降低EPE的解决方案<br>重复率改善<br>可持续解决方案</td></tr></tbody></table><figcaption class="wp-element-caption">(*) 规格为代表性数值</figcaption></figure>
</div></div>


GT80A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT65A_500.png" alt="GT65A" class="wp-image-7594" srcset="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT65A_500.png 500w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT65A_500-300x300.png 300w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT65A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">适配亚10 nm节点浸润式曝光机、为提高生产力做出贡献的ArF准分子激光机</h2>



<p>GT65A作为采用注入锁定方式的第7代平台，引入了最先进的技术，通过光谱带宽（E95）可变及稳定性提高实现的“曝光性能改善”、组件寿命延长实现的“高劳动效率”及无氦实现的“减轻环境负荷”，帮助客户进一步实现生产率（晶元输出）的提高。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading">特色</h3>



<h4 class="wp-block-heading">光谱带宽（E95）可变</h4>



<p>根据客户的各式不同需求及用途，光谱带宽可进行对应变化。作为使用示例，可用光谱宽度修正不同代曝光机的对比度性能差异。另外，还可通过光谱带宽可变功能来匹配设备之间或掩模之间的OPC特性<sup>＊1</sup><br>*1）根据所连接的曝光机不同，功能有所差异。</p>



<h4 class="wp-block-heading">光谱带宽（E95）稳定性提高</h4>



<p>光谱带宽控制速度成功提高为原来的20倍。这使得设备操作期间光谱宽度更稳定，并能够减少临界尺寸偏差。</p>



<h4 class="wp-block-heading">组件寿命延长</h4>



<p>通过延长主要组件的寿命，进一步实现维修频率的降低。这使得设备能够长时间运转。</p>



<h4 class="wp-block-heading">无氦</h4>



<p>引入零氦运转ArF准分子激光的技术，实现客户的成本缩减并减轻环境负荷。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading"><strong>主要规格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>规格项目</th><th><strong>值</strong><sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>发射波长</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均输出功率</td><td>≥60 W</td></tr><tr><td>脉冲能量</td><td>10.0 &#8211; 20.0 mJ</td></tr><tr><td>发射频率</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>光谱幅度（以 95 %能量累计，E95,）</td><td>0.20 – 0.45 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各规格值为代表值</figcaption></figure>
</div></div>


GT65A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT64A_500.png" alt="GT64A" class="wp-image-7593" srcset="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT64A_500.png 500w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT64A_500-300x300.png 300w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT64A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">支持 450mm 晶圆多重曝光装置先进的 ArF 准分子激光机</h2>



<p>GT64A 秉承“降低环境负担”的理念，以极尽压缩的总操作成本实现了世界最高等级的 120W 高输出功率、高发光性能以及稳定性。<br>为了追求性能与效率最大化以从而成为客户半导体量产体制的后盾，GT64A 采用注入锁定方式，即所谓第六代 GT（GigaTwin）平台。<br>继承了 GT 平台优异的双室结构、输出控制算法以及光束定位科技，并且达到 120W 高输出功率、高发光性与稳定性，为您提供全球顶级的可靠性、复原时间以及模块使用寿命。同时应对客户对于 ArF 准分子激光机的性能提升、降低总操作成本的需求。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading">特色</h3>



<h4 class="wp-block-heading">全球顶级效率以及 120W 大输出功率</h4>



<p>GT64A 采用注入锁定方式，达到全球顶级激光束发效率，更以此为基础，于 450mm 晶圆多重曝光方面亦实现保证高产量的 120W 大功率。</p>



<h4 class="wp-block-heading">自动可变输出</h4>



<p>输出支持自动可变，可对于客户制作程序，供应最适宜的发光量。此外，本功能可避免激发无谓的激射光，对于降低运行成本、降低环境负担也非常有效。</p>



<h4 class="wp-block-heading">激光束高稳定性</h4>



<p>为求实现多重曝光最为重要的多重迭合精密度（Overlay）、控制临界尺寸以及降低光刻线边缘粗糙度 (LER)，在所有输出区域达成高稳定性（能量、光谱、光束形状）与长脉冲带宽。</p>



<h4 class="wp-block-heading">低环境负担</h4>



<p>将开发理念定为“降低环境负担”，极度抑制电力、气体、冷却源等设备成本，并获得成功。不仅降低了总操作成本，更符合社会潮流，抑制对环境的负面影响。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<p><strong>主要规格</strong></p>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>规格项目</th><th><strong>值</strong><sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>发射波长</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均输出功率</td><td>60 &#8211; 120 W</td></tr><tr><td>脉冲能量</td><td>10.0 &#8211; 20.0 mJ</td></tr><tr><td>发射频率</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>光谱幅度（以 95 %能量累计，E95,）</td><td>0.25 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各规格值为代表值</figcaption></figure>


GT64A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT63A_500.png" alt="GT63A" class="wp-image-7583" srcset="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT63A_500.png 500w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT63A_500-300x300.png 300w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT63A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">浸润多重曝光装置专用次世代 ArF 准分子激光机“GT63A”</h2>



<p>GT63A 为 GT 系列最新机种，采用注入锁定方式，即所谓第五代 GT（GigaTwin）平台。<br>GT63A 系列投入可实现广泛聚焦深度的光谱控制技术（sMPL） *1)、可达到低运行成本的共振腔技术（sGRYCOS）、可实现高劳动效率的气体控制技术（sTGM）、可达成高稳定性的监控技术（sMONITORING）等四大「s」系列功能，凭借尖端技术为客户创早更多价值、获得更多信赖。<br>GT 系列获得全球各国主要客户大量采购，其设计构思、可靠性均获高度评价。<br>GT63A 的平台设计与既有的 GT 系列系出同门，寻求极限共享化，对用户而言，从装置引进起便能期待高度可靠性。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading">GT63A的特色：四大「s」系列功能</h3>



<h4 class="wp-block-heading">sMPL</h4>



<p>sMPL（光谱多复位位 LNM；Spectrum Multi Positioning LNM）技术可提高光谱控制带宽至既有 10 倍以上，达成以激射聚焦钻孔确保广泛聚焦深度之功能。搭载 sMPL 技术后，既有技术难以执行的接点、沟槽、通孔等曝光中放大制作程序窗口工作，可在不导致 CDU、迭合、生产性恶劣影响下完成。且 sMPL 经曝光装置制造商、芯片制造商共同进行量产试验，有效性已获证明。</p>



<h4 class="wp-block-heading">sGRYCOS</h4>



<p>sGRYCOS（60 GIGAPHOTON 回收共振腔操作系统；Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System）技术将准分子激光主要更换零件寿命提高至既有的 1.5 倍，达到低运行成本的需求。提高符合 sGRYCOS 需求全新开发的共振腔预电离强度，加以 GT 系列搭载了行有余力的脉冲功率电源，能提升能量极限，获得耐久性较现有产品大幅提高的成果。</p>



<h4 class="wp-block-heading">sTGM</h4>



<p>sTGM（极致气体总量管理；Supreme Total Gas Manager）技术在波长校正方式上下功夫，免去了现有机种每 2 周需更换一次激射气体的困扰，达成高劳动效率与低成本运转目的。GT 系列培养而成的气体控制技术，可一面回馈效能，一面确保激射共振腔内最佳的气体状态。本次更借由专为 sTGM 新开发的绝对波长校正模块，排除原先绝对波长校正时更换气体的必要性，兼具缩减停机时间与降低气体成本的优点。</p>



<h4 class="wp-block-heading">sMONITORING</h4>



<p>sMONITORING（智慧监控；Smart Monitoring）技术为在线实时监控激射效能功能，亦可连接客户既有之 FDC（故障侦测与分类；Fault Detection and Classification）系统，为装置稳定运转做出贡献。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading"><strong>主要规格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>规格项目</th><th><strong>值</strong><sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>发射波长</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均输出功率</td><td>60/90 W</td></tr><tr><td>脉冲能量</td><td>10.0/15.0 mJ</td></tr><tr><td>发射频率</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>光谱幅度（以 95 %能量累计，E95）</td><td>0.3 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各规格值为代表值</figcaption></figure>


GT63A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT62A_500.png" alt="GT62A" class="wp-image-8005" srcset="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT62A_500.png 500w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT62A_500-300x300.png 300w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT62A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">可达全球最高输出功率 90W、支持浸没式双重曝光的 ArF 准分子激光机“GT62A”</h2>



<p>GT62A 为 GT 系列最新机型，采用注入锁定方式，即所谓第四代 GT（GigaTwin）平台。为支持浸润双重曝光，供应 90W 的输出功率。更为针对各方客户的需求，亦可以 60W 进行运转，导入系统时的性价比优异。<br>装置内搭载共振腔、光学零件等耗材的长寿命技术，以及让停机时间减至最低的 GIGAPHOTON 独家技术，在经济方面成为您导入最先进科技的后盾。<br>GT 系列获得全球各国主要客户大量采购，其设计构思、可靠性均获高度评价。GT62A 的平台设计与既有的 GT 系列系出同门，寻求极限共享化，对用户而言，从装置引进起便能期待高度可靠性。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading"><strong>GT62A的特色</strong></h3>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong>高输出、高稳定性</strong></strong></strong></h4>



<p>采用新研制电源，与 60W 机型 GT61A 相比可提升功率达 50%，实现 90W 高输出功率。并搭载因应高输出增加的热负载对策技术以及新研发的高耐久性光学组件，确保高输出运转时的稳定性能。并且标准配备 GIGAPHOTON 独家技术－－BCM（带宽控制模块；Bandwidth Control Module），稳定供应光谱。<br>GT62A 为了因应各方客户的需求，也推出了 60W 输出规格机型。如此一来，您可在引进当时压低成本，以 60W 输出持续运转，等待将来有需要时可升级为 90W，在最适当的时机做出最必要的投资进行使用。</p>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong>控制成本</strong></strong></strong></h4>



<p>半导体生产装置的高性能化、高产量化进步速度如飞。我们认为，让此类生产装置以极限劳动效率运转方可与客户工厂生产率的提升接轨，因此 GIGAPHOTON 多年以来不断持续进行着达成并维持激射高劳动效率的活动。这些技术已配备在 GT 系列，最新机型 GT62A 更配备了更换气体交换停机时间为现有机型10分之1的科技，以及有效使用共振腔、光学组件延伸实质寿命，延长维修周期并抑制成本的技术。</p>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading"><strong>主要规格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>规格项目</th><th><strong>值</strong>*</th></tr></thead><tbody><tr><td>发射波长</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均输出功率</td><td>60/90 W</td></tr><tr><td>脉冲能量</td><td>10.0/15.0 mJ</td></tr><tr><td>发射频率</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>光谱幅度（以 95 %能量累计，E95）</td><td>0.35 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各规格值为代表值</figcaption></figure>


GT62A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT61A_500.png" alt="GT61A" class="wp-image-8013" srcset="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT61A_500.png 500w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT61A_500-300x300.png 300w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT61A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">支持 Hyper N.A. 浸没式曝光装置的最先进 6kHz ArF 准分子激光机产品</h2>



<p><em>支持 N.A. 1.3 以上浸没式曝光装置的 6kHz ArF 准分子激光机 GT61A</em></p>



<p>GIGAPHOTON 于 GT60A 量产出货后不到一年，便成功开发出光谱幅度（E95%）比 GT60A 提升 30%，并实现大幅改善雷射共振腔使用寿命、减少停机时间、减少维修费用成果的 GT61A 机型。GT61A 与 GT40A、GT60A 同样采注入锁定方式，即所谓第三代 GT（GigaTwin）平台。GT40A、GT60A 已获得全球各国主要客户采购，其设计构思、可靠性均获高度评价。GT61A 的平台设计与 GT40A/GT60A 系出同门，寻求极限共享化，对用户而言，从装置引进起便能期待高度可靠性。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading"><strong>GT61A的特色</strong></h3>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong><strong>频谱性能</strong></strong></strong></strong></h4>



<p>针对达到光谱幅度（E95%）0.5pm 的 GT60A 进行大幅改良，在同一平台上达到光谱幅度 0.35pm 的成果。此外也标准配备新研制的高精密量测装置以及稳定化机构，能够在装置有效期间内常保光谱性能高度稳定。此举预料对曝光制程稳定性将有帮助。</p>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong><strong>劳动效率・可靠性</strong></strong></strong></strong></h4>



<p>激射共振腔寿命得以延长，故可缩短维修停机时间并降低成本。同时也确保了包含 GT 系列最大的优势－－模块可交换性在内的服务性，实现半导体工厂不可或缺的高可靠性、高劳动效率。此外更以实绩卓越的 GT40A/GT60A 的平台进行设计，寻求极限共享化，对用户而言，从装置引进起便能期待高度可靠性。</p>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading"><strong>主要规格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>规格项目</th><th><strong>值</strong>*</th></tr></thead><tbody><tr><td>发射波长</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均输出功率</td><td>60 W</td></tr><tr><td>脉冲能量</td><td>10.0 mJ</td></tr><tr><td>发射频率</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>光谱幅度（以 95 %能量累计，E95）</td><td>0.35 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各规格值为代表值</figcaption></figure>



<p></p>


GT61A


<h2 class="wp-block-heading">支持 45nm 或更新技术节点的新产品－－6 kHz ArF 准分子激光机</h2>



<p>GT40A 量产出货未满一年，GIGAPHOTON 成功研发大幅提升输出功率且发射频率达 1.5 倍（6,000 Hz）的 GT60A 机种。GT60A 与 GT40A 同样采注入锁定方式，即所谓第二代 GT（GigaTwin）平台。GT40A 已获得全球各国主要客户采购，其设计构思、可靠性均获高度评价。GT60A 的平台设计与 GT40A 系出同门，寻求极限共享化，对用户而言，从装置引进起便能期待高度可靠性。</p>



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<h3 class="wp-block-heading"><strong>特色</strong></h3>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong><strong><strong>高输出、高发射频率</strong></strong></strong></strong></strong></h4>



<p>经改良发射频率可达 4,000 Hz 的 GT40A 机型后，效率大幅提升，在相同平台达到 6,000 Hz 的发射频率。如此一来，虽然抑制了每次脉冲所需的能量，输出功率依然提升了 33% 以上，达到 60W。频率与输出大幅获得改善，但支持曝光装置分辨率的频谱仍能确保与 GT40A 同等性能。</p>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong><strong><strong>可靠性、稳定性</strong></strong></strong></strong></strong></h4>



<p>以实绩卓越的 GT40A 的平台进行设计，寻求极限共享化，从装置导入起便能期待高度可靠性，能让您安心使用。<br>此外，除了 GT40A 新导入的高级自我诊断功能外，还新增提升装置有效性（Availability）的参数优化功能。可确保包含 GT 系列最大的优势－－模块可交换性在内的服务性，并实现半导体工厂不可或缺的高可靠性、高劳动效率。</p>



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<h3 class="wp-block-heading"><strong>主要规格</strong></h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>规格项目</th><th><strong>值</strong>*</th></tr></thead><tbody><tr><td>发射波长</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均输出功率</td><td>60 W</td></tr><tr><td>脉冲能量</td><td>10.0 mJ</td></tr><tr><td>发射频率</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>光谱线宽（FWHM）</td><td>0.2 pm</td></tr><tr><td>光谱幅度（以 95 %能量累计，E95）</td><td>0.5 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 上述各规格值为代表值</figcaption></figure>



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GT66AGT66A

满足进一步技术要求的浸没式光刻光源

主要特点

改善最尖端节点的成品率

高水平的可用性

提供可持续发展解决方案

主要规格

Other ArF Immersion