ギガフォトン、レーザー学会産業賞 優秀賞受賞

2019年5月24日

10年ぶり、2回目 ArFエキシマレーザー研究開発と実用化の
進化と発展が認められて

   2019年4月1日、ギガフォトンは「ArF Immersion リソグラフィ用レーザーGT6XAシリーズおよび各種オプションユニット群の研究開発とその実用化」をテーマに、「2019年度 第11回レーザー学会産業賞 優秀賞」を受賞し、4月25日にパシフィコ横浜にて行われた授賞式に溝口CTOと歴代レーザー開発部長の4名が出席しました。ギガフォトンの同賞受賞は2009年の第1回に続き10年ぶり、2回目となります。

   レーザー学会産業賞は一般社団法人レーザー学会が主催するもので、レーザーに関する製品・技術の開発、実用化、普及などにおいて国内のレーザー関連産業の発展に貢献しうる優秀なものに対し、優秀賞・奨励賞・貢献賞がそれぞれあたえられ、ギガフォトンは最高位の優秀賞を受賞しました。受賞対象となった「ArF Immersion リソグラフィ用レーザーGT6XAシリーズおよびオプション群」は、前回受賞した「インジェクションロックArFエキシマレーザーGT62A」のプラットフォームであり、この10年間でギガフォトンの技術の急速な進化・発展を可能にしました。その結果、お客様を始めとする産業界に広く受け入れられ高シェアを獲得し、それらのことが学会からも評価され今回の受賞に繋がりました。

   代表取締役副社長兼CTO溝口計はこうコメントしています。
「ギガフォトンのインジェクションロック式ArFエキシマレーザーは、2005年に製品化に成功し、前回受賞したGT62Aでマーケットに広く受け入れられました。その後もGTシリーズは2018年までにGT65Aまでモデルチェンジを続け、今や世界中の半導体工場において先端リソグラフィ工程に必要不可欠な主力光源として365日24時間絶え間なく使われています。また、ユーザーのニーズを取り込んだオプションモジュールも多大な支持を頂いております。
今回の受賞は、我々が研究・実用化した半導体リソグラフィ用ArFエキシマレーザーが業界の中で先導的役割を担い貢献したことに加え、この10年間におよぶギガフォトンのGTシリーズへの絶え間ない開発努力とその成果に対して頂いたものと考えており、感謝に堪えません。
レーザー学会関係者の皆様、経済産業省、NEDOの皆様、および実務に携わってきたギガフォトン社員に、この場を借りて感謝を申し上げます。我々は今後もエキシマレーザーを軸に、さらにユニークで画期的な技術を研究・開発し世界の産業技術の発展に貢献していきたいと思います。」
 

受賞会場にて:左から藤本執行役員、溝口副社長、松永執行役員、仏師田執行役員

 
 

受賞式にて:集合写真