栃木県小山市；2026年6月26日、半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 榎波龍雄）は、2026年7月2日(木)、3日(金)に東京科学大学大岡山キャンパス（東京都大田区）で開催される、「ワークショップNGL2026」に参加し、論文発表を行います。

皆さまのお越しをお待ちしております。

記

概要

学会名ワークショップNGL2026
イベントURLhttps://annex.jsap.or.jp/NGL/
開催日2026年7月2日(木)・7月3日(金)
会場東京科学大学　大岡山キャンパス
70 年記念講堂（受付・口頭講演）・蔵前会館（ポスター）
（〒152-0033 東京都目黒区大岡山２丁目１２−１）
論文タイトル・
発表者		オーラルプレゼンテーション

7/2(木) 14:20
Process Window Optimization in ArFi Lithography Considering EPE and Laser Spectrum, and Gigaphoton’s Rare Gas Solutions
古巻貴光（ギガフォトン）
 
7/2(木) 14:45
アドバンスドパッケージ向けKrFレーザ加工
諏訪 輝, 籾山 大輔, 綿地 寛太, 田中 智就, 根本 道明, 川筋 康文（ギガフォトン）


ポスターセッション（7/2(木) 17:25-18:25）

P1
Reduction of LER/LWR through Resist Optimization and Widening of Laser Spectral Width: Process Window Acquisition
小林 俊博1, 藤井 光一1, 古巻 貴光1, 熊﨑 貴仁1, 柿崎 弘司1, 邱 湘雅2, 安江 里紗2, 向井 優一2, 鈴木 雄喜2 （１. ギガフォトン, ２. 住友化学）
 
P2
Reducing Power Consumption of Excimer Lasers to Cut Greenhouse Gas Emissions in Lithography Processes
Takuya Ogawa, Youichi Yamanouchi, Youichi Sasaki, Makoto Tanaka, Tsukasa Hori, Kouji Kakizaki (Gigaphoton Inc.)
 
P3
Excimer laser gas usage reduction technology for semiconductor manufacturing
Ryouta Kujira, Takeru Niinuma, Masanori Yashiro, Hiroyuki Nogawa, Hiroshi Umeda, Katsuhiko Wakana, Satoshi Tanaka and Hiroaki Nakarai.(Gigaphoton.Inc)
 
P28
検査装置用高輝度・小型LPP-EUV光源
鈴木 千晴, 宮下 光太郎, 菅沼 崇, 岩本 文男, 永井 伸治, 宮尾 憲一, 林 英行, 石井 卓也, 植野 能史,
阿部 保, 半井 宏明 (ギガフォトン)
 

以上

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ギガフォトン株式会社　経営企画部
Eメール: web_info@gigaphoton.com