栃木県小山市；2026年8月28日、半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 榎波龍雄）は、2026年9月8日(火)から11日(金)に米国カリフォルニア州で開催される、「SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2026」に参加し、論文発表を行います。
SPIE Photomask Technology + EUV Lithographyは、フォトマスク技術およびEUVリソグラフィ分野における主要な国際会議です。ギガフォトンは、本会議において、Actinic検査向け高輝度・小型LPP-EUV光源に関する新機能の開発成果を発表します。この発表を通じて、EUVマスク検査分野におけるギガフォトンの技術力と取り組みを紹介します。
皆さまのお越しをお待ちしております。
記
概要
| 学会名 | SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2026 |
| イベントURL | https://spie.org/conferences-and-exhibitions/photomask-technology-and-extreme-ultraviolet-lithography |
| 開催日 | 2026年9月8日(火)～9月11日(金) |
| 会場 | Monterey Conference Center One Portola Plaza, Monterey, CA 93940, United States |
| 論文タイトル・ 発表者 | ポスター発表 2026年9月8日(火)18:00～19:30 High-brightness and compact LPP-EUV light source for inspection systems（14273-64） 佐藤 守、菅沼 崇、岩本 文男、永井 伸治、宮尾 憲一、 石井 卓也、林 英行、植野 能史、阿部 保、半井 宏明（ギガフォトン） |
以上
| 報道関係者向けの連絡窓口： ギガフォトン株式会社 経営企画部 Eメール: web_info@gigaphoton.com |