レーザ加工用高出力KrF

高出力KrF

ArF Immersion

ArF Dry

ソフトウェア


<h2 class="wp-block-heading" id="130-nm以下ノードに対応する-4-khz-krf-エキシマレーザ">0.13 μmデザインルールに対応する2 kHz KrFエキシマレーザ</h2>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主な特長">主な特長</h3>



<ul class="wp-block-list"><li>定評あるG20Kのエネルギー安定性をさらに向上</li><li>狭帯域化光学系の改良により、0.13 µm技術ノードのリソグラフィプロセスに対応する超狭帯域化性能:スペクトル半値0.5 pmを実現</li></ul>
</div></div>
</div></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主な仕様">主な仕様</h3>



<figure class="wp-block-table"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>項目</th><th>値<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>発振波長</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均出力</td><td>20 W</td></tr><tr><td>パルスエネルギー</td><td>10.0 mj</td></tr><tr><td>発振周波数</td><td>2,000 Hz</td></tr><tr><td>スペクトル幅（FWHM）</td><td>0.5 pm</td></tr><tr><td>スペクトル幅（95 %エネルギー積算-E95）</td><td>1.4 pm</td></tr><tr><td>積算エネルギー安定性</td><td>0.35%</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>
</div></div>


G21K

<div class="wp-block-image">
<figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G300K_500.png" alt="G300K" class="wp-image-7601" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G300K_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G300K_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G300K_500-150x150.png 150w" sizes="auto, (max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>


<p></p>



<h2 class="wp-block-heading" id="giganexシリーズ新製品-次世代微細アブレーション加工用300w-krfレーザー-高出力-高信頼性のcoo低減対応モデル">次世代微細アブレーション加工用300W KrFレーザー。高出力、高信頼性のCOO低減対応モデル</h2>



<p>KrFレーザー「G300K」は微細アブレーション等の「加工の最適化」をコンセプトとして、高出力、99％以上の高稼働率を維持しながら、お客様のROI最大化を実現したモデルです。累計出荷実績900台以上となる当社の半導体リソグラフィ用KrF光源G41Kを基本プラットフォームとして採用し、高出力に最適化された電源、レーザチャンバーを新規開発し、搭載致しました。これにより、半導体製造バックエンド工程における次世代微細アブレーション加工において、生産性向上とCOO低減によるお客様のROI最大化をサポートします。</p>



<hr class="wp-block-separator has-css-opacity"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主な特長">主な特長</h3>



<h4 class="wp-block-heading" id="高繰返し-高出力"><strong>高繰返し、高出力</strong></h4>



<p>加工用KrFレーザーとして、唯一となる4000Hzの高繰返し、300Wの高出力を達成。従来のUVレーザーでは実現不可能領域での微細アブレーション加工が可能となります。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="高い稼働率"><strong>高い稼働率</strong></h4>



<p>半導体リソグラフィKrF光源として、900台以上の実績を誇るG41Kの信頼性をそのままに、99 %以上の高稼働を実現します。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="長寿命"><strong>長寿命</strong></h4>



<p>半導体製造光源で培った生産性に耐えうるモジュール寿命をそのままに、長いメンテナンスサイクルを保有することで、お客様の歩留まり向上とメンテナンスコストの削減をサポートします。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading" id="主な仕様">主な仕様</h3>


<figure class="wp-block-table">
<table class="has-fixed-layout">
<thead>
<tr>
<th>項目</th>
<th colspan="2">値<sup>*</sup></th>
</tr>
</thead>
<tbody>
<tr>
<td>発振波長</td>
<td colspan="2">248 nm</td>
</tr>
<tr>
<td>平均出力</td>
<td>75W</td>
<td>300W</td>
</tr>
<tr>
<td>パルスエネルギー</td>
<td>75mJ</td>
<td>75mJ</td>
</tr>
<tr>
<td>発振周波数</td>
<td>1000Hz</td>
<td>4000Hz</td>
</tr>
<tr>
<td>用途</td>
<td colspan="2">次世代微細アブレーション加工</td>
</tr>
</tbody>
</table><figcaption>(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>

G300K


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G60K_500.png" alt="G60K" class="wp-image-7600" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G60K_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G60K_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G60K_500-150x150.png 150w" sizes="auto, (max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">従来の150%の高出力を実現し、将来のさらなる出力要求に対応するKrF露光用光源</h2>



<p>ギガフォトンの長年の技術と経験の蓄積を踏襲した製品であるKrF光源技術をベースに、スキャナースループット300枚/h以上に対応するKrF露光用光源G60Kは、従来比150%出力を可能にし、さらに、モジュール寿命を最大200%延命することで、アベイラビリティの改善を提供します。また、新規開発の電源とモジュールにより、将来の高出力化に備えた高周波数化などの性能向上にも対応する拡張性を兼ね備えており、今後のKrF露光技術の要求にも対応します。また、ヘリウムフリー技術も標準搭載で、ユーティリティの消費量削減にも貢献します。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading">主な特長</h3>



<h4 class="wp-block-heading"><strong>スキャナースループット300枚/h対応高出力化</strong></h4>



<p>新型電源ユニットを導入することで、従来比150%となる60Wの出力を可能にしました。これにより、厚膜レジスト等の低感度レジストにおいてもスループットロスを抑え、かつさらなる生産性向上に貢献します。</p>



<h4 class="wp-block-heading"><strong>既に実績のある99.9%以上のアベイラビリティ対応技術の踏襲</strong></h4>



<p>フィールドでの高いアベイラビリティや性能の安定性においてお客様から高い評価を得ているモデル、G41Kの技術をベースに、全ての出力域で99.9%以上のアベイラビリティを実現します。さらに、新技術を投入することでモジュール寿命を200%延長し、アベイラビリティ向上を提供します。</p>



<h4 class="wp-block-heading"><strong>サステナビリティソリューションの提供</strong></h4>



<p>ヘリウムフリー技術の標準装備で、希ガスの供給不足リスクに備えるほか、ユーティリティの消費量削減技術により環境にも配慮した光源です。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading"><strong>主な仕様</strong></h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>項目</th><th>値<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>発振波長</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>出力</td><td>40W &#8211; 60W</td></tr><tr><td>パルスエネルギー</td><td>10mJ &#8211; 15mJ</td></tr><tr><td>発振周波数</td><td>4000Hz</td></tr><tr><td>特徴</td><td>Continuous Reliability Improvement (CRI) Package<br>サステナビリティソリューション<br>・Helium Free Operation<br>・TGM Gas Management</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>
</div></div>


G60K


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img decoding="async" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G45K_500.png" alt="G45K" class="wp-image-7620"/></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading" id="50w対応4khz-krfエキシマレーザー">50W対応4kHz KrFエキシマレーザー</h2>



<p>4kHz KrFエキシマレーザーシリーズの第3世代モデル、G45Kは最先端メモリチップ生産効率向上に向けた、最大50Wの高出力モデルです。さらにモジュール寿命延長と、グリーンテクノロジーによって「稼働率向上」と「環境負荷軽減」を両立します。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主な特長">主な特長</h3>



<h4 class="wp-block-heading" id="高出力化">高出力化</h4>



<p>従来比+25%の高出力パワー50Wを実現しました。最先端メモリチップの生産性向上に寄与します。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="モジュール寿命延長">モジュール寿命延長</h4>



<p>主要モジュールの寿命を20%延長させ、メンテナンスによるダウンタイム低減を実現しました。これにより装置稼働率のさらなる向上が期待できます。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="グリーンテクノロジー">グリーンテクノロジー</h4>



<p>装置稼働中のヘリウムの使用量をゼロにする“ヘリウムフリー”を標準搭載、またネオンガスリサイクルシステム“hTGM”を接続させることにより、オペレーションコストの削減と環境負荷の軽減に寄与します。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主仕様"><strong>主仕様</strong></h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>項目</th><th>値<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>発振波長</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均出力</td><td>40 W – 50 W</td></tr><tr><td>パルスエネルギー</td><td>10.0 &#8211; 12.5 mJ</td></tr><tr><td>発振周波数</td><td>4,000 Hz</td></tr><tr><td>スペクトル幅（FWHM）</td><td>0.35 pm</td></tr><tr><td>スペクトル幅（95 %エネルギー積算-E95）</td><td>1.1 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>
</div></div>


G45K


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G41K_500.png" alt="" class="wp-image-7648" srcset="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G41K_500.png 500w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G41K_500-300x300.png 300w, https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/G41K_500-150x150.png 150w" sizes="auto, (max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading" id="130-nm以下ノードに対応する-4-khz-krf-エキシマレーザ">130 nm以下ノードに対応する 4 kHz KrF エキシマレーザ</h2>



<p>4kHz KrFエキシマレーザシリーズの第2世代モデルであるG41Kに対し、磁気浮上レーザチ ャンバ、高効率LNM、MMを標準搭載したモデルとなります。<br>高効率により1ランク上の40 W出力を達成。更なるドーズを要求する先端露光プロセスに 対応します。光学モジュールは30ビリオンパルスの長寿命化を達成（当社G41Kに対し50 %アップ）。<br>G41KからG41K-1Hへは、モジュール交換によりフィールドでのアップグレードが可能とな っています。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主な特長">主な特長</h3>



<ul class="wp-block-list"><li>G41Kの更なる高効率化により40 Wの高出力／超低CoOを実現</li><li>TGMソフトウェアにより、ガスライフを従来比100%延長可能</li><li>数百台の市場稼動レーザが示す、圧倒的に高い信頼性e field</li></ul>
</div></div>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主な仕様">主な仕様</h3>



<figure class="wp-block-table"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>項目</th><th>値<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>発振波長</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均出力</td><td>40 W</td></tr><tr><td>パルスエネルギー</td><td>10.0 mj</td></tr><tr><td>発振周波数</td><td>4,000 Hz</td></tr><tr><td>スペクトル幅（FWHM）</td><td>0.35 pm</td></tr><tr><td>スペクトル幅（95 %エネルギー積算-E95）</td><td>1.1 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>
</div></div>


G41K-1H


<h2 class="wp-block-heading" id="130-nm以下ノードに対応する-4-khz-krf-エキシマレーザ">0.18 μmデザインルールに対応する 2 kHz KrFエキシマレーザ</h2>



<p>G20Kは、エネルギー安定性±0.4 %、半値0.6 pm以下の狭いスペクトル線幅により、0.18 μmノードのリソグラフィでの高解像度に対応します。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主な特長">主な特長</h3>



<ul class="wp-block-list"><li>発振周波数を、G10Kの1000 Hzから2000 Hzに引き上げ、高スループットを実現</li><li>レーザ発振の安定性とモジュール耐久性を大幅に向上し、更なるCoO（パルスあたりのランニングコスト）低減を達成</li><li>G10Kに比べ、設置床面積を14 %縮小したコンパクトな筐体</li><li>新設計の固体パルス電源モジュールにより、電力消費量を20 %削減</li></ul>
</div></div>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主な仕様">主な仕様</h3>



<figure class="wp-block-table"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>項目</th><th>値<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>発振波長</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均出力</td><td>20 W</td></tr><tr><td>パルスエネルギー</td><td>10.0 mj</td></tr><tr><td>発振周波数</td><td>2,000 Hz</td></tr><tr><td>スペクトル幅（FWHM）</td><td>0.6 pm</td></tr><tr><td>スペクトル幅（95 %エネルギー積算-E95）</td><td>2.0 pm</td></tr><tr><td>積算エネルギー安定性</td><td>0.4%</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>
</div></div>


G20K


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="186" height="200" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2013/02/g10k.jpg" alt="G10K" class="wp-image-719"/></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading" id="130-nm以下ノードに対応する-4-khz-krf-エキシマレーザ">0.25 μm &#8211; 0.18 μmデザインルールに対応する1 kHzエキシマレーザ</h2>



<p>エキシマレーザは、フッ素・高電圧放電・深紫外光という、化学反応性の強い要素を使用するため、安定性と耐久性の実現が最大の技術課題でした。露光用エキシマレーザには、この性能に加えて光の高度な単色性と出力エネルギーの均一性が求められます。</p>



<p>G10Kは、これらの難しい課題を初めて解決したエキシマレーザとして、1997年の発売開始よりその画期的な安定稼働と性能がリソグラフィ光源市場で高く評価され、現在もフィールドで活躍しています。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主な特長">主な特長</h3>



<ul class="wp-block-list"><li>安定発振と高耐久性により、高い稼働率と経済性を実現</li><li>独自のRF予備電離方式、新型高電圧パルス電源の開発により、発振の安定性を大幅に改善し、同時に耐久性能も大幅に向上</li><li>各構成モジュールの余裕ある性能実現と、全部品・全工程での徹底した品質保証体制により、製品の高信頼性を確保</li></ul>
</div></div>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group"><div class="wp-block-group__inner-container is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow">
<h3 class="wp-block-heading" id="主な仕様">主な仕様</h3>



<figure class="wp-block-table"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>項目</th><th>値<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>発振波長</td><td>248 nm</td></tr><tr><td>平均出力</td><td>10 W</td></tr><tr><td>パルスエネルギー</td><td>10.0 mj</td></tr><tr><td>発振周波数</td><td>1,000 Hz</td></tr><tr><td>スペクトル幅（FWHM）</td><td>0.6 pm</td></tr><tr><td>スペクトル幅（95 %エネルギー積算-E95）</td><td>2.0 pm</td></tr><tr><td>積算エネルギー安定性</td><td>0.5 %</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>
</div></div>


G21KG21K

0.13 μmデザインルールに対応する2 kHz KrFエキシマレーザ

主な特長

主な仕様

その他のKrF

G300K

G60K

G45K

G41K-1H

G20K

G10K

項目	値^*
発振波長	248 nm
平均出力	20 W
パルスエネルギー	10.0 mj
発振周波数	2,000 Hz
スペクトル幅（FWHM）	0.5 pm
スペクトル幅（95 %エネルギー積算-E95）	1.4 pm
積算エネルギー安定性	0.35%