このマイルストーン達成により、業界待望の量産レベルEUV露光用LPP光源の実現が前進

栃木県小山市；2014年2月17日—リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社は、EUV露光用プロトタイプLPP光源（LPP光源）2号機にて、100 KHz、43 Wの出力を実現したことを本日発表しました。また、発光効率（Conversion Efficiency: CE）としては2.4％を達成しました。これはLPP光源の性能が生産レベルまで達成したことを示す重要なマイルストーンです。ギガフォトンは2014年末までに、プロトタイプLPP光源を用いて150 Wの出力を、2015年までに、EUV量産(HVM)システムで250 Wの出力を達成することを目標にしています。

 ギガフォトンは、これまで、独自技術によるLPP光源の開発を追求してきました。今回の結果はプロトタイプLPP光源を用いて確認されたものです。このプロトタイプLPP光源は、すず（Sn）ドロップレットを、固体レーザーによるプリパルスとCO₂レーザーによるメインパルスで照射することでEUVを発光させ、また、高出力な超電導磁石とH₂ガスを用いたSnエッチングを組み合わせることにより、照射によるSnデブリの発生を抑制します。

 ギガフォトンは2002年から、高出力と安定性・経済性を追求した独自技術によるLPP光源の開発に取り組んでおり、20 μm以下の微小ドロップレットのオンデマンド供給、短波長の固体レーザーによるプリパルスとCO₂レーザーによるメインパルスの組み合わせ、磁場を使ったデブリ除去などユニークな方式を提案してきました。ギガフォトンでは今回の43 W達成を、ギガフォトンの高い技術力を証明すると共に、製品出荷へ向けての大きな一歩と位置づけています。

 ギガフォトンの提案するLPP光源技術は、微小ドロップレットを必要な時にのみ供給するオンデマンド供給であるため、ドロップレットジェネレーターの寿命を延長させ、コストとダウンタイムの削減を可能にします。又、短波長の固体レーザーによるプリパルスとCO₂レーザーによるメインパルスの最適な組み合わせにより、高い CEを実現することで、高効率で大出力のEUV出力を可能とします。更に、コレクターミラーの寿命を最大化するため、超電導磁石による磁場を用い、ドロップレットから発生するSnデブリをSnキャッチャーへガイドすることで除去し、更なるコストとダウンタイムの削減を実現します。

 ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの都丸仁氏はこうコメントしています。「今回の達成により、当社が従来から推進してきた、“高効率で高出力”かつ“低ランニングコストで安定に稼働する”LPP光源実現への、自信が持てる大きな成果が得られ、大変嬉しく思います。ギガフォトンは、お客様の半導体量産体制をサポートするため、業界が熱望するEUVフォトリソグラフィの量産化の実現に向けLPP光源技術開発を加速します。」

*本件は、独立行政法人　新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO)の助成事業の成果を活用しています。

 ギガフォトンについて

2000年に設立されて以来、ギガフォトンはアジア全体、米国およびヨーロッパ地域の主要半導体チップメーカーによって使用されるユーザーフレンドリで、高性能なDUVレーザー光源を開発、供給してきました。

 ギガフォトンの、特許を取得した革新的技術であるLPP EUVソリューションは、費用効果と生産性に優れたリソグラフィ光源の大量生産において先導的役割を果たしています。グローバルなビジネス展望を持って、ギガフォトンは、研究開発から製造までの事業のすべての局面においてエンドユーザーのニーズに焦点をあて、業界最高の信頼性と世界水準の顧客サポートでリソグラフィ光源を供給する世界Ｎｏ．1企業になるよう努力しています。詳細は、www.gigaphoton.comをご覧ください。

 報道関係者向けお問い合わせ先： 

New milestone moves industry closer to production-level LPP EUV light sources

Oyama, Japan; February 17, 2014 — Gigaphoton Inc., a major lithography light source manufacturer, announced today that it has achieved 43W output at 100kHz from its second prototype laser-produced plasma (LPP) light source for EUV lithography scanners. The 43W output was achieved at 2.4 percent conversion efficiency (CE). This result represents another critical milestone in achieving production-level laser system performance. Gigaphoton aims to achieve 150W output on its prototype system by the end of 2014, and 250W output on a full EUV high-volume manufacturing (HVM) system by 2015.

 Gigaphoton has been pursuing its own unique development of LLP light sources.  The milestone was confirmed using a prototype LPP system, which generates EUV light by irradiating tin (Sn) droplets with a solid-state, pre-pulse laser and a CO₂ main pulse laser. The tin debris generated from the irradiation is mitigated through the combination of a high-power, superconducting magnet and Sn etching using H₂ gas.

 Gigaphoton has focused on developing unique technologies that enable high-output, stable, and economical (cost-effective) LPP light sources since 2002. As a result, it has introduced multiple unique technologies, including 2 laser main pulse to irradiate an Sn droplet, and magnetic debris mitigation. The recent achievement exemplifies Gigaphoton’s highly advanced technical capabilities, which continue to bring the company closer to mass production of LPP light sources.

 Gigaphoton’s LPP light source technology extends the lifetime of the droplet generator by utilizing ultra-small tin droplets that are ejected on demand, resulting in longer life for parts and, ultimately, reduced downtime and cost. In addition, high EUV output CE is achieved through the optimized combination of short-wavelength, solid-state pre-pulse laser and CO₂ laser as the main pulse. This technology contributes to the real possibility of achieving efficient, high-output EUV light sources. In order to maximize the life of the collector mirror, a superconducting magnet generates a powerful magnetic field that guides the unwanted debris resulting from the thermal expansion of the tin droplets towards the tin catcher. This results in the further reduction of cost and downtime.

 “I am very excited about the huge progress we have made in realizing our vision of delivering a highly efficient, high-output, low-cost, stable LPP light source,” said Hitoshi Tomaru, President and CEO of Gigaphoton. “We will accelerate the development of our LPP light source to meet the industry’s intense demand for HVM-level EUV lithography tools.”

*This matter utilizes the achievement of subsidized program by NEDO（New Energy and Industrial Technology Development Organization）

 About Gigaphoton

Since its founding in 2000, Gigaphoton has developed and delivered user-friendly, high-performance DUV laser light sources used by major semiconductor chipmakers in the Pan-Asian, US and European regions.

 Gigaphoton’s patented, innovative LPP EUV technology solutions lead the way to cost-effective, highly productive lithography sources for high-volume production. With a global business outlook, Gigaphoton strives to be the world’s number-one lithography light source provider, focusing on end-user needs in every phase of its business, from research and development to manufacturing, to best-in-class reliability and world-class customer support. For more information please visit www.gigaphoton.com

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