EUV露光用LPP光源の量産化計画が前進

ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸仁、http://www.gigaphoton.com/）は、EUV露光用LPP光源(以下LPP光源)において、2時間の連続稼働を確認したと発表しました。

今回の2時間の連続稼働は、ギガフォトンにて開発中のプロトタイプLPP光源にて達成されました。

プロトタイプLPP光源にて、すず(Sn)ターゲット(ドロップレット)に対し、ダブルパルス(固体レーザーによるプリパルスと炭酸ガス（CO₂）レーザーによるメインパルス)を照射する事でEUV発光させ、デブリミティゲーションとして、磁場を使ったデブリ除去、H2ガスを用いたSnエッチングを組み合わせる事により、LPP光源システムとしての稼働を確認しています。

今回、平均出力として5W、EUV発光効率(Conversion Efficiency: CE)2%のEUV発光を確認しています。現状の市場におけるEUV光源出力は10W程度であり、今回ギガフォトンが達成した連続稼動出力は、プレプロダクションに適用可能なレベルでのシステムの連続稼働成功として重要なマイルストーンです。ギガフォトンは今後さらなる開発を進める事で、最終的に250Wを達成する予定です。

ギガフォトンは2002年から、高出力と安定性・経済性を追求した独自技術によるLPP光源の開発に取り組んでおり、20μm以下の微小ドロップレットのオンデマンド供給、短波長の固体レーザーによるプリパルスとCO₂レーザーによるメインパルスの組み合わせ、磁場を使ったデブリ除去などユニークな方式を提案してきました。ギガフォトンでは今回のプレプロダクションレベルの出力での連続稼働達成を、ギガフォトンの高い技術力の証明であると共に、LPP光源量産化へ向けての大きな一歩と位置づけています。

ギガフォトンの提案するLPP光源技術は、微小ドロップレットを必要な時にのみ供給するオンデマンド供給であるため、ドロップレートジェネレーターの寿命を延長させ、コストとダウンタイムの削減を可能にします。又、短波長の固体レーザーによるプリパルスとCO₂レーザーによるメインパルスの最適な組み合わせにより、高いEUV発光効率(Conversion Efficiency: CE)を実現することで、高効率で大出力のEUV出力を可能とします。更に、コレクターミラーの寿命を最大化するため、超電導磁石による磁場を用い、ドロップレットから発生するSnデブリをSnキャッチャーへガイドすることで除去し、更なるコストとダウンタイムの削減を実現します。

ギガフォトン代表取締役社長の都丸仁はこうコメントしています。「当社の独自技術を用いたLPP光源で2時間の連続稼働を実現出来た事を、非常に喜ばしく思います。これは、弊社の推進する、高出力、低ランニングコストで安定に稼働するLPP光源が実現に近づきつつ有る事を示す、着実な成果です。ギガフォトンは、お客様の半導体量産体制をサポートするため、業界の熱望するEUVフォトリソグラフィの量産化を実現に向けLPP光源技術開発に注力し続けます。」

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ギガフォトン株式会社（http://www.gigaphoton.com）は2000年の設立以来、世界トップクラスの露光用エキシマレーザーメーカーとして、日本を含むアジア市場、欧米市場の大手半導体メーカー各社に製品が採用されています。また、次世代のリソグラフィー技術として注目されているEUV光源に関しても、ギガフォトンの革新的な独自技術「LPP EUV」ソリューションは、次世代デバイスの量産での低コスト化、高生産化を実現する技術として、世界中の半導体メーカーから高い注目を集めています。ギガフォトンは、半導体量産体制を支え続ける露光光源メーカーとして、研究開発から製造・顧客サポートに至るすべての分野で、常に顧客の量産体制に貢献するソリューションの提供に最優先で取り組んでいます。

社名、ロゴは、ギガフォトン株式会社の商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。©2013 ギガフォトン

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Bringing us another step closer to reaching production level LPP EUV light sources

OYAMA, JAPAN; July 1, 2013 — Gigaphoton, Inc. a major lithography light source manufacturer, announced today that it has successfully achieved 2 hour continuous operation of its laser-produced plasma (LPP) light source for EUV lithography scanners.  This milestone was confirmed using a prototype LPP system which generates EUV light by irradiating Tin (Sn) Droplets with a solid-state pre-pulse laser and a CO₂ main pulse laser.  The Tin debris generated from the irradiation is mitigated through the combination of a high power superconducting magnet and Sn etching using H₂ gas.  The 2 hour continuous operation produced an averaged output power of 5W at 2% conversion efficiency (CE).  Considering the current commercially accepted EUV output level is around 10W, the results demonstrated by Gigaphoton represents that yet another critical milestone has been reached for achieving initial production level laser performance.  Gigaphoton is committed to continuing its development efforts targeting 250W output.

Gigaphoton has focused on developing unique technologies that enable high output, stable, and economical (cost effective) LPP light sources since 2002.  Since that time, Gigaphoton has introduced several unique technologies including the development of droplet-on-demand systems with each Tin droplet measuring less than 20μm, the combined use of short wavelength solid-state pre-pulse and CO₂ main pulse lasers, and the use of high power superconducting magnets for debris mitigation.  The recent achievement in reaching production level output can be attributed to Gigaphoton’s highly advanced technical capabilities and has brought the company one step closer to the mass production of LPP light sources.

The unique LPP light source technology introduced by Gigaphoton extends the lifetime of droplet generators by utilizing ultra-small Tin droplets on-demand, reducing downtime and cost.  In addition, high EUV output conversion efficiency has been achieved through the optimized combination of short wavelength solid-state pre-pulse laser and CO2 laser as the main pulse.  This technology contributes to the real possibility of achieving efficient, high output EUV light sources.  In order to maximize the life of the collector mirror, a superconducting magnet is used to generate a powerful magnetic field that guides the unwanted debris resulting from the thermal expansion of the Tin droplets towards the tin catcher.  This results in further reduction of cost and downtime.

“I am very pleased with the progress we have made in achieving 2 hours of continuous operation using our unique LPP light source technologies.  This further proves that our vision for high output, stable, and economical LPP light sources is real,” said Hitoshi Tomaru, President and CEO of Gigaphoton.  “We will continue our efforts to help to bring the industry closer to realizing EUV lithography tools for HVM.”

About Gigaphoton:
Since its founding in 2000, Gigaphoton has developed and delivered user-friendly, high-performance DUV laser light sources used by major semi-conductor chipmakers in the Pan-Asian, US and European regions.
Gigaphoton’s patented, innovative LPP EUV technology solutions lead the way to cost-effective, highly productive lithography sources for high-volume production. With a global business outlook, Gigaphoton strives to be the world’s number-one lithography light source provider, focusing on end-user needs in every phase of its business, from research and development to manufacturing to best-in-class reliability and world-class customer support. For more information please visit www.gigaphoton.com

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