ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、液浸のダブルパターニングに対応した露光装置用の光源として、インジェクションロック技術を搭載したArF（フッ化アルゴン）エキシマレーザの新製品「GT62A」（発振波長: 193 nm、出力: 90ワット、発振周波数: 6,000 Hz）を開発したと発表しました。すでにレーザテストを終えており、ギガフォトンでは2008年中頃から液浸露光装置に搭載されて半導体工場での稼動が開始されると見込んでいます。

今日の最先端半導体リソグラフィプロセスでは、45nmノードに対応する液浸リソグラフィ技術が量産に適用されつつあります。同時に次世代の32nmノードについては、液浸のダブルパターニングが最有力候補とされています。液浸ダブルパターニングの装置では露光の解像性能に加えて、経済性を高める観点から高スループット、高稼働率が求められます。光源のレーザに対してもさらなる高出力、高稼働率と同時に運転コストの低減への要求が一層高まっています。

ギガフォトンは、このような市場のリソグラフィーロードマップに対応して、2005年末に液浸露光用ArFエキシマレーザ「GT60A」(発振周波数: 6,000 Hz、出力: 60ワット)の量産出荷を開始しました。その後2006年末にはスペクトル性能を0.35 pm (E95%)まで高め、その安定化技術を業界で初めて標準搭載したGT61Aを出荷しました。
GT62Aは、GTシリーズの最新モデルで、インジェクションロック方式を採用したプラットフォームの4世代目にあたります。液浸ダブルパターニングをサポートするために、世界最高である90ワットの出力を提供します(注)。さらに、さまざまな顧客ニーズに対応するため60Wでの運転も可能となっており、システム導入時の対費用効果に優れています。
チャンバや光学部品などの消耗品の長寿命化技術、およびダウンタイムを最小にするギガフォトン独自の技術が搭載されており、経済面からも最先端プロセスの導入を支えます。
(注)　ギガフォトン独自調査による

GTシリーズはすでに各国の主要ユーザーに数多く受け入れられており、その設計思想・信頼性が高く評価されています。GT62Aは、これまでのGTシリーズと同じプラットフォーム上に設計されており、最大限の共通化が図られているため、ユーザーにとってその導入当初から高い信頼性が期待できます。

GT62Aの特長 
1.高出力・高安定性
新開発の電源を採用することにより、60ワットのGT61Aと比較して50%の向上を達成し、90ワットの高出力を実現しました。高出力化に伴って増大する熱負荷への対策技術、新開発の高耐久性の光学素子を搭載しており、高出力運転時にも性能の安定性が確保されています。また、ギガフォトン独自の技術であるBCM(Bandwidth Control Module）を標準装備しており、安定したスペクトルを提供します。
また、さまざまな顧客ニーズに対応するため、60ワット出力の仕様もラインナップしました。これにより導入当初はコストを抑えながら60ワット出力で運転を続け、将来必要になった時点で90ワットにアップグレードすることが可能となり、最適なタイミングで必要な投資をしながらご使用いただけます。

2.コストの削減
半導体製造装置は飛躍的なスピードで高性能化に加えて高スループット化が進んでいます。このような製造装置を最大限の稼働率で運転することがお客様の工場の生産性を高めることにつながると考え、ギガフォトンは長年に亘りあらゆる面からレーザの高稼働率を達成・維持するための活動を継続してきました。その技術はGTシリーズに搭載され、最新のGT62Aではガス交換によるダウンタイムを従来の10分の1にする技術や、チャンバ・光学素子を有効に使って実質寿命を延長することによりメンテナンス時間やコストを下げる技術が搭載されています。

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ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。

社名、ロゴは、株式会社ギガフォトンの商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。©2007 ギガフォトン

報道関係者お問合せ先
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TEL: 0285-28-8410　Email: hideichi_satou@gigaphoton.com

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ギガフォトン株式会社　第一営業部　松井 優達
TEL: 0285-28-8415　Email: sales@gigaphoton.com
http://www.gigaphoton.com/OYAMA, Japan, December 3, 2007 – Gigaphoton Inc., a major lithography light source manufacturer for the global semiconductor industry, has unveiled the newest addition to its argon fluoride (ArF) excimer laser light source portfolio, the GT62A.  With an emission wavelength of 193 nm, output of 90 W and repetition rate of 6,000 Hz, the GT62A is designed for double-patterning immersion lithography tools.  Having successfully completed testing, Gigaphoton expects the GT62A to be integrated into immersion lithography tools for production at major global semiconductor manufacturers beginning mid-2008.

In today’s advanced lithography processes, immersion lithography technology is ready to begin volume production at the 45-nm technology node.  Beyond that, double- patterning immersion lithography is considered to be the most promising technology to meet the requirements associated with the next-generation 32-nm technology node.  A double-patterning immersion lithography tool requires high throughput and high uptime to enhance economic efficiency, as well as offer high resolution capabilities.  This places strict demands on its light source as well—requiring that the laser delivers higher output and uptime at a lower operating cost.

In anticipation of these lithography roadmap requirements, Gigaphoton began volume production and shipment of the ArF excimer laser model “GT60A” (repetition rate: 6,000 Hz, output: 60 W) for immersion lithography tools at the end of 2005.  The company then unveiled the GT61A, which offered improved spectral bandwidth of 0.35 pm (E95%) and unprecedented stabilizing technology—a first for the industry.

The latest in the GT series, the GT62A is a fourth-generation model featuring the same injection-locking platform—delivering the world’s highest output of 90 watts to support double-patterning immersion lithography*.  In addition, the GT62A features an improved laser chamber and consumables life, such as optics.  Moreover, the tool’s technology allows for minimal down time—enabling the most advanced processing with less economical risk.

* Based on independent research by Gigaphoton Inc.

The GT series already has been accepted by major users in the global semiconductor industry, and its design and reliability have received wide acclamation. The GT62A is based on this same platform, which maximizes standardization as well as enables the use of common components—allowing users to benefit from its high reliability advantages right from the start.

Key Features of the GT62A:
1. High Output and High Reliability 
The GT62A features a newly developed power supply, which allows high output of 90 watts (a 50% improvement compared to the GT61A).  The light source is also mounted with a technology to take measures against the heat load, which increases as the output increases.  It also has new highly durable optics to ensure extremely reliable performance even during high-output operation.  The GT62A also comes standard with Gigaphoton’s original “Bandwidth Control Module (BCM)” technology to provide a stabilized spectrum.

In order to meet a variety of customer needs, a 60-W version of the GT62A is also available. This version allows a customer to operate at the 60-W mode at less cost and to upgrade to 90 watts when ready to scale, enabling flexibility and maximizing the return on investment.

2.  Cost Savings
Gigaphoton is committed to ensuring that its lasers deliver high uptime over a long period of time in order to enhance customer fab productivity.  The GT62A is mounted with technologies that allow the reduction of downtime caused by gas refill to one tenth of that compared to other former GT series models, and enables longer laser chamber and optics life—ultimately reducing maintenance downtime and costs.

Gigaphoton will have key executives available to discuss the new GT62A during SEMICON Japan 2007, which will start on Wednesday, December 5 and run through Friday, December 7, 2007, at Makuhari Messe, Chiba, Japan.  Editors/journalists are encouraged to visit the Gigaphoton booth, #4D-719, to learn more about the GT62A or the company.

About Gigaphoton
Gigaphoton Inc. was founded in 2000 as a joint venture of Komatsu Ltd., the world’s No. 2 construction machinery manufacturer, and Ushio Inc., the world’s No. 1 lithography lamp manufacturer. Since then, Gigaphoton has been developing and marketing user-friendly, highly innovative laser light sources that make a great contribution to lithography technology so as to meet the stringent requirements of the ultra-fine circuit patterns of the gigabit era, and delivering them to major lithography tool suppliers in the global semiconductor industry. As the No. 2 excimer laser light source manufacturer in the world, Gigaphoton has already grown to dominate the Asian market, including Japan, having the largest number of installed bases in the region of any major semiconductor device manufacturer. Gigaphoton also continues to enjoy rapid growth in the U.S. and European markets. More information about Gigaphoton can be found on the company’s website at: www.gigaphoton.com.

The company name, logo, and GT40A, GT60A, GT61A, and GT62A are trademarks of Gigaphoton, Inc. The content of this release may be revised without prior notice. Gigaphoton shall not be liable for updating or announcing a correction if the content of this release is changed for any reason in the future. ©2007 Gigaphoton