ギガフォトン、新製品「GT62A」を発表

ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ )は、液浸のダブルパターニングに対応した露光装置用の光源として、インジェクションロック技術を搭載したArF(フッ化アルゴン)エキシマレーザの新製品「GT62A」(発振波長: 193 nm、出力: 90ワット、発振周波数: 6,000 Hz)を開発したと発表しました。すでにレーザテストを終えており、ギガフォトンでは2008年中頃から液浸露光装置に搭載されて半導体工場での稼動が開始されると見込んでいます。

今日の最先端半導体リソグラフィプロセスでは、45nmノードに対応する液浸リソグラフィ技術が量産に適用されつつあります。同時に次世代の32nmノードについては、液浸のダブルパターニングが最有力候補とされています。液浸ダブルパターニングの装置では露光の解像性能に加えて、経済性を高める観点から高スループット、高稼働率が求められます。光源のレーザに対してもさらなる高出力、高稼働率と同時に運転コストの低減への要求が一層高まっています。

ギガフォトンは、このような市場のリソグラフィーロードマップに対応して、2005年末に液浸露光用ArFエキシマレーザ「GT60A」(発振周波数: 6,000 Hz、出力: 60ワット)の量産出荷を開始しました。その後2006年末にはスペクトル性能を0.35 pm (E95%)まで高め、その安定化技術を業界で初めて標準搭載したGT61Aを出荷しました。
GT62Aは、GTシリーズの最新モデルで、インジェクションロック方式を採用したプラットフォームの4世代目にあたります。液浸ダブルパターニングをサポートするために、世界最高である90ワットの出力を提供します(注)。さらに、さまざまな顧客ニーズに対応するため60Wでの運転も可能となっており、システム導入時の対費用効果に優れています。
チャンバや光学部品などの消耗品の長寿命化技術、およびダウンタイムを最小にするギガフォトン独自の技術が搭載されており、経済面からも最先端プロセスの導入を支えます。
(注) ギガフォトン独自調査による

GTシリーズはすでに各国の主要ユーザーに数多く受け入れられており、その設計思想・信頼性が高く評価されています。GT62Aは、これまでのGTシリーズと同じプラットフォーム上に設計されており、最大限の共通化が図られているため、ユーザーにとってその導入当初から高い信頼性が期待できます。

GT62Aの特長 
1.高出力・高安定性
新開発の電源を採用することにより、60ワットのGT61Aと比較して50%の向上を達成し、90ワットの高出力を実現しました。高出力化に伴って増大する熱負荷への対策技術、新開発の高耐久性の光学素子を搭載しており、高出力運転時にも性能の安定性が確保されています。また、ギガフォトン独自の技術であるBCM(Bandwidth Control Module)を標準装備しており、安定したスペクトルを提供します。
また、さまざまな顧客ニーズに対応するため、60ワット出力の仕様もラインナップしました。これにより導入当初はコストを抑えながら60ワット出力で運転を続け、将来必要になった時点で90ワットにアップグレードすることが可能となり、最適なタイミングで必要な投資をしながらご使用いただけます。

2.コストの削減
半導体製造装置は飛躍的なスピードで高性能化に加えて高スループット化が進んでいます。このような製造装置を最大限の稼働率で運転することがお客様の工場の生産性を高めることにつながると考え、ギガフォトンは長年に亘りあらゆる面からレーザの高稼働率を達成・維持するための活動を継続してきました。その技術はGTシリーズに搭載され、最新のGT62Aではガス交換によるダウンタイムを従来の10分の1にする技術や、チャンバ・光学素子を有効に使って実質寿命を延長することによりメンテナンス時間やコストを下げる技術が搭載されています。

仕様概要
発振波長 193 nm
発振周波数 6,000 Hz(最大)
パルスエネルギー 10.0/15.0 mJ
平均出力 60/90 W
スペクトル幅(95 %エネルギー積算) < 0.35 pm
モジュール保守間隔
レーザチャンバ交換(発振段) 200億パルス
レーザチャンバ交換(増幅段) 300億パルス
モニターモジュール交換 300億パルス
POフロントミラー交換 120億パルス
POリアミラー交換 120億パルス
フッ素トラップ交換 200サイクル

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ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。

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