SPIE Advanced Lithography 2007 速報 SPIEでの論文発表で業界がギガフォトンに熱視線

2月26日から3月2日迄、カリフォルニア州サンノゼで開催された、SPIE Advanced Lithography 2007において、ギガフォトンは、世界初のHyper N.A.液浸露光機に対応する6kHz露光用インジェクションロックArFエキシマレーザ「GT61A」とEUVAのメンバーとして開発中のEUV光源に関する論文発表で、同社の業界をリードする革新技術に世界中から集まった多くの研究者や業界関係者から熱い視線を浴びました。

  • 高N/A ArF液浸リソグラフィ装置向け極狭帯域インジェクションロックレーザ「GT61A」、スペクトル性能、0.3 pm以下を安定した制御で実現
    >> 論文プレゼン資料 SPIE 6520-75
  • EUVで40 Wパワーを達成、ウェーハ40枚/時間のスループットに匹敵(EUVA活動成果)
    >> 論文プレゼン資料 SPIE 6517-23
  • CO2レーザ励起によるLPPのデブリ軽減技術を開発、ランニングコストの低減とミラーの長寿命化を実現(EUVA活動成果)
    >> 論文ポスター SPIE 6517-123
  • フィールドで実証された45 nmノード液浸リソグラフィ向け高出力インジェクションロック6 kHz/60 Wレーザ「GT60A」の信頼性
    >> 論文ポスター SPIE 6520-111
  • ギガフォトンが開発した小フィールド露光装置(SFET)用光源(EUVA活動成果)
    >> 論文プレゼン資料 SPIE 6517-124