EUVリソグラフィ装置用のLPP光源として量産レベルを達成 EUVの実用化に貢献

栃木県小山市; 2015217リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社は、現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ(LPP)光源のプロトタイプ機において、半導体量産対応レベルの出力140W、デューティーサイクル50%にて連続運転を達成したと本日発表しました。

この成果は、これまでギガフォトンが開発を続けてきた、20μm以下の微小ドロップレットの供給技術、固体レーザーによるプリパルスとCO2レーザーによるメインパルスの組み合わせ、磁場を使ったデブリ除去技術を、より進化させたことによって達成されました。ギガフォトンが達成した140W、デューティーサイクル50%連続運転というこの数値は、量産対応EUVスキャナーの実現が最終段階にさしかかったことを意味しています。今後ギガフォトンでは、プロトタイプLPP光源で2015年末までに、メモリー等への量産対応目安である250Wレベルの達成を目指して更なる研究開発に取り組んでいきます。 ギガフォトン代表取締役社長兼CEOである都丸仁氏は、次のようにコメントしています。 「出力140W、デューティーサイクル50%での連続運転に成功したことは、半導体量産工場が待望する高出力、低ランニングコストで安定稼働が可能なLPP光源の完成が間近であること示しています。ギガフォトンの高度な技術力と量産に向けた開発努力が、量産用EUVリソグラフィスキャナーの開発を加速させ、次世代露光技術としてのEUVスキャナーの導入時期を一層早めると確信しております」。

本件を含むギガフォトンの最新のEUV光源開発状況については、2月22日から26日まで米国San Joseで開催されるEUVリソグラフィに関する国際シンポジウム(SPIE Advanced Lithography)で発表予定です。

*本件は、独立行政法人「新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)」の助成プログラムの成果を活用しています。

ギガフォトンについて

2000年に設立されて以来、ギガフォトンはアジア全体、米国およびヨーロッパ地域の主要半導体メーカーによって使用されるユーザーフレンドリーな、高性能DUVレーザー光源を開発、供給してきました。

ギガフォトンの、特許を取得した革新的技術であるLPP EUVソリューションは、費用対効果と生産性に優れた量産向けEUVスキャナーの実現に向けて先導的役割を果たしています。グローバルなビジネス展望を持って、ギガフォトンは、研究開発から製造までのあらゆる事業分野においてエンドユーザーのニーズに焦点をあて、業界最高の信頼性と世界水準の顧客サポートでリソグラフィ光源を供給する世界No. 1企業を目指します。詳細は、http://www.gigaphoton.comをご覧ください。

 

報道関係者向けの連絡窓口

寺嶋克知

ギガフォトン株式会社

経営企画部

TEL: 0285-37-6931

Eメール: web_info@gigaphoton.com

 

Further contributing to the realization of a mass production-quality LPP light source for EUV scanners

OYAMA, JAPAN; February 17, 2015 — Gigaphoton Inc., a major lithography light source manufacturer, announced today that it has successfully achieved continuous operation of 140W EUV light source at 50 percent duty cycle on its prototype laser-produced plasma (LPP) light sources for EUV lithography scanners.  It is widely believed that 140W is the output power required by EUV light sources for mass production applications.

 This achievement was a result of further advancements in key technologies developed by Gigaphoton, such as Droplet Generators capable of producing tin (Sn) droplets smaller than 20 μm in diameter, the single-wavelength, solid-state pre-pulse laser and main pulse CO2 laser, and the debris mitigation technology using high-output superconducting magnets and Sn etching.  The achievement of 140W continuous operation output at 50 percent duty cycle symbolizes that the industry is close to its final stages in realizing mass production-capable EUV scanners.  Gigaphoton remains committed to further continuing its R&D efforts and aims to achieve 250W output by the end of 2015.

  “The achievement of continuous operation, 140W output at 50 percent duty cycle, with our EUV light source proves we are very close to achieving high power, low cost, and stable LPP light sources required by our customers,” said Hitoshi Tomaru, President and CEO of Gigaphoton. “I believe that Gigaphoton’s expertise and efforts to develop the LPP light source will accelerate the development of EUV scanners for high-volume manufacturing.  This achievement also serves to further encourage the industry to introduce EUV scanners as the next-generation lithography tools.”

Further details related to this press release will be presented at the SPIE Advanced Lithography Symposium held at the San Jose Convention Center from February 23 through 26, 2015.

 

This milestone was achieved as part of a program subsidized by New Energy and Industrial Technology Development Organization (NEDO).

 About Gigaphoton

Since the company’s establishment in the year 2000, Gigaphoton has developed and delivered highly reliable and high-performance DUV laser light sources to major semiconductor manufacturers worldwide.

Gigaphoton’s patented, innovative LPP EUV technology solutions lead the way to cost effective, highly productive lithography light sources for high-volume manufacturing.  With a global business outlook, Gigaphoton strives to become the world’s leading lithography light source provider, focusing on customer needs in every phase of its business, from research and development to manufacturing and world-class customer support. For further information visit http://www.gigaphoton.com.

 

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Katsutomo Terashima

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