A critical step forward in realizing LPP light sources for mass production EUV lithography equipment
OYAMA, JAPAN; February 18, 2013 — Gigaphoton, Inc. a major lithography light source manufacturer, announced today that the company has achieved EUV light output equivalent to maximum of 20W for its laser-produced plasma (LPP) light sources for EUV lithography scanners. This result was obtained by irradiating the Sn target (tin droplet) with a solid-state pre-pulse laser and a CO2 laser at 100kHz. An average EUV output of 10W was confirmed during operation. Considering that the current commercially accepted EUV output levels are around 10W, the results demonstrated by Gigaphoton represents that a critical milestone has been reached for pre-production level output. Gigaphoton is committed to continuing development efforts targeting 250W output.
Gigaphoton has focused on developing high output, stable, and economical LPP light sources since 2002. Since that time, Gigaphoton has introduced several unique technologies including the development of on-demand tin droplets generator with droplets measuring less than 20μm, the combining of short wavelength solid-state pre-pulse lasers and CO2 lasers as a main pulse and the utilization of magnetic field for debris mitigation.
The recent achievement in reaching production level output can be attributed to Gigaphoton’s highly advanced technical capabilities and has brought the company one step closer to mass production level LPP light sources. The latest details of Gigaphoton’s LPP light source technology will be presented at the SPIE Advanced Lithography 2013, being held in San Jose, California from February 24th through the 28th.
The unique LPP light source technology introduced by Gigaphoton extends the lifetime of droplet generators by utilizing ultra-small tin droplets on-demand, reducing downtime and cost. In addition, high EUV output conversion efficiency has been achieved through the optimized combination of short wavelength solid-state pre-pulse laser and CO2 laser as the main pulse. This technology contributes to the real possibility of achieving efficient, high output EUV light sources. In order to maximize the life of the collector mirror, a superconducting magnet is used to generate a powerful magnetic field that guides the unwanted debris resulting from the thermal expansion of the tin droplets towards the tin catcher. This results in further reduction of cost and downtime.
“The fact that our unique LPP light source technology is now able to achieve the level of EUV output matching that of today’s pre-production performance, proves that our vision for high output, low running cost, stable LPP light sources are indeed achievable,” said Hitoshi Tomaru, President and CEO of Gigaphoton. “Our efforts will help to bring the industry closer to realizing mass production level EUV lithography scanners. We are making firm progress towards our entry into the EUV light source business―focusing on technology development to accommodate the future industry needs.”
About Gigaphoton
Since its founding in 2000, Gigaphoton has developed and delivered user-friendly, high-performance DUV laser light sources used by major semi-conductor chipmakers in the Pan-Asian, US and European regions.
Gigaphoton’s patented, innovative LPP EUV technology solutions lead the way to cost-effective, highly productive lithography sources for high-volume production. With a global business outlook, Gigaphoton strives to be the world’s number-one lithography light source provider, focusing on end-user needs in every phase of its business, from research and development to manufacturing to best-in-class reliability and world-class customer support. Visit http://www.gigaphoton.com
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EUV露光用LPP光源の量産化計画が前進
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸仁、http://www.gigaphoton.com/）は、EUV露光用LPP光源(以下LPP光源)において、最大20W相当のEUV発光を確認したと発表しました。今回のEUV発光は、すず(Sn)ターゲット(ドロップレット)に対し、固体レーザーによるプリパルスと炭酸ガス（CO2）レーザーを100kHzにて照射する事により達成されました。平均出力としては、10WのEUV発光を確認しています。現状の市場におけるEUV光源出力は10W程度であり、今回ギガフォトンが達成した出力は、プレプロダクションに適用可能なレベルとして重要なマイルストーンです。ギガフォトンは今後さらなる開発を進める事で、最終的に250Wを達成する予定です。
ギガフォトンは2002年から、高出力と安定性・経済性を追求した独自技術によるLPP光源の開発に取り組んでおり、20μm以下の微小ドロップレットのオンデマンド供給、短波長の固体レーザーによるプリパルスとCO2レーザーによるメインパルスの組み合わせ、磁場を使ったデブリ除去などユニークな方式を提案してきました。ギガフォトンでは今回の量産レベルの出力達成を、ギガフォトンの高い技術力の証明であると共に、LPP光源量産化へ向けての大きな一歩と位置づけています。このギガフォトンのLPP光源技術については、2月24日から2月28日（米国時間）に、米国カリフォルニア州サンノゼで開催される先端リソグラフィの国際シンポジウム(SPIE Advanced Lithography 2013)で発表される予定です。
ギガフォトンの提案するLPP光源技術は、微小ドロップレットを必要な時にのみ供給するオンデマンド供給であるため、ドロップレートジェネレーターの寿命を延長させ、コストとダウンタイムの削減を可能にします。又、短波長の固体レーザーによるプリパルスとCO2レーザーによるメインパルスの最適な組み合わせにより、高いEUV発光効率(Conversion Efficiency: CE)を実現することで、高効率で大出力のEUV出力を可能とします。更に、コレクターミラーの寿命を最大化するため、超電導磁石による磁場を用い、ドロップレットから発生するSnデブリをSnキャッチャーへガイドすることで除去し、更なるコストとダウンタイムの削減を実現します。
ギガフォトン代表取締役社長の都丸仁はこうコメントしています。「当社の独自技術を用いたLPP光源でプレプロダクションに適用可能なレベルのEUV出力を確認出来ました。これは、市場の求める高出力、低ランニングコストで安定に稼働するLPP光源の実現に向けた、当社が進めるユニークな技術開発の着実な成果です。これにより、次世代露光技術としてのEUV露光装置導入の機運を一層高めるものと期待しています。ギガフォトンは、市場からのLPP光源出荷への要請に応えるため、技術開発に注力すると共に、EUVビジネスへの参入準備を着々と進めています。」
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ギガフォトン株式会社（http://www.gigaphoton.com）は2000年の設立以来、世界トップクラスの露光用エキシマレーザーメーカーとして、日本を含むアジア市場、欧米市場の大手半導体メーカー各社に製品が採用されています。また、次世代のリソグラフィ技術として注目されているEUV光源に関しても、ギガフォトンの革新的な独自技術「LPP EUV」ソリューションは、次世代デバイスの量産での低コスト化、高生産化を実現する技術として、世界中の半導体メーカーから高い注目を集めています。ギガフォトンは、世界一のリソグラフィ光源メーカーを目指し、研究開発から製造・顧客サポートに至るすべての分野で常に顧客の要求に最優先で取り組んでいます。
社名、ロゴは、ギガフォトン株式会社の商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。©2013 ギガフォトン
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