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March 20, 2019
Oyama, Tochigi; March 20, 2019 — GIGAPHOTON Inc. (Head Office: Oyama, Tochigi; President & CEO: Katsumi Uranaka), a manufacturer of light sources used in semiconductor lithography, has announced that it began shipping the G200K KrF light source for processing equipment, which has a maximum output of 200 W, in February 2019.
Gigaphoton announced the high-reliability excimer laser series ”GIGANEX” in 2016, which makes use of the high technological capabilities cultivated through semiconductor lithography; the GT600K excimer laser was released as the first product, for the annealing process in FPD manufacturing. This G200K KrF light source forprocessing equipment is the second product of “GIGANEX” series. The G200K, with a maximum output of 200 W, is providing high reliability by incorporating with technology for performance stabilization and module lifetime extension on Gigaphoton’s excimer laser basis, and is applied to processing equipment light source that will meet customer needs.
Katsumi Uranaka, President & CEO of Gigaphoton commented, “Gigaphoton’s ‘GIGANEX’ series is based on the concept of applying our long-cultivated excimer laser technology to practical applications in fields outside of semiconductor lithography. This time, we shipped the G200K as our second product of “GIGANEX” series to expand the product portfolio. Gigaphoton will continue to provide solutions through ‘GIGANEX’ to expand our contributions to the industrial world.”
About GIGAPHOTON
Since it was founded in 2000, GIGAPHOTON has delivered valuable solutions to semiconductor manufacturers throughout the world as a laser supplier. In every stage from R&D to manufacture, sales, and maintenance services, GIGAPHOTON is committed to providing world-class support delivered from the perspective of everyday users. For more information please visit www.gigaphoton.com
Media contact:
GIGAPHOTON Inc
Corporate Planning Division
Kenji Takahisa
TEL: +81-285-37-6931
E-mail: web_info@gigaphoton.com[:ja]
2019年3月20日
栃木県小山市; 2019年3月20日 —半導体リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、最大出力200Wの加工装置向けKrFレーザーG200Kを2019年2月に出荷したと発表しました。
ギガフォトンは、半導体リソグラフィで培った高い技術力を生かした高信頼性エキシマレーザー“GIGANEX”（ギガネックス）シリーズを2016年に発表、その第1弾としてFPD製造におけるアニール工程向けKrFレーザーGT600Kを発表しました。今回リリースした加工装置向けKrFレーザーG200Kは、その第2弾にあたります。最大出力200WのG200Kは、ギガフォトンのレーザー性能安定化技術とモジュール寿命延長技術を織り込むことで高い信頼性を実現し、お客様のニーズに応える加工装置向けレーザーとして期待されています。
ギガフォトン代表取締役社長の浦中克己はこうコメントしています。「ギガフォトンの“GIGANEX”は、我々の長年培ったエキシマレーザーの技術を、半導体リソグラフィ以外の分野に向けて応用するというコンセプトのもと、シリーズ化されています。今回その第2弾であるG200Kが出荷され、製品ラインナップを拡大しました。ギガフォトンは今後も“GIGANEX”によるソリューションを提供して、産業界に広く貢献していきます。」
ギガフォトンについて
2000年設立以来、ギガフォトンはレーザーサプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはwww.gigaphoton.comをご覧ください。
報道関係者向けの連絡窓口：
ギガフォトン株式会社
経営企画部
高久賢次
TEL: 0285-37-6931
Eメール: web_info@gigaphoton.com[:cs]
2019年3月20日
栃木县小山市；2019年3月20日 — 半导体光刻光源制造商GIGAPHOTON株式会社（总部：栃木县小山市、董事长兼总经理：浦中克己）宣布，自2019年2月开始出产最大输出级200W加工装置用KrF激光器G200K。
2016年，Gigaphoton宣布其利用自身长期以来在半导体光刻领域积累的技术实力成功开发出了可靠性较高的准分子激光器“GIGANEX”系列产品，第一代产品公布了面向FPD制造退火工序的KrF激光器GT600K。此次发布的加工装置用KrF激光器GT200K是该系列第二代产品。G200K最大输出功率达200W，采用Gigaphoton的激光性能稳定技术和模块寿命延长技术实现高可靠性，有望成为满足客户需求的加工装置用激光器。
Gigaphoton的董事长兼总经理浦中克己表示：“Gigaphoton的‘GIGANEX’秉持将在半导体光刻用准分子激光器领域长期积累的技术应用到其他领域的理念研制而成，已形成系列化产品。此次推出第二代产品G200K，扩大了产品阵容。Gigaphoton公司今后将继续提供‘GIGANEX’的解决方案，为产业界做出广泛贡献。”
GIGAPHOTON公司简介
GIGAPHOTON公司成立于2000年，作为一家激光器的供应商，自成立以来一直为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。GIGAPHOTON时刻以客户为中心，从产品研发到生产、销售及维护，为用户提供业界最高水准的支持。更为详细的介绍请您访问：www.gigaphoton.com。
新闻媒体专用联系窗口：
GIGAPHOTON株式会社
经营企划部
高久贤次
电话：+81-285-37-6931
邮箱：web_info@gigaphoton.com[:ct]
2019年3月20日
栃木縣小山市；2019年3月20日 — 半導體微影光源製造商Gigaphoton株式會社（總公司: 栃木縣小山市；總裁：浦中克己）公布，已於2019年2月開始推出最大輸出200W的加工裝置專用的KrF雷射器G200K。
Gigaphoton曾於2016年發表，運用半導體微影所培育高端技術能力的高可靠性準分子雷射「GIGANEX」（GIGANEX）系列，並在作為第1波推出的產品上，發表FPD製造領域的退火工程用KrF雷射器GT600K。本次發布的加工裝置專用KrF雷射器G200K，則屬於第2波產品。最大輸出達200W的G200K，透過納入Gigaphoton雷射器的性能安定化技術和延長模組壽命技術，實現高度可靠性，可望成為滿足客戶需求的加工裝置專用雷射器。
Gigaphoton總裁兼執行長浦中克己指出：「Gigaphoton的『GIGANEX』秉持將在半導體微影用準分子雷射器領域長年來培育的技術應用到其他領域的理念研制而成，已形成系列化產品。在本次第2波G200K的推波助瀾下，更進一步擴大產品陣容。Gigaphoton往後也將繼續藉由『GIGANEX』提供解決方案，以期為產業界奉獻一己之力。」
GIGAPHOTON公司簡介
GIGAPHOTON公司成立於2000年，作為一家雷射器的供應商，自成立以來一直為全球的半導體生產廠商提供有價值的解決方案。GIGAPHOTON時刻以客戶為中心，從產品研發到生產、銷售及維護，為用戶提供業界最高水準的支援。更為詳細的介紹請造訪：www.gigaphoton.com
新聞媒體專用聯絡窗口：
GIGAPHOTON株式會社
經營企劃部 高久賢次
電話： +81-285-37-6931
電子信箱： web_info@gigaphoton.com[:kr]
2019년 3월 20일
토치기현 오야마시; 2019년 2월 22일 —반도체 리소그래피 광원 제조업체인 기가포톤 주식회사(본사: 토치기현 오야마시, 대표이사 사장: 우라나카 카츠미)는 최대 출력 200W의 가공 장치용 KrF 레이저 G200K를 2019년 2월에 출하했다고 발표했습니다.
기가포톤은 반도체 리소그래피 분야에서 축적한 높은 기술력을 활용한 고신뢰성 엑시머 레이저 “GIGANEX”(기가넥스) 시리즈를 2016년에 발표, 제1탄으로 FPD 제조공정중 어닐용 KrF 레이저 GT600K를 발표했습니다. 이번에 출시한 가공 장치를 위한 KrF 레이저 G200K는 제2탄에 해당합니다. 최대 출력 200W의 G200K는 기가포톤의 레이저 성능 안정화 기술과 모듈 수명 연장 기술을 집약하여 높은 신뢰성을 실현하였으며, 고객의 요구에 부응하는 가공 장치용 레이저로 기대를 모으고 있습니다.
기가포톤 대표이사 사장인 우라나카 카츠미는 이와 같이 말하고 있습니다. ‘기가포톤의 “GIGANEX”는 우리가 오랜 기간 축적한 엑시머 레이저 기술을 반도체 리소그래피 이외의 분야에서 응용한다는 콘셉트를 바탕으로 시리즈화하고 있습니다. 이번에 제2탄인 G200K가 출하되어 제품 라인업을 확대했습니다. 기가포톤은 앞으로도 “GIGANEX”에 의한 솔루션을 제공하여 산업계에 널리 공헌해 나가겠습니다.’
기가포톤(Gigaphoton) 개요
기가포톤은 2000년 설립 이래 레이저 공급업체로서 반도체 제조사에 가치 있는 솔루션을 제공해왔다. 기가포톤은 초기 연구개발 단계부터 제조, 판매, 보수서비스에 이르기까지 사용자의 시각을 반영한 세계최고수준의 지원을 제공하고자 최선을 다하고 있다. 자세한 사항은 웹사이트(www.gigaphoton.com)에서 확인할 수 있다.
언론 연락처
기가포톤주식회사
경영기획부
타카히사 켄지
+81-285-37-6931
web_info@gigaphoton.com[:]