エキシマレーザや、193nm固体レーザを使った加工サンプルを展示

栃木県小山市；2026年4月17日、半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 榎波龍雄）は、2026年4月22日(水)から24日(金)にかけてパシフィコ横浜（神奈川県）で開催される、「OPTICS & PHOTONICS International Exhibition 2026」（以下、OPIE 2026）と、併催される学会「OPTICS & PHOTOINCS International Congress 2026」（以下、OPIC 2026）に参加し、ブース出展と論文発表を行います。

皆さまのお越しをお待ちしております。

記

ブース出展

イベント名OPTICS & PHOTONICS International Exhibition 2026 (OPIE 2026)
イベントURLhttps://www.opie.jp/
開催期間2026年4月22日(水)～24日（金）
会場パシフィコ横浜　展示ホールA-C・アネックスホール
（神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1）
出展ブースNo.C-41　「TACMIコンソーシアム」ブース内で展示

論文発表

学会名第6回スマートレーザプロセス国際会議 (SLPC2026)
※OPIC 2026内で開催
イベントURLhttps://opicon.jp/ja/conferences/slpc/
ギガフォトン発表日2026年4月23日(水) 13:00～（日本時間）
Short pulse & UV laser processing セッション内
会場パシフィコ横浜　会議センター　3F会議室311-312
（神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1）
論文タイトル・
発表者		以下の発表はShort pulse & UV laser processingの一部です。
 
[SLPC10-03]Measurement of Laser Induced-Ablation Threshold in Wide Bandgap Dielectrics Using 193 nm Solid State Laser
*Hiroaki Motosugi, Rikuo Koike, Hironori Igarashi, Atsushi Fuchimukai, Taisuke Miura (GIGAPHOTON INC.)
 
[SLPC10-04]Half A Minute Diagonal Hole Drilling on SiC-CMC Using Hybrid ArF Excimer Laser
*Takashi Onose, Hironori Igarashi, Rikuo Koike, Atsushi Fuchimukai, Taisuke Miura (GIGAPHOTON INC.)

以上

報道関係者向けの連絡窓口：

ギガフォトン株式会社 経営企画部
Eメール: web_info@gigaphoton.com