120Wの世界最高レベルの大出力と高い光性能・安定性を

「環境負荷低減」をコンセプトに極限まで抑制したトータルオペレーションコストで実現

ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸仁、www.gigaphoton.com)は、同社の、450mmウェハー・マルチパターニング対応液浸露光装置向けArFエキシマレーザー、「GT64A」の初号機を露光機メーカーへ出荷したと発表しました。

GT64Aは、ギガフォトンの進化し続けるArFプラットフォームにおける、更なる飛躍です。

お客様の半導体量産体制を支えるため、性能と効率の最大化を目指し開発されたGT64Aは、その優れたツインチャンバー・アーキテクチャー、出力コントロールアルゴリズムとビームアライメントテクノロジーを引き継ぐ事で、120Wの大出力、高い光性能・安定性を達成すると共に、世界トップクラスの信頼性、リカバリータイムとモジュール寿命を提供します。

GT64Aは、世界最高レベルのレーザー発振効率をベースに、450mmウェハー・マルチパターニング露光においても高いスループットを約束する120Wの大出力を実現します。出力の自動可変にも対応しており、お客様のプロセスに応じた最適な光量を供給可能としています。又、マルチパターニング露光においてより重要となる、高いパターン重ね合わせ精度(オーバーレィ)の実現、クリティカルディメンジョンの制御、そしてラインエッジラフネスの低減のため、全出力領域に渡り、高い安定性(エネルギ、スペクトル、ビーム形状)と長いパルス幅を達成しています。更に、開発コンセプトを「環境負荷低減」に置くことで、電気、ガス、冷却リソースの設備コストを極限まで抑制する事に成功。お客様の更なるArFエキシマレーザーへの装置性能向上、トータルオペレーションコスト削減への要望にお応えします。

ギガフォトン代表取締役社長の都丸仁はこうコメントしています。「激動する半導体露光装置業界に於いて、業界の健全な発展を支えるため量産時の性能と効率を最大化するエキシマレーザーを継続的に開発すると共に、世界トップクラスのサービス・サポートを提供する弊社の存在価値が益々高まってきています。この様な状況の中で、業界が待ち望んでいる450mmウェハー対応半導体露光装置向けエキシマレーザー、GT64Aの出荷を開始した事を非常に喜ばしく思います。又これは、加速する450mm量産化に向けた業界の活動と期待に大きく貢献する事でもあります。ギガフォトンは、これからも、お客様の半導体量産体制をサポートし続けます。」

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ギガフォトン株式会社(http://www.gigaphoton.com)は2000年の設立以来、世界トップクラスの露光用エキシマレーザーメーカーとして、日本を含むアジア市場、欧米市場の大手半導体メーカー各社に製品が採用されています。また、次世代のリソグラフィー技術として注目されているEUV光源に関しても、ギガフォトンの革新的な独自技術「LPP EUV」ソリューションは、次世代デバイスの量産での低コスト化、高生産化を実現する技術として、世界中の半導体メーカーから高い注目を集めています。ギガフォトンは、半導体量産体制を支え続ける露光光源メーカーとして、研究開発から製造・顧客サポートに至るすべての分野で、常に顧客の量産体制に貢献するソリューションの提供に最優先で取り組んでいます。

社名、ロゴは、ギガフォトン株式会社の商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。©2013 ギガフォトン

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報道関係者お問合せ先
ギガフォトン株式会社 経営企画部 寺嶋 克知
TEL: 0285-28-8410 Email: katsutomo_terashima@gigaphoton.com

記事掲載時の連絡先
ギガフォトン株式会社 営業部 久永 直人
TEL: 0285-28-8415 Email: sales@gigaphoton.com
http://www.gigaphoton.com/

Built around our “eco” concept, the GT64A pushes the limits of minimizing total operational cost while delivering the industry’s highest level power output (120W) and stability

OYAMA, JAPAN; July 1, 2013 — Gigaphoton, Inc. a major lithography light source manufacturer, announced today that it has completed delivery of its first ArF immersion Excimer laser supporting 450mm multi-patterning, the GT64A, to a major lithography scanner manufacturer.

This product is the latest advancement in Gigaphoton’s continuously evolving ArF platform – offering even greater levels of performance and efficiency to support the growing requirements of our customers’ High Volume Manufacturing (HVM) environment.  The product inherits proven “timeless” technologies from its predecessors such as the twin-chamber architecture, output control algorithm, and beam alignment technologies, and advances them further to achieve greater output power, beam performance and stability – offering customers the industry’s highest level of reliability, recovery time, and module life.

The GT64A, with its extremely high laser efficiency levels, can produce variable power outputs ranging from 90W to 120W for multi-patterning in 450-mm wafer production applications.  Power output can be automatically adjusted to optimal levels based on the scanner’s requirements and the customers’ process.  With its highly stable energy, spectral bandwidth, and beam profile, combined with longer pulse durations, the product offers greatly improved overlay accuracy, critical dimension control, and minimization of line edge roughness – all of which are extremely important for multi-patterning.

“To support the semiconductor industry’s health and growth during turbulent times, it is essential to our company’s existence that we continue to focus on delivering the most effective Excimer laser technology for HVM in conjunction with world-class support and services”, said Hitoshi Tomaru, President and CEO of Gigaphoton.  “With this in mind, I am very pleased we were able to deliver our first product designed to support the highly anticipated 450 mm wafer scanners.  This achievement also signifies our contribution to the industry’s goal of maturing 450mm technology – bringing us one step closer to HVM.”

About Gigaphoton:

Since its founding in 2000, Gigaphoton has developed and delivered user-friendly, high-performance DUV laser light sources used by major semi-conductor chipmakers in the Pan-Asian, US and European regions.

Gigaphoton’s patented, innovative LPP EUV technology solutions lead the way to cost-effective, highly productive lithography sources for high-volume production. With a global business outlook, Gigaphoton strives to be the world’s number-one lithography light source provider, focusing on end-user needs in every phase of its business, from research and development to manufacturing to best-in-class reliability and world-class customer support. For more information please visit www.gigaphoton.com

Media Contacts:

Katsumoto Terashima
Corporate Planning Division
P: +81-(0)285-28-8410
E: katsumoto_terashima@gigaphoton.com
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Naoto Hisanaga
Sales Division
P: +81-(0)285-28-8415
E: naoto_hisanaga@gigaphoton.com

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