平均15Wの出力も達成し、EUV露光用LPP光源の量産化計画が前進

 

ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸仁)は、三菱電機株式会社(本社: 東京都千代田区、執行役社長: 山西 健一郎)とEUV露光用光源(以下EUV光源)向けのドライバーCO2レーザーを共同開発しました。また、開発中のEUV光源においても、平均15Wの出力を達成し、当社は、EUV光源量産化に向け着実に前進しています。 

 今回のEUV光15Wの出力は、ギガフォトンにて開発中のプロトタイプEUV光源にて達成されました。        現在、市場における光源出力は10W程度ですが、この重要なマイルストーンである10Wを超えた出力を今回当社は達成しました。また、ドライバーCO2レーザーにおいては、既に20kW以上の出力を実験で達成し、これでEUV露光での本格的な半導体の量産に必要とされる、EUV光源出力250Wを実現するための必須技術が実現しました。

当社は2002年から、高効率、高出力、安定性と経済性を追求した独自技術で構成されたEUV光源の開発に取り組んでおり、そのユニークな技術は業界でも高く評価されています。当社では今回の成果を、当社の高い技術力の証明であると共にEUV光源量産化へ向けての大きな一歩と位置づけています。 

ギガフォトン代表取締役社長の都丸仁はこうコメントしています。「今回、当社独自のLPP 光源技術が量産で必要な出力レベル実現に向けて着実に進んでいること、また、三菱電機株式会社殿と共同開発したCO2レーザーでは量産に必要なレベルのパワーが実現できました事を、非常に喜ばしく思います。これは、弊社の推進する、Greenな、環境に配慮したEUV光源の実現に向けた、着実な成果です。ギガフォトンは、お客様の半導体量産体制をサポートするため、業界の熱望するEUVフォトリソグラフィの量産化実現に向けEUV光源技術開発に注力し続けます。」 

ギガフォトンは、環境にも配慮した高効率・高出力で安定したEUV光源を低コストで実現するため、ダブルパルス・レーザープロデューストプラズマ(LPP)方式、超電導磁石を使ったデブリ除去技術等、ユニークな独自技術によるEUV光源開発に取り組んでいます。                      EUV光源では、すず(Sn)ターゲット(ドロップレット)に対し、ドライバーレーザーから高エネルギーのパルスレーザー光を照射する事でSnをプラズマ化しEUV発光させます。EUV光源を実現するためには、EUV発光時の効率の向上、EUV発光時にドロップレットから発生するSnデブリの効率的な除去等が重要な課題となります。当社の提案するダブルパルスLPP方式は、ドライバーレーザーとして、短波長の固体レーザーによるプリパルスとCO2レーザーによるメインパルスを組み合わせる、ユニークな方式です。これらレーザーの最適な組み合わせにより、高いEUV発光効率を実現。高効率で大出力のEUV光源を可能とします。

また、デブリ除去技術として、超電導磁石による磁場を用いています。この磁場により、ドロップレットから発生するSnデブリをSnキャッチャーへガイドすることで、効率的に除去します。これにより、コレクターミラーの寿命を最大化し、コストとダウンタイムの抑制を実現します。

当社では、今後も更なる技術開発を継続し、EUV光源量産化の早期実現に注力していきます。

 ギガフォトンについて:

 ギガフォトン株式会社(http://www.gigaphoton.com)は2000年の設立以来、世界トップクラスの露光用エキシマレーザーメーカーとして、日本を含むアジア市場、欧米市場の大手半導体メーカー各社に製品が採用されています。また、次世代のリソグラフィー技術として注目されているEUV光源に関しても、ギガフォトンの革新的な独自技術「LPP EUV」ソリューションは、次世代デバイスの量産での低コスト化、高生産化を実現する技術として、世界中の半導体メーカーから高い注目を集めています。ギガフォトンは、半導体量産体制を支え続ける露光光源メーカーとして、研究開発から製造・顧客サポートに至るすべての分野で、常に顧客の量産体制に貢献するソリューションの提供に最優先で取り組んでいます。

 社名、ロゴは、ギガフォトン株式会社の商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。

 

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TEL: 0285-28-8410 Email: katsutomo_terashima@gigaphoton.com

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Achieved stable 15W EUV output on prototype system– marking another critical step forward toward achieving high power LPP light sources for EUV lithography

OYAMA, JAPAN; September 30, 2013 — Gigaphoton, Inc. a major lithography light source manufacturer, announced today that the company has jointly developed a high power CO2 drive laser for Extreme Ultraviolet (EUV) light sources with Mitsubishi Electric Corporation, a leading manufacturer of electric and electric equipment. Likewise, an average output level of 15W was achieved on a development EUV system – representing another step forward in realizing production level EUV light sources.

The 15W EUV light output was confirmed on a prototype EUV light source. Furthermore, initial experiments conducted on the jointly developed CO2 drive laser has produced output power of over 20kW, signifying that a key piece of technology necessary for producing EUV output levels of 250W which is necessary for high volume manufacturing (HVM) is has been realized.

Gigaphoton has focused on developing high output, stable, and economical LPP light sources since 2002. During that time, Gigaphoton has introduced several unique technologies that have received industry-wide attention. The recent achievements can be attributed to Gigaphoton’s highly advanced technical capabilities, bringing the company one step closer to achieving mass production of LPP light sources.

“I am very pleased that the CO2 driver laser jointly developed with Mitsubishi Electric Corporation has demonstrated sufficient output levels necessary for production and that our unique LPP light source technology is showing firm progress towards high volume production level output” said Hitoshi Tomaru, President and CEO of Gigaphoton. “This also demonstrates progress towards realizing our vision for a Green, environmentally friendly LPP light source. Our efforts will help to bring the industry closer to realizing EUV lithography scanners for high volume manufacturing.”

Gigaphoton is striving to offer the most environmentally friendly, cost effective, and powerful EUV light source possible through unique technologies such as double pulse laser produced plasma (LPP) and debris mitigation using superconducting magnets.

Tin (Sn) droplets are irradiated using a high energy pulse driver laser to create Tin plasma which is used to generate the EUV light. Improving the conversion efficiency of the EUV light generation and achieving efficient and effective mitigation of debris from the collector mirror are key issues that must be resolved for production level EUV light sources.

Highly efficient EUV output is possible through Gigaphoton’s unique technology based on the optimized use of a short wavelength solid-state pre-pulse laser in conjunction with a CO2 main pulse laser. Efficient and effective debris mitigation is also possible through Gigaphoton’s unique method of utilizing a superconducting magnet to generate a powerful magnetic field that guide the unwanted debris resulting from the thermal expansion of the Tin droplets towards the Tin catcher. This results in further reduction of cost and downtime.

Gigaphoton will continue to pursue breakthrough achievements in technology to bring the industry closer to realizing EUV lithography tools for high volume manufacturing.

About Gigaphoton:
Since its founding in 2000, Gigaphoton has developed and delivered user-friendly, high-performance DUV laser light sources used by major semi-conductor chipmakers in the Pan-Asian, US and European regions.
Gigaphoton’s patented, innovative LPP EUV technology solutions lead the way to cost-effective, highly productive lithography sources for high-volume production. With a global business outlook, Gigaphoton strives to be the world’s number-one lithography light source provider, focusing on end-user needs in every phase of its business, from research and development to manufacturing to best-in-class reliability and world-class customer support. For more information please visit www.gigaphoton.com

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