OYAMA, Japan, April 27, 2005—Gigaphoton Inc., a major lithography light source manufacturer for the global semiconductor industry, today announced that it has begun volume production and shipment of a new argon fluoride (ArF) excimer laser model, the “GT40A” (emission wavelength: 193 nm; repetition rate: 4,000 Hz). This new model has already been tested and qualified for integration with lithography tools at ASML Holding NV (ASML) in the Netherlands, and will be mounted on ASML lithography systems that are scheduled for delivery to major global semiconductor manufacturers in mid-2005.

In today’s advanced lithography process, with LSI circuit patterns becoming increasingly finer, ArF lithography has reached mainstream, while immersion lithography has become the most promising next-generation technology. A high level of throughput and stable spectrum performance are essential for an ArF laser to be used as a light source for immersion ArF lithography.

To meet such stringent requirements, Gigaphoton developed the “GT40A,” the industry’s first 4-kHz ArF excimer laser mounted with an injection-locking resonator for use as a mass-production lithography light source for 65-nm and below technology nodes. Based on tests performed at Gigaphoton’s headquarters in Japan and at a major lithography tool manufacturer, the GT40A has demonstrated stabilized high performance, low-running costs, and unprecedented reliability and uptime—all of which are sufficient to meet the requirements associated with mass-production lithography processes.

Gigaphoton has been supplying krypton fluoride (KrF) and ArF excimer laser light sources for lithography tools to ASML and other leading major lithography tool manufacturers since 2000. During that time, ASML and Gigaphoton have established a successful collaboration in development and product support, and both companies are confident that the introduction and operation of the GT40A will proceed smoothly.

Gigaphoton is also committed to meeting the continuous improvement targets of ASML’s supply chain management strategy, called Value Sourcing. This strategy challenges suppliers to meet the highest levels of performance in the areas of quality, logistics, technology and cost (QLTC). Gigaphoton recently achieved the highest supplier rating level for its QLTC performance. “I’m very pleased that Gigaphoton and its employees achieved the “A” status,” commented Henk Scheepers, Senior Vice President, Supply Chain Management, at ASML. “We are confident that Gigaphoton will continue to provide us with quality support while maintaining its high QLTC standard.”

Main Features of the GT40A:

  1. An injection-locking laser
    The GT40A is the industry’s first mass-production model to use injection-locking technology*. This ensures highly stable emission of a DUV beam with high output of 45 W and a spectral bandwidth of 0.2 picometer (pm) for full-width half maximum (FWHM) and 0.5 pm for E95 — the highest bandwidth level in the industry.
    * Injection-locking technology injects a low-output laser beam (master)—which is emitted after being tuned to an extremely narrow spectral bandwidth—into a laser resonator (amplifier) that amplifies it with laser resonation. This technology allows simultaneous maintenance of a narrower spectral bandwidth and higher output, a combination that is difficult to achieve with conventional technologies.
  2. The industry’s lowest running cost 
    The injection-locking technology allows greater reduction of the load upon the laser optics. Furthermore, the system configuration has been refined to significantly reduce both the number of consumables (modules) and replacement frequency. As a result, the GT40A can achieve the lowest running cost in the industry.
  3. A highly reliable/operable design
    The high reliability and high uptime essential to semiconductor fabs are achieved by introducing a newly developed self-diagnosis function, which significantly improves the ease of module replacement and serviceability.
Major Specifications
Wavelength 193 nm
Max. Repetition Rate 4,000 Hz
Pulse Energy 11.25 mJ
Power 45 W
Bandwidth (FWHM) < 0.2 pm
Bandwidth
(95% Energy Integral)
< 0.5 pm
Energy Stability < ±0.3 %
Module Replacement Intervals
MO Chamber 13 billion pulses
PO Chamber 19 billion pulses
PO Front Module 12 billion pulses
PO Rear Module 12 billion pulses
Monitor Module 30 billion pulses
F2 Trap Module 120 cycles

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About Gigaphoton
Gigaphoton Inc. was founded in 2000 as a joint venture of Komatsu Ltd., the world’s No. 2 construction machinery manufacturer, and Ushio Inc., the world’s No. 1 lithography lamp manufacturer. Since then, Gigaphoton has been developing and marketing user-friendly, highly innovative laser light sources that make a great contribution to lithography technology so as to meet the stringent requirements of the ultra-fine circuit patterns required for the Gigabit era, and delivering them to major lithography tool suppliers in the global semiconductor industry. Gigaphoton has already grown to dominate the Asian market including Japan, with a large number of installed bases of most of the major semiconductor device manufacturers in this region. Already the No. 2 excimer laser light source manufacturer in the world, Gigaphoton continues to enjoy rapid growth in the U.S. and European markets. More information about Gigaphoton can be found on the company’s website at: www.gigaphoton.com

The company name and logo are the trademarks of Gigaphoton, Inc. The content of this release may be changed without prior notice. Gigaphoton shall not be liable for updating or announcing a correction if the content of this release is changed for any reason in the future.ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ )は、65 nm以下のデザインルールに対応するリソグラフィ用光源として、インジェクションロック技術を搭載したArF(フッ化アルゴン)エキシマレーザの新製品「GT40A」(発振波長: 193 nm、発振周波数: 4,000 Hz)の量産出荷を開始したと発表しました。既に大手露光装置メーカーのオランダASML社での接続テスト・及び製品評価を終了しており、GT40Aを搭載した同社の液浸露光装置は、2005年中頃に大手半導体メーカー向けに出荷される予定です。

今日の最先端半導体リソグラフィプロセスでは、ますます加速する集積回路パターンの微細化に対応すべく、ArFリソグラフィが主流となり、また液浸ArFリソグラフィ技術が次世代プロセスの最右翼となっています。そして、リソグラフィ光源のArFレーザに対しては、液浸ArFリソグラフィに対応できる高いスループット、スペクトル安定性能への要求が一層高まってきています。

ギガフォトンは、このような要求に応えるために、昨年12月に、65 nm以下の技術ノードに対応する、量産機としては業界初のインジェクションロック技術を搭載した4kHz ArFエキシマレーザ「GT40A」を開発し、社内で製品評価を開始しました。その結果、「GT40A」の安定した高性能、低ランニングコスト、非常に高い信頼性・稼働率が量産露光に十分に対応できると判断されたため、「GT40A」の市場導入が決定されたものです。

ギガフォトンのエキシマレーザ装置は、国内外大手露光装置メーカー各社が採用していますが、ASML社には2000年からKrF及びArFエキシマレーザ装置を納入しています。ASML社とギガフォトンは、装置開発及びサポートに関して緊密な協力体制を確立しており、GT40Aの導入稼動開始に関しても予定通り行われるものと期待しています。

また、ギガフォトンはASML社が購入部品サプライヤーのQLTC(品質・物流・技術・コスト)評価のために策定した「Value Sourcing」に対して積極的に取り組んでおり、昨年には露光装置用レーザ光源メーカーとしてはじめて最優秀ランク”A” Statusを獲得しました。ASML社サプライ・チェーン・マネージメント担当シニア・バイス・プレジデントのHenk Scheepers氏は、こうコメントしています。「私たちは、ギガフォトンがASMLのQLTC維持のため、引き続き高品質のサポートを提供してくれるものと期待しています。」

GT40Aの特長

  1. インジェクションロックレーザー

    量産機として業界初のインジェクションロック技術(*)を採用し、45 Wの高出力と、半値全幅では0.2ピコメートル、E95では0.5ピコメートルという、業界最高水準のスペクトル線幅のDUV光を、高度に安定して発振することができます。

    (*)インジェクションロック技術とは、非常に狭いスペクトル幅にチューニングし発振させた低出力のレーザ光(Master)を、大出力のレーザ共振器(Amplifier)に注入し、レーザ共振により増幅する技術で、従来困難とされていた狭いスペクトルと高出力の両立を可能とする技術です。

  2. 業界トップレベルの低ランニングコスト

    インジェクションロック技術により、レーザ光学部品への負荷が低減され、また、システム構成をリファインすることにより消耗品(モジュール)の種類・交換頻度が大幅に低減されました。その結果、業界トップレベルの低ランニングコストを実現しています。

  3. 高信頼・高稼働設計

    新開発の高度自己診断機能 (self diagnosis) を搭載しているほか、モジュール交換性など、サービス性を大幅に改良し、半導体工場で必須とされる高信頼性・高稼働率を実現しています。

 

仕様概要
発振波長 193 nm
発振周波数 4,000 Hz(最大)
パルスエネルギー 11.25 mJ
平均出力 45 W
スペクトル幅(半値全幅) <0.2 pm
スペクトル幅
(95 %エネルギー積算)
<0.5 pm
積算エネルギー安定性 <±0.3 %
モジュール保守間隔
MOチャンバ交換 130億パルス
POチャンバ交換 190億パルス
POフロントモジュール交換 120億パルス
POリヤモジュール交換 120億パルス
モニターモジュール交換 300億パルス
フッ素トラップ交換 120サイクル

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ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。

社名、ロゴ、GT40Aは、株式会社ギガフォトンの商標です(申請中含む)。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。

<プレスの皆様>
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