Offering the industry’s highest level power output of 120W, excellent performance and reliability, and eco-friendly design for minimizing operational cost
OYAMA, JAPAN; February 18, 2013 — Gigaphoton, Inc., a major lithography light source manufacturer, announced today that its state-of-the-art GT64A ArF excimer lasers for scanners targeting 450mm wafer production are now available for order. The GT64A is the latest advancement in Gigaphoton’s continuously evolving ArF platform. The product inherits proven technologies from its predecessors such as the twin-chamber architecture, output control algorithm, beam alignment technologies, and advances them further to achieve greater output power, beam performance and stability – offering customers the industry’s highest level of reliability, recovery time, and module life.
120Wの世界最高レベルの大出力と高い光性能・安定性を
「環境負荷低減」をコンセプトに低ランニングコストで実現
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸仁、www.gigaphoton.com）は、同社の、450mmウェハー対応液浸露光装置向けArFエキシマレーザー「GT64A」が露光機メーカーからの受注を開始したと発表しました。
GT64Aは、ギガフォトンの進化するArFプラットフォームにおける、更なる飛躍であり、その優れたツインチャンバー・アーキテクチャー、出力コントロールアルゴリズムとビームアライメントテクノロジーを引き継ぐ事で、120Wの大出力、高い光性能・安定性を達成すると共に、世界トップクラスの信頼性、リカバリータイムとモジュール寿命をお客様に提供します。
The GT64A, with its extremely high laser efficiency, can achieve power levels of up to 120W for multi-patterning in 450mm wafer production applications. Power output can be automatically adjusted to optimal levels of light energy based on the customers’ process. With its highly stable energy, spectral bandwidth, and beam profile, combined with longer pulse durations, the product offers greatly improved overlay accuracy, critical dimension control, and minimization of line edge roughness – all of which are extremely important for multi-patterning lithography. Furthermore, the GT64A’s product concept weighed heavily on eco-friendliness to meet customer requirements for lowering electricity, gas, and cooling equipment costs to its lowest possible level. Details of Gigaphoton’s latest ArF excimer laser will be presented at the SPIE Advanced Lithography 2013, being held in San Jose, California from February 24th through the 28th.
“I am very pleased to be able to offer the GT64A―a product designed to support the highly anticipated 450mm wafer scanners”, said Hitoshi Tomaru, President and CEO of Gigaphoton. “This is yet another example of our long standing commitment to contribute products that meets the detailed needs of our customers and the semiconductor industry as a whole. We are committed to continuing our investments in the research and development of advanced lithography technologies and minimizing environmental impact through ourvEcoPhoton™ program, and EUV light sources.”
About Gigaphoton
Since its founding in 2000, Gigaphoton has developed and delivered user-friendly, high-performance DUV laser light sources used by major semi-conductor chipmakers in the Pan-Asian, US and European regions.
Gigaphoton’s patented, innovative LPP EUV technology solutions lead the way to cost-effective, highly productive lithography sources for high-volume production. With a global business outlook, Gigaphoton strives to be the world’s number-one lithography light source provider, focusing on end-user needs in every phase of its business, from research and development to manufacturing to best-in-class reliability and world-class customer support. Visit http://www.gigaphoton.com
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GT64Aは、世界最高レベルのレーザー発振効率をベースに、450mmウェハー・マルチパターニング露光においても高いスループットを約束する120Wの大出力を実現します。出力の自動可変にも対応しており、お客様のプロセスに応じた最適な光量を供給可能としています。又、マルチパターニング露光においてより重要となる、高いパターン重ね合わせ精度(オーバーレィ)の実現、クリティカルディメンジョンの制御、そしてラインエッジラフネスの低減のため、全出力領域に渡り、高い安定性(エネルギ、スペクトル、ビーム形状)と長いパルス幅を達成しています。更に、開発コンセプトを「環境負荷低減」に置くことで、電気、ガス、冷却リソースの設備コストを極限まで抑制する事に成功。お客様の更なるArFエキシマレーザーの装置性能向上、ランニングコスト削減への要望にお応えします。
このギガフォトンのArFエキシマレーザについては、米国カリフォルニア州サンノゼで2月24日（米国時間）より2月28日まで開催される先端リソグラフィの国際シンポジウム(SPIE Advanced Lithography 2013)で発表予定です。
ギガフォトン代表取締役社長の都丸仁はこうコメントしています。「コスト削減、生産性向上を目指し、業界が待ち望んでいる450mmウェハー対応半導体露光装置向けとして開発を進めてきたGT64Aに対し、この度露光機メーカーからの受注を開始しました。これは、ギガフォトンの継続的な半導体装置業界へのコミットメントと、露光機メーカーに対する貢献への具体的な証です。この先進的なArFエキシマレーザーGT64Aは、出力性能のみならず、設備コスト削減と環境への配慮にも大きな競争力を持っています。私達は、継続的な製品開発と共に、環境負荷低減、EcoPhotonTM、EUVソースの開発にも積極的に取り組んでいます。ギガフォトンは、リソグラフィー性能の向上に向け、これらも技術に投資し続けていきます。」
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ギガフォトン株式会社（http://www.gigaphoton.com）は2000年の設立以来、世界トップクラスの露光用エキシマレーザーメーカーとして、日本を含むアジア市場、欧米市場の大手半導体メーカー各社に製品が採用されています。また、次世代のリソグラフィ技術として注目されているEUV光源に関しても、ギガフォトンの革新的な独自技術「LPP EUV」ソリューションは、次世代デバイスの量産での低コスト化、高生産化を実現する技術として、世界中の半導体メーカーから高い注目を集めています。ギガフォトンは、世界一のリソグラフィ光源メーカーを目指し、研究開発から製造・顧客サポートに至るすべての分野で常に顧客の要求に最優先で取り組んでいます。
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