OYAMA, JAPAN; February 6, 2012 — Gigaphoton, Inc. (http://www.gigaphoton.com/e/index.html), a major lithography light source manufacturer, announced that the company will begin shipping the GT63A, the next-generation ArF excimer laser for multi-patterning immersion lithography scanners in the second quarter of 2012.

The powerful GT63A  options were designed in response to customers’ needs to create additional value by incorporating the four “s” series features: sMPL (Spectrum Multi-Positioning LNM)*1, the first customer approved spectrum control (“focus drilling”) technology achieving wider depth of focus; sGRYCOS (Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System), a unique chamber technology lowering operating costs;sTGM (Supreme Total Gas Manager), a gas management system achieving higher uptime with less process gas use; and sMONITORING (Smart Monitoring), real-time information management tracking the highest laser stability in the market. These “s” series features are compatible with existing GT60A*2, GT61A, and GT62A models, given they share a truly common platform with the GT63A. These DUV technologies will be presented at SPIE Advanced Lithography 2012, February 12 – 16, at the San Jose Convention Center, San Jose, CA.

The sMPL technology for focus drilling increases laser spectrum control width to 10 times that of conventional technology, creating a greater depth of focus. Focus drilling enables expansion of the lithography process window for contact holes, trenches and vias, not possible with conventional technology, while avoiding negative effects upon critical dimension uniformity (CDU), overlay and productivity. The sMPL technology was tested in a high-volume manufacturing environment in partnership with a leading scanner manufacturer and device manufacturer.

The enhanced sGRYCOS technology extends the effective life of a laser chamber — one of the main consumable components of an excimer laser — 1.5 times longer than any conventional chamber today. This world-class endurance significantly reduces factory operating costs. This durability results from increasing the strength of the pre-ionization electrode in a newly developed chamber and uses a robust pulse-power supply for today’s and tomorrow’s power requirements.

The sTGM technology implements an innovative wavelength calibration method to eliminate all previous need to routinely replace the laser chamber’s gas. This new industry standard completely eliminates wasted process gases due to calibration requirements, measurably reducing facility costs and improving laser availability on an annual basis. This unique gas management technology allows for system calibration of laser wavelength “as-is” without replacement of the laser chamber’s gas, a first of its kind capability.

The sMONITORING technology is an extension of existing real-time monitoring of laser performance and can be connected with the end-user’s FDC (Fault Detection and Classification) system to monitor system operation.  It is a final check upon highly stable laser output to the scanner and on-wafer performance.

“Our new and enhanced technologies have finally cleared the toughest hurdle, to enhance lithographic performance and throughput at a lower cost with the “s” series features introduced with the GT63A.  Gigaphoton’s chamber lifetime, focus drilling and gas management capabilities are now the standard for our industry.  We believe that we will deliver more added value to our customers by starting shipment of the GT63A and upgrading existing GT60A series lasers. We at Gigaphoton will continue to invest and improve critical DUV technology with leading-edge technologies and support forces.  We appreciate the trust and continued support of our customers.”　said Dr. Yuji Watanabe, president of Gigaphoton.

About Gigaphoton
Since its founding in 2000, Gigaphoton has developed and delivered user-friendly, high-performance DUV laser light sources used by major semi-conductor chipmakers in the Pan-Asian, US and European regions.
Gigaphoton’s patented, innovative LPP EUV technology solutions will lead the way to cost-effective, highly productive lithography sources for high-volume production. With a global business outlook, Gigaphoton strives to be the world’s number-one lithography light source provider, focusing on end-user needs in every phase of its business, from research and development to manufacturing to best-in-class reliability and world-class customer support.

*1) sMPL is provided as an option.
*2) sGRYCOS is not available for the GT60A series.ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、www.gigaphoton.com）は、マルチパターニング用液浸露光装置に向けた次世代のArFエキシマレーザ「GT63A」を2012年第2四半期（2012年4月～6月）に出荷開始すると発表しました。

GT63Aシリーズは、広い焦点深度を実現するスペクトル制御技術(sMPL) *1)、低ランニングコストを実現するチャンバ技術(sGRYCOS)、高稼働率を実現するガス制御技術(sTGM)、高安定性を実現するモニタリング技術(sMONITORING)の、4つの”s”シリーズファンクションを投入し、高い技術でお客様への更なる価値を創造し、信頼に応えています。また、これら”s”シリーズファンクションは、GT63Aシリーズとプラットフォームを共通とする、GT60Aシリーズ*2)、GT61Aシリーズ、GT62Aシリーズにもアップグレードキットが適用可能であり、お客様のご要望に応じたカスタマイズが可能です。 これらの技術は、米国カリフォルニア州サンノゼで2月12日（米国時間）より2月16 日まで開催される先端リソグラフィの国際シンポジウム(SPIE Advanced Lithography 2012)で発表予定です。

sMPL(Spectrum Multi Positioning LNM)技術は、スペクトル制御幅を従来の10倍以上に高め、フォーカスドリリングによる広い焦点深度確保を実現します。このsMPL技術を搭載する事により、従来技術では困難であったコンタクト、トレンチ、ビア等の露光におけるプロセスウィンドウの拡大を、CDU、オーバーレィ、生産性等への悪影響なしに達成可能です。また、sMPLは露光機メーカー及びチップメーカー様と共同で量産試験を実施し、その有効性は確認済です。

sGRYCOS(Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System)技術は、エキシマレーザの主要な交換部品であるチャンバの寿命を従来の1.5倍に高め、低ランニングコストを実現します。sGRYCOS向けに、新規開発したチャンバで予備電離電極の強度を高めた事、及びGTシリーズに搭載されている余裕のあるパルスパワー電源により、エネルギマージンを高め、従来品と比較し大幅な耐久性向上を実現しました。

sTGM(Supreme Total Gas Manager)技術は、波長較正方式に工夫をこらし、従来2週間に一度必要であったレーザガスの交換を不要とする事で、高稼働率と低コスト運転を実現します。GTシリーズで培ったガス制御技術は、パフォーマンスをフィードバックしながらレーザチャンバ内のガスを最適に保つ事が可能です。今回、sTGM向けに新規に開発した絶対波長較正モジュールにより、従来必要であった絶対波長較正時のガス交換を不要とし、ダウンタイムの低減とガスコストの削減を両立しています。

sMONITORING(Smart Monitoring)技術は、オンラインでリアルタイムにレーザのパフォーマンスをモニタする機能で、お客様のFDC(Fault Detection and Classification)システムにも接続可能であり、装置の安定稼働に貢献します。

ギガフォトン代表取締役社長の渡辺裕司はこうコメントしています。「露光性能向上、高スループット化を低コストで実現する、高いハードルに挑戦した当社の技術が、今回の“s”シリーズファンクションを搭載したGT63Aに結実しました。GT63Aの出荷開始により、お客様に更なる価値を届ける事が出来ると確信しております。当社は、今後も高い技術とサポート力でお客様の信頼に答えていきます。」

*1)sMPLはオプションです。
*2)sGRYCOSの設定はありません。

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ギガフォトン株式会社（www.gigaphoton.com）は2000年の設立以来、世界トップクラスの露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場、欧米市場の大手半導体メーカー各社に製品が採用されています。又、次世代のリソグラフィ技術として注目されているEUV光源に関しても、ギガフォトンの革新的な独自技術「LPP EUV」ソリューションは、次世代デバイスの量産での低コスト化、高生産化を実現する技術として、世界中の半導体メーカーから高い注目を集めています。ギガフォトンは、世界一のリソグラフィ光源メーカーを目指し、研究開発から製造・顧客サポートに至るすべての分野で常に顧客の要求に最優先で取り組んでいます。

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