ギガフォトン、マルチパターニング対応 ArFエキシマレーザ 「GT63A」を出荷開始

ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、www.gigaphoton.com)は、マルチパターニング用液浸露光装置に向けた次世代のArFエキシマレーザ「GT63A」を2012年第2四半期(2012年4月~6月)に出荷開始すると発表しました。

GT63Aシリーズは、広い焦点深度を実現するスペクトル制御技術(sMPL) *1)、低ランニングコストを実現するチャンバ技術(sGRYCOS)、高稼働率を実現するガス制御技術(sTGM)、高安定性を実現するモニタリング技術(sMONITORING)の、4つの”s”シリーズファンクションを投入し、高い技術でお客様への更なる価値を創造し、信頼に応えています。また、これら”s”シリーズファンクションは、GT63Aシリーズとプラットフォームを共通とする、GT60Aシリーズ*2)、GT61Aシリーズ、GT62Aシリーズにもアップグレードキットが適用可能であり、お客様のご要望に応じたカスタマイズが可能です。 これらの技術は、米国カリフォルニア州サンノゼで2月12日(米国時間)より2月16 日まで開催される先端リソグラフィの国際シンポジウム(SPIE Advanced Lithography 2012)で発表予定です。

sMPL(Spectrum Multi Positioning LNM)技術は、スペクトル制御幅を従来の10倍以上に高め、フォーカスドリリングによる広い焦点深度確保を実現します。このsMPL技術を搭載する事により、従来技術では困難であったコンタクト、トレンチ、ビア等の露光におけるプロセスウィンドウの拡大を、CDU、オーバーレィ、生産性等への悪影響なしに達成可能です。また、sMPLは露光機メーカー及びチップメーカー様と共同で量産試験を実施し、その有効性は確認済です。

sGRYCOS(Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System)技術は、エキシマレーザの主要な交換部品であるチャンバの寿命を従来の1.5倍に高め、低ランニングコストを実現します。sGRYCOS向けに、新規開発したチャンバで予備電離電極の強度を高めた事、及びGTシリーズに搭載されている余裕のあるパルスパワー電源により、エネルギマージンを高め、従来品と比較し大幅な耐久性向上を実現しました。

sTGM(Supreme Total Gas Manager)技術は、波長較正方式に工夫をこらし、従来2週間に一度必要であったレーザガスの交換を不要とする事で、高稼働率と低コスト運転を実現します。GTシリーズで培ったガス制御技術は、パフォーマンスをフィードバックしながらレーザチャンバ内のガスを最適に保つ事が可能です。今回、sTGM向けに新規に開発した絶対波長較正モジュールにより、従来必要であった絶対波長較正時のガス交換を不要とし、ダウンタイムの低減とガスコストの削減を両立しています。

sMONITORING(Smart Monitoring)技術は、オンラインでリアルタイムにレーザのパフォーマンスをモニタする機能で、お客様のFDC(Fault Detection and Classification)システムにも接続可能であり、装置の安定稼働に貢献します。

ギガフォトン代表取締役社長の渡辺裕司はこうコメントしています。「露光性能向上、高スループット化を低コストで実現する、高いハードルに挑戦した当社の技術が、今回の“s”シリーズファンクションを搭載したGT63Aに結実しました。GT63Aの出荷開始により、お客様に更なる価値を届ける事が出来ると確信しております。当社は、今後も高い技術とサポート力でお客様の信頼に答えていきます。」

*1)sMPLはオプションです。
*2)sGRYCOSの設定はありません。

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ギガフォトン株式会社(www.gigaphoton.com)は2000年の設立以来、世界トップクラスの露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場、欧米市場の大手半導体メーカー各社に製品が採用されています。又、次世代のリソグラフィ技術として注目されているEUV光源に関しても、ギガフォトンの革新的な独自技術「LPP EUV」ソリューションは、次世代デバイスの量産での低コスト化、高生産化を実現する技術として、世界中の半導体メーカーから高い注目を集めています。ギガフォトンは、世界一のリソグラフィ光源メーカーを目指し、研究開発から製造・顧客サポートに至るすべての分野で常に顧客の要求に最優先で取り組んでいます。

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