ギガフォトン、同社100台目のArFレーザ光源が設置される

ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/)は、同社が出荷した通算100台目となるGigaTwin ArFレーザ光源が、台湾の半導体製造ファウンドリ企業に設置されたと発表しました。今回設置されたGT40Aは、この企業の次世代リソグラフィアプリケーション向けの最先端御ArFリソグラフィ装置に組み込まれ、65nmプロセスでのデバイス生産に使用される予定です。出荷開始から通算100台目となるArFレーザがエンドユーザに設置されたことにより、ギガフォトンのインジェクションロッキング技術を特長とする、デュアルチャンバプラットフォームの成功と急速な普及を証明するものとして、業界内の注目を集めるものと期待されます。

ギガフォトン代表取締役社長の渡辺裕司はこうコメントしています。「通算100台目となるGigaTwinレーザ光源装置の納入は、2007年の当社の売上に大きく貢献したこのArFプラットフォームの能力と優位性に対する信頼が高まっていることの証だといえるでしょう。また、私たちにとって記念すべき100台目の装置が、ファウンドリ業界の最先端リソグラフィプロセスの実現に貢献できることを喜ばしく思っています。」

2000年の創立以来、ギガフォトンのレーザ出荷台数とマーケットシェアは、同社のArFレーザの継続的な採用に支えられて毎年2桁という驚異的な急成長を実現しています。同社は、2007年にはArFレーザ光源の売上がKrFレーザ光源の売上を大きく上回ったと報告しています。この成長が同社の収益と世界市場シェアの大幅な増加に寄与し、2007年のレーザ装置の売上ベースでは、世界市場のシェアは約40%に達しました(注)。

ギガフォトンのGT40Aは、65 nm以下の回路パターンを露光するための最先端リソグラフィ装置に組み込まれる0.50 pm (E95) のスペクトル幅を持つ発振周波数4 kHz、平均出力45 Wのエキシマレーザ光源です。GT40Aは、GigaTwinデュアルチャンバプラットフォームという、インジェクションロッキング技術を特長としています。旧来のエキシマレーザではトレードオフ関係にある狭帯域低出力と増幅された高出力スペクトル線幅を同時に維持でき、従来困難とされていた狭いスペクトルと高出力の両立を可能としています。また、GT40Aは低ピークのパルスエネルギーにより、レーザ及び露光装置の光学系へのダメージを軽減し、業界トップレベルの低ランニングコストを実現しています。GT40Aは、新開発の高度自己診断機能を搭載しているほか、モジュール交換性など、サービス性を大幅に改良し、高信頼性・高稼働率を実現しています。

注: ギガフォトン独自調査

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ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。

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