ギガフォトンの出荷累計500台目レーザ光源装置が、 韓国サムスン電子に設置

ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ )は、同社の出荷累計500台目となるエキシマレーザ光源が、韓国サムスン電子に設置されたと発表しました。これは、ギガフォトンのOEM顧客の最先端ArFリソグラフィ装置に組み込まれたGT40Aが納入されたもので、次世代リソグラフィアプリケーションに不可欠な技術として、ギガフォトンの光源技術が業界で長年にわたり圧倒的な支持を受け採用されていることを示すものです。

装置出荷累計500台を記録したことについて、ギガフォトン社長の渡辺裕司はこうコメントしています。「当社の500台目の装置が、サムスン電子のような今日の半導体業界における技術革新のリーダーであり、また当社にとって最も大切な顧客の一つに設置されたことを、とてもうれしく思います。当社は、これまでサムスン電子と密接に協力して、彼らのリソグラフィプロセスに要求される優れた品質、信頼性、高スループットを引き続き確実に提供するために当社の技術を向上させてきました。サムスン電子に設置されたことは、次世代リソグラフィアプリケーションに取り組む当社の最先端ArF光源が益々業界に受け入れられていることを示し、極めて重要です。」

ギガフォトンのレーザの出荷は順調に増加しており、マーケットシェアも2000年の創立以来驚異的なペースで伸び続けています。強力なレーザ販売を象徴するように、同社は最近12ヶ月で100台を超えるレーザを設置したと報告しています。また、同社の収益は80%を超える成長を遂げ、約30%が見込まれるエキシマレーザ市場でのシェアも引き続き増加しています(2006年の同社売上に基づく)。

ギガフォトンのGT40Aは、4 kHz、45 WのArFエキシマレーザでE95では0.5pmという、業界最高水準のスペクトル線幅のDUV光を、高度に安定して発振することができるため、最先端リソグラフィ装置に搭載した場合、65 nm以下の回路パターンの露光が可能です。GT40Aは、インジェクションロック方式を活用して、従来の技術では不可能だったより狭いスペクトル線幅と高出力の両立を可能にしています。更に、露光装置光学系へのダメージ軽減のため、レーザパルスエネルギーのピークエネルギーを大幅に低減し、業界で最も低い稼働コストを実現しています。また、ギガフォトンのGT40Aは、半導体工場で必須とされる高信頼性・高稼働率を実現するために、高度自己診断機能を搭載しているほか、モジュール交換性など、サービス性も大幅に改良しました。

ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として設立されました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。ギガフォトンに関する詳細は、ウェブサイト http://www.gigaphoton.comをご覧ださい。

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