ArF Immersion

ArF Dry

ソフトウェア

<div class="wp-block-image">
<figure class="aligncenter"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT66A_500.png" alt="" class="wp-image-7586" srcset="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT66A_500.png 500w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT66A_500-300x300.png 300w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT66A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>


<h2 class="wp-block-heading" id="さらなるテクノロジーの要求に応える液浸露光光源">さらなるテクノロジーの要求に応える液浸露光光源</h2>



<p>最先端デバイス製造は、現在、ムーアの法則が継続されており、テクノロジーノードの微細化は進められています。これらの最先端デバイスでは、ウエハに転写される露光パターン、特にEPE(Edge Placement Error)に対する要求が求められます。光源としてEPEに直接的影響を及ぼすCD LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness)低減を実現することによって、量産現場でのイールド向上を提供します。<br><br>新型液浸露光用光源「GT66A」は、新開発の光学モジュールによりスペックルコントラストを30%低減し、LER/LWR低減することに成功しました。更に、最新の高耐久性部品を導入することにより、モジュールのメンテナンスサイクルを30%延長しました。これにより、プロセスイールドのさらなる改善と、光源のアベイラビリティの向上を実現し、最先端ノード量産での高い生産性をサポートします</p>



<hr class="wp-block-separator has-css-opacity"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading" id="主な特徴">主な特徴</h3>



<h4 class="wp-block-heading" id="最先端ノードでのイールド改善"><meta charset="utf-8">最先端ノードでのイールド改善</h4>



<p><meta charset="utf-8">新開発の光学モジュールによりスペックルコントラストを30%低減によるLER/LWRの改善を実現しました。これにより、リソグラフィ最先端ノード量産における、さらなるイールド改善を提供します。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="高水準のアベイラビリティ">高水準のアベイラビリティ</h4>



<p>最新の高耐久性部品を導入することにより、モジュールのメンテナンスサイクルを30%延長しました。これにより高水準のアベイラビリティを実現し、生産性向上に貢献します。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="サステナビリティソリューションの提供">サステナビリティソリューションの提供</h4>



<p>ヘリウムフリー技術の標準装備で、希ガスの供給不足リスクに備えるほか、ユーティリティの消費量削減技術により環境にも配慮した光源です。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading" id="主な仕様">主な仕様</h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>項目</th><th>値<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>発振波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>出力</td><td>60 &#8211; 90 W</td></tr><tr><td>発振周波数</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>スペクトル幅<br>（95 %エネルギー積算-E95）</td><td>300 +/- 1.5 fm wafer average</td></tr></tbody></table><figcaption class="wp-element-caption">(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>
</div></div>


GT66A

<div class="wp-block-image">
<figure class="aligncenter size-full is-resized"><img loading="lazy" decoding="async" width="800" height="800" src="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800.png" alt="GT80A" class="wp-image-8942" style="object-fit:cover;width:500px;height:500px" srcset="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800.png 800w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800-300x300.png 300w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800-150x150.png 150w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2024/03/GT80A_v1_800-768x768.png 768w" sizes="(max-width: 800px) 100vw, 800px" /></figure></div>


<h2 class="wp-block-heading" id="さらなるテクノロジーの要求に応える液浸露光光源">リソグラフィ性能を牽引する進化した液浸露光光源</h2>



<p>最先端デバイス製造において微細化と共に高い生産性が求められています。これらの最先端デバイスでは、ウエハに転写される露光パターン、特にEPE(Edge Placement Error)に対する要求が求められると同時に高い生産性を両立する必要があります。<br>その中で、光源に対して、EPEに直接的影響を及ぼすCD LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness)低減を実現することにより量産現場でのイールド向上を実現すると共に、さらなる高生産性を提供することが求められます。<br><br>新型液浸露光用光源「GT80A」は、新開発モジュールにより発振周波数を12.5％向上させることに成功しました。これにより、スペックルコントラストをGT65A比で36％低減し、LWR/CDUをさらに低減することに貢献します。プロセスイールドのさらなる改善を実現すると同時に、最先端ノード量産での高い生産性をサポートします。</p>



<hr class="wp-block-separator has-css-opacity"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading" id="主な特徴">主な特徴</h3>



<h4 class="wp-block-heading" id="最先端ノードでのイールド改善"><meta charset="utf-8">最先端ノードでのイールド改善<meta charset="utf-8"></h4>



<p>発振周波数の向上と光学モジュール適用により、スペックルコトントラストを36％低減し、LER/LWRの改善を実現しました。これにより、リソグラフィ最先端ノードの量産において、イールドの改善を提供します。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="高水準のアベイラビリティ">生産性の向上</h4>



<p>新開発モジュールにより、発振周波数の向上を実現しました、最先端ノード量産の生産性向上に貢献します。</p>



<h4 class="wp-block-heading" id="サステナビリティソリューションの提供">サステナビリティソリューションの提供</h4>



<p>ヘリウムフリー技術の標準装備で、希ガスの供給不足リスクに備えるほか、ユーティリティの消費量削減技術により環境にも配慮した光源です。　</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading" id="主な仕様">主な仕様</h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>項目</th><th>値<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>発振波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>出力</td><td>60 &#8211; 90 W</td></tr><tr><td>発振周波数</td><td>6,750 Hz</td></tr><tr><td>スペクトル幅<br>（95 %エネルギー積算-E95）</td><td>300 +/- 1.5 fm wafer average</td></tr><tr><td>特徴</td><td>EPE低減ソリューション<br>発振周波数の向上<br>サステナビリティソリューション</td></tr></tbody></table><figcaption class="wp-element-caption">(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>
</div></div>


GT80A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT65A_500.png" alt="GT65A" class="wp-image-7594" srcset="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT65A_500.png 500w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT65A_500-300x300.png 300w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT65A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">サブ10nmノード向け液浸露光機対応、生産性向上へ貢献するArFエキシマレーザー</h2>



<p>インジェクションロック方式を採用したプラットフォームの7世代目にあたるGT65Aは、最先端技術を導入し、スペクトル幅(E95)可変および安定性向上による「露光性能改善」、モジュール寿命延長による「高稼働率」、ヘリウムフリーによる「環境負荷軽減」により、お客様のさらなる生産性（ウェハアウトプット）向上を実現しています。<br><br>インジェクションロック方式を採用したプラットフォームの7世代目にあたるGT65Aは、最先端技術を導入し、スペクトル幅(E95)可変および安定性向上による「露光性能改善」、モジュール寿命延長による「高稼働率」、ヘリウムフリーによる「環境負荷軽減」により、お客様のさらなる生産性（ウェハアウトプット）向上を実現しています。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading">主な特長</h3>



<h4 class="wp-block-heading">スペクトル幅(E95)可変</h4>



<p>お客様の様々な条件・用途に合わせ、スペクトル幅の変更が可能となります。使用例として、異なる世代の露光機におけるコントラスト性能の差をスペクトル幅で補正することが可能です。また、スペクトル幅可変機能によりOPCの特性の装置間もしくはマスク間のマッチングを取ることも可能です<sup>*1</sup><br>*1 接続される露光機により機能が異なります。</p>



<h4 class="wp-block-heading">スペクトル幅(E95)安定性向上</h4>



<p>スペクトル幅制御速度を、従来の20倍に向上させることに成功しました。これにより、装置稼働中におけるスペクトル幅がより安定し、クリティカルディメンションエラーの低減が可能になります。</p>



<h4 class="wp-block-heading">モジュール寿命延長</h4>



<p>主要モジュールの寿命を延長させることで、メンテナンス頻度のさらなる低減を実現しました。これにより、長期間にわたる装置の稼動が可能となります。</p>



<h4 class="wp-block-heading">ヘリウムフリー</h4>



<p>ArFエキシマレーザー稼動のために用いられるヘリウムの使用量をゼロとする技術を導入。これにより、お客様のコスト削減および環境負荷の軽減に貢献します。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading">主な仕様</h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>項目</th><th>値<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>発振波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均出力</td><td>≥60 W</td></tr><tr><td>パルスエネルギー</td><td>10.0 &#8211; 20.0 mJ</td></tr><tr><td>発振周波数</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>スペクトル幅（95 %エネルギー積算-E95）</td><td>0.20 – 0.45 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>
</div></div>


GT65A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT64A_500.png" alt="GT64A" class="wp-image-7593" srcset="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT64A_500.png 500w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT64A_500-300x300.png 300w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT64A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">450mmウェハー・マルチパターニング露光装置対応先進のArFエキシマレーザー</h2>



<p>GT64Aは、120Wの世界最高レベルの大出力と高い光性能・安定性を、「環境負荷低減」をコンセプトに極限まで抑制したトータルオペレーションコストで実現します。<br>お客様の半導体量産体制を支えるため、性能と効率の最大化を目指し開発されたGT64Aは、インジェクションロック方式を採用したGTプラットフォームの6世代目にあたります。<br>GTプラットフォームの優れたツインチャンバー・アーキテクチャー、出力コントロールアルゴリズムとビームアライメントテクノロジーを引き継ぐ事で、120Wの大出力、高い光性能・安定性を達成すると共に、世界トップクラスの信頼性、リカバリータイムとモジュール寿命を提供。お客様の更なるArFエキシマレーザーへの装置性能向上、トータルオペレーションコスト削減への要望にお応えします。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading">主な特長</h3>



<h4 class="wp-block-heading">世界最高レベルの効率と120Wの大出力</h4>



<p>GT64Aは、インジェクションロック方式の採用により達成された世界最高レベルのレーザー発振効率をベースに、450mmウェハー・マルチパターニング露光においても高いスループットを約束する120Wの大出力を実現します。</p>



<h4 class="wp-block-heading">出力の自動可変</h4>



<p>出力の自動可変にも対応しており、お客様のプロセスに応じた最適な光量を供給可能としています。又、本機能は、無駄な光の発生を避ける事が可能となるため、ランニングコストの削減・環境負荷の低減にも効果を発揮します。</p>



<h4 class="wp-block-heading">高いレーザービーム安定性</h4>



<p>マルチパターニング露光においてより重要となる、高いパターン重ね合わせ精度(オーバーレィ)の実現、クリティカルディメンジョンの制御、そしてラインエッジラフネスの低減のため、全出力領域に渡り、高い安定性(エネルギ、スペクトル、ビーム形状)と長いパルス幅を達成しています。</p>



<h4 class="wp-block-heading">低い環境負荷</h4>



<p>開発コンセプトを「環境負荷低減」に置くことで、電気、ガス、冷却リソースの設備コストを極限まで抑制する事に成功。トータルオペレーションコストの削減と共に、社会的な趨勢でもある環境に与えるマイナスの影響を抑制しています。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading">主仕様</h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>項目</th><th>値<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>発振波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均出力</td><td>60 &#8211; 120 W</td></tr><tr><td>パルスエネルギー</td><td>10.0 &#8211; 20.0 mJ</td></tr><tr><td>発振周波数</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>スペクトル幅（95 %エネルギー積算-E95）</td><td>0.25 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>
</div></div>


GT64A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT63A_500.png" alt="GT63A" class="wp-image-7583" srcset="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT63A_500.png 500w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT63A_500-300x300.png 300w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/01/GT63A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">マルチパターニング用液浸露光装置に向けた次世代のArFエキシマレーザ「GT63A」</h2>



<p>GT63Aは、GTシリーズの最新モデルで、インジェクションロック方式を採用したプラットフォームの5世代目にあたります。<br>GT63Aシリーズは、広い焦点深度を実現するスペクトル制御技術(sMPL) *1)、低ランニングコストを実現するチャンバ技術(sGRYCOS)、高稼働率を実現するガス制御技術(sTGM)、高安定性を実現するモニタリング技術(sMONITORING)の、4つの”s”シリーズファンクションを投入し、高い技術でお客様への更なる価値を創造し、信頼に応えています。<br>GTシリーズはすでに各国の主要ユーザーに数多く受け入れられており、その設計思想・信頼性が高く評価されています。<br>GT63Aは、これまでのGTシリーズと同じプラットフォーム上に設計されており、最大限の共通化が図られているため、ユーザーにとってその導入当初から高い信頼性が期待できます。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading">GT63Aの特長：４つの”s”シリーズファンクション</h3>



<h4 class="wp-block-heading">sMPL</h4>



<p>sMPL(Spectrum Multi Positioning LNM)技術は、スペクトル制御幅を従来の10倍以上に高め、フォーカスドリリングによる広い焦点深度確保を実現します。このsMPL技術を搭載する事により、従来技術では困難であったコンタクト、トレンチ、ビア等の露光におけるプロセスウィンドウの拡大を、CDU、オーバーレイ、生産性等への悪影響なしに達成可能です。また、sMPLは露光機メーカー及びチップメーカー様と共同で量産試験を実施し、その有効性は確認済です。</p>



<h4 class="wp-block-heading">sGRYCOS</h4>



<p>sGRYCOS(Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System)技術は、エキシマレーザの主要な交換部品であるチャンバの寿命を従来の1.5倍に高め、低ランニングコストを実現します。sGRYCOS向けに、新規開発したチャンバで予備電離の強度を高めた事、及びGTシリーズに搭載されている余裕のあるパルスパワー電源により、エネルギマージンを高め、従来品と比較し大幅な耐久性向上を実現しました。</p>



<h4 class="wp-block-heading">sTGM</h4>



<p>sTGM(Supreme Total Gas Manager)技術は、波長較正方式に工夫をこらし、従来2週間に一度必要であったレーザガスの交換を不要とする事で、高稼働率と低コスト運転を実現します。GTシリーズで培ったガス制御技術は、パフォーマンスをフィードバックしながらレーザチャンバ内のガスを最適に保つ事が可能です。今回、sTGM向けに新規に開発した絶対波長較正モジュールにより、従来必要であった絶対波長較正時のガス交換を不要とし、ダウンタイムの低減とガスコストの削減を両立しています。</p>



<h4 class="wp-block-heading">sMONITORING</h4>



<p>sMONITORING(Smart Monitoring)技術は、オンラインでリアルタイムにレーザのパフォーマンスをモニタする機能で、お客様のFDC(Fault Detection and Classification)システムにも接続可能であり、装置の安定稼働に貢献します。</p>
</div></div>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<div class="wp-block-group is-layout-flow wp-block-group-is-layout-flow"><div class="wp-block-group__inner-container">
<h3 class="wp-block-heading"><strong>主な仕様</strong></h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table><thead><tr><th>項目</th><th>値<sup>*</sup></th></tr></thead><tbody><tr><td>発振波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均出力</td><td>60/90 W</td></tr><tr><td>パルスエネルギー</td><td>10.0/15.0 mJ</td></tr><tr><td>発振周波数</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>スペクトル幅（95 %エネルギー積算-E95）</td><td>0.3 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>
</div></div>


GT63A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT62A_500.png" alt="GT62A" class="wp-image-8005" srcset="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT62A_500.png 500w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT62A_500-300x300.png 300w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT62A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">世界最高出力90ワットを実現した液浸二重露光に対応するArFエキシマレーザ「GT62A」</h2>



<p>GT62Aは、GTシリーズの最新モデルで、インジェクションロック方式を採用したプラットフォームの4世代目にあたります。液浸二重露光をサポートするために、90ワットの出力を提供します。さらに、さまざまな顧客ニーズに対応するため60Wでの運転も可能となっており、システム導入時の対費用効果に優れています。<br>チャンバや光学部品などの消耗品の長寿命技術、およびダウンタイムを最小にするギガフォトン独自の技術が搭載されており、経済面からも最先端プロセスの導入を支えます。<br>GTシリーズはすでに各国の主要ユーザーに数多く受け入れられており、その設計思想・信頼性が高く評価されています。GT62Aは、これまでのGTシリーズと同じプラットフォーム上に設計されており、最大限の共通化が図られているため、ユーザーにとってその導入当初から高い信頼性が期待できます。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading">主な特徴</h3>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong>高出力・高安定性</strong></strong></h4>



<p>新開発の電源を採用することにより、60ワットのGT61Aと比較して50%の向上を達成し、90ワットの高出力を実現しました。高出力化に伴って増大する熱負荷への対策技術、新開発の高耐久性の光学素子を搭載しており、高出力運転時にも性能の安定性が確保されています。また、ギガフォトン独自の技術であるBCM(Bandwidth Control Module）を標準装備しており、安定したスペクトルを提供します。<br>GT62Aはさまざまな顧客ニーズに対応するため、60ワット出力の仕様もラインナップしました。これにより導入当初はコストを抑えながら60ワット出力で運転を続け、将来必要になった時点で90ワットにアップグレードすることが可能となり、最適なタイミングで必要な投資をしながらご使用いただけます。</p>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong>コストの削減</strong></strong></h4>



<p>半導体製造装置は飛躍的なスピードで高性能化に加えて高スループット化が進んでいます。このような製造装置を最大限の稼働率で運転することがお客様工場の生産性を高めることにつながると考え、ギガフォトンは長年に亘りあらゆる面からレーザの高稼働率を達成・維持するための活動を継続してきました。その技術はGTシリーズに搭載され、最新のGT62Aではガス交換によるダウンタイムを従来の10分の1にする技術や、チャンバ・光学素子を有効に使って実質寿命を延長することによりメンテナンス時間やコストを下げる技術が搭載されています。</p>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading">主な仕様</h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>項目</th><th>値*</th></tr></thead><tbody><tr><td>発振波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均出力</td><td>60/90 W</td></tr><tr><td>パルスエネルギー</td><td>10.0/15.0 mJ</td></tr><tr><td>発振周波数</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>スペクトル幅（95 %エネルギー積算-E95）</td><td>0.35 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>


GT62A


<div class="wp-block-image"><figure class="aligncenter size-full"><img loading="lazy" decoding="async" width="500" height="500" src="https://webapi.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT61A_500.png" alt="GT61A" class="wp-image-8013" srcset="https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT61A_500.png 500w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT61A_500-300x300.png 300w, https://webapi2.gigaphoton.global/wp-content/uploads/2022/05/GT61A_500-150x150.png 150w" sizes="(max-width: 500px) 100vw, 500px" /></figure></div>



<h2 class="wp-block-heading">Hyper N.A. 液浸露光装置に対応する最新鋭6kHz ArFエキシマレーザ製品</h2>



<p><em>N.A. 1.3以上の液浸露光装置に対応する 6kHz ArF エキシマレーザ GT61A</em></p>



<p>ギガフォトンはGT60Aの量産出荷から1年を経過せずに、スペクトル幅（E95%）をGT60Aから30%向上させ、レーザチャンバ寿命の大幅な改善、ダウンタイムの低減とメンテナンス費用の削減を実現したGT61Aの開発に成功しました。GT61Aは、GT40A及びGT60Aと同様にインジェクションロック方式を採用したプラットフォームの３世代目にあたります。GT40AとGT60Aはすでに各国の主要ユーザに受け入れられており、その設計思想・信頼性が高く評価されています。GT61Aは、GT40A/GT60Aと同じプラットフォーム上に設計されており、最大限の共通化が図られているため、ユーザにとってその導入当初から高い信頼性が期待できます。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading">主な特徴</h3>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong>スペクトル性能</strong></strong></strong></h4>



<p>スペクトル幅（E95%）0.5pmを実現したGT60Aに大幅な改良を加え、同じプラットフォーム上でスペクトル幅0.35pmを実現しました。また、新開発の高精度の計測装置および安定化機構を標準で採用したことにより、装置ライフタイムに亘り、スペクトル性能の高い安定性が可能となりました。これにより、露光プロセスの安定度への貢献が見込まれます。</p>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong>稼働率・信頼性</strong></strong></strong></h4>



<p>レーザチャンバ寿命延長によりメンテナンスダウンタイムの低減と同時にコスト削減が可能です。もちろんGTシリーズの大きなアドバンテージであるモジュール交換性を含むサービス性も確保されており、半導体工場で必須とされる高信頼性・高稼働率を実現しています。また、実績のあるGT40A/GT60Aプラットフォーム上に設計され最大限の共通化が図られており、導入当初から高い信頼性が期待できますので安心して導入いただけます。</p>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading">主な仕様</h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>項目</th><th>値*</th></tr></thead><tbody><tr><td>発振波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均出力</td><td>60 W</td></tr><tr><td>パルスエネルギー</td><td>10.0 mJ</td></tr><tr><td>発振周波数</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>スペクトル幅（95 %エネルギー積算-E95）</td><td>0.35 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>


GT61A


<h2 class="wp-block-heading">45nm以降の技術ノードに対応する新製品、6 kHz ArF エキシマレーザ</h2>



<p>ギガフォトンはGT40Aの量産出荷から1年を経過せずに、出力の大幅な向上と発振周波数が1.5倍の6,000 HzとなるGT60Aの開発に成功しました。GT60Aは、GT40Aと同様にインジェクションロック方式を採用したプラットフォームの2世代目にあたります。GT40Aはすでに各国の主要ユーザに受け入れられており、その設計思想・信頼性が高く評価されています。GT60Aは、GT40Aと同じプラットフォーム上に設計されており、最大限の共通化が図られているため、ユーザにとってその導入当初から高い信頼性が期待できます。</p>



<hr class="wp-block-separator"/>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading">主な特徴</h3>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong><strong>高出力・高発振周波数</strong></strong></strong></strong></h4>



<p>発振周波数4,000 Hzを実現したGT40Aに改良を加え、大幅な効率向上により同じプラットフォーム上に6,000 Hzの発振周波数を実現しました。これによりパルスあたりのエネルギを押さえながらも出力を33%以上アップし、60ワットとしました。大幅な出力と周波数の改善にもかかわらず、露光装置の解像度をサポートするスペクトル性能はGT40Aと同レベルを確保しています。</p>



<h4 class="wp-block-heading"><strong><strong><strong><strong>信頼性・安定性</strong></strong></strong></strong></h4>



<p>実績のあるGT40Aプラットフォーム上に設計され最大限の共通化が図られており、導入当初から高い信頼性が期待できますので安心して導入いただけます。<br>また、GT40Aで新規に導入された高度自己診断機能に加え、装置のアベイラビリティーを高めるためのパラメータ最適化機能が追加されています。GTシリーズの大きなアドバンテージであるモジュール交換性を含むサービス性も確保されており、半導体工場で必須とされる高信頼性・高稼働率を実現しています。</p>



<div style="height:100px" aria-hidden="true" class="wp-block-spacer"></div>



<h3 class="wp-block-heading">主な仕様</h3>



<figure class="wp-block-table is-style-regular"><table class="has-fixed-layout"><thead><tr><th>項目</th><th>値*</th></tr></thead><tbody><tr><td>発振波長</td><td>193 nm</td></tr><tr><td>平均出力</td><td>60 W</td></tr><tr><td>パルスエネルギー</td><td>10.0 mJ</td></tr><tr><td>発振周波数</td><td>6,000 Hz</td></tr><tr><td>スペクトル線幅（FWHM）</td><td>0.2 pm</td></tr><tr><td>スペクトル幅（95 %エネルギー積算-E95）</td><td>0.5 pm</td></tr></tbody></table><figcaption>(*) 各仕様値は代表値です</figcaption></figure>


GT66AGT66A

さらなるテクノロジーの要求に応える液浸露光光源

主な特徴

最先端ノードでのイールド改善

高水準のアベイラビリティ

サステナビリティソリューションの提供

主な仕様

その他のArF Immersion