さらなるテクノロジーの要求に応える液浸露光光源

最先端デバイス製造は、現在、ムーアの法則が継続されており、テクノロジーノードの微細化は進められています。これらの最先端デバイスでは、ウエハに転写される露光パターン、特にEPE(Edge Placement Error)に対する要求が求められます。光源としてEPEに直接的影響を及ぼすCD LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness)低減を実現することによって、量産現場でのイールド向上を提供します。

新型液浸露光用光源「GT66A」は、新開発の光学モジュールによりスペックルコントラストを30%低減し、LER/LWR低減することに成功しました。更に、最新の高耐久性部品を導入することにより、モジュールのメンテナンスサイクルを30%延長しました。これにより、プロセスイールドのさらなる改善と、光源のアベイラビリティの向上を実現し、最先端ノード量産での高い生産性をサポートします


主な特徴

最先端ノードでのイールド改善

新開発の光学モジュールによりスペックルコントラストを30%低減によるLER/LWRの改善を実現しました。これにより、リソグラフィ最先端ノード量産における、さらなるイールド改善を提供します。

高水準のアベイラビリティ

最新の高耐久性部品を導入することにより、モジュールのメンテナンスサイクルを30%延長しました。これにより高水準のアベイラビリティを実現し、生産性向上に貢献します。

サステナビリティソリューションの提供

ヘリウムフリー技術の標準装備で、希ガスの供給不足リスクに備えるほか、ユーティリティの消費量削減技術により環境にも配慮した光源です。

主な仕様

項目*
発振波長193 nm
出力60 – 90 W
発振周波数6,000 Hz
スペクトル幅
(95 %エネルギー積算-E95)
300 +/- 1.5 fm wafer average
特徴EPE低減ソリューション
Continuous Reliability Improvement (CRI) Package
サステナビリティソリューション
(*) 各仕様値は代表値です