450mmウェハー・マルチパターニング露光装置対応先進のArFエキシマレーザー
GT64Aは、120Wの世界最高レベルの大出力と高い光性能・安定性を、「環境負荷低減」をコンセプトに極限まで抑制したトータルオペレーションコストで実現します。
お客様の半導体量産体制を支えるため、性能と効率の最大化を目指し開発されたGT64Aは、インジェクションロック方式を採用したGTプラットフォームの6世代目にあたります。
GTプラットフォームの優れたツインチャンバー・アーキテクチャー、出力コントロールアルゴリズムとビームアライメントテクノロジーを引き継ぐ事で、120Wの大出力、高い光性能・安定性を達成すると共に、世界トップクラスの信頼性、リカバリータイムとモジュール寿命を提供。お客様の更なるArFエキシマレーザーへの装置性能向上、トータルオペレーションコスト削減への要望にお応えします。
主な特長
世界最高レベルの効率と120Wの大出力
GT64Aは、インジェクションロック方式の採用により達成された世界最高レベルのレーザー発振効率をベースに、450mmウェハー・マルチパターニング露光においても高いスループットを約束する120Wの大出力を実現します。
出力の自動可変
出力の自動可変にも対応しており、お客様のプロセスに応じた最適な光量を供給可能としています。又、本機能は、無駄な光の発生を避ける事が可能となるため、ランニングコストの削減・環境負荷の低減にも効果を発揮します。
高いレーザービーム安定性
マルチパターニング露光においてより重要となる、高いパターン重ね合わせ精度(オーバーレィ)の実現、クリティカルディメンジョンの制御、そしてラインエッジラフネスの低減のため、全出力領域に渡り、高い安定性(エネルギ、スペクトル、ビーム形状)と長いパルス幅を達成しています。
低い環境負荷
開発コンセプトを「環境負荷低減」に置くことで、電気、ガス、冷却リソースの設備コストを極限まで抑制する事に成功。トータルオペレーションコストの削減と共に、社会的な趨勢でもある環境に与えるマイナスの影響を抑制しています。
主仕様
| 項目 | 値* |
|---|---|
| 発振波長 | 193 nm |
| 平均出力 | 60 – 120 W |
| パルスエネルギー | 10.0 – 20.0 mJ |
| 発振周波数 | 6,000 Hz |
| スペクトル幅（95 %エネルギー積算-E95） | 0.25 pm |
