EUVリソグラフィ装置用のプロトタイプLPP光源として量産への最終段階に突入

栃木県小山市；　2014年10月21日 — リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社は、現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ（LPP）光源のプロトタイプにおいて、半導体量産工場と同レベルのデューティーサイクル50%にて出力42 W、3時間の連続運転に成功したと本日発表しました。

この成果は、Snターゲット（すずのドロップレット）に対して、固体プリパルスレーザーと炭酸ガス（CO２）レーザーを組み合わせて最適化し照射することによって達成されました。今回ギガフォトンが達成した出力42 W、デューティーサイクル50%での3時間連続運転は、量産対応EUVスキャナーの実現が最終段階に入ったことを意味しています。今後、同社では量産対応EUVスキャナーの実現に向けて、プロトタイプLPP光源で2014年末までに150 Wの出力、2015年までに量産向けLPP光源で250Wでの24時間連続運転を目指し更なる研究開発に取り組んでいきます。

このプロトタイプLPP光源は、すず（Sn）ドロップレットを、固体レーザーによるプリパルスとCO₂レーザーによるメインパルスで照射することでEUVを発光させます。また、コレクターミラーの寿命を最大限に延ばすために、超伝導磁石で強力な磁場を発生させ、すずドロップレットの熱膨張から発生する不要なデブリを、スズキャッチャーへ導いて除去します。更に、20 µmより小さい極小のすず（Sn）ドロップレットを採用することで、ドロップレットジェネレータの長寿命化、ダウンタイムとコストの低減を可能にしています。　

ギガフォトン代表取締役社長兼CEOである都丸仁氏は、次のようにコメントしています。　「出力42 W、デューティーサイクル50%での3時間連続運転に成功したことは、半導体量産工場が待望する高出力、低ランニングコストで安定稼働が可能なLPP光源の完成が間近であること示しています。ギガフォトンの高度な技術力と量産に向けた開発努力が、量産用EUVリソグラフィスキャナーの開発を加速し、次世代露光技術としてのEUVスキャナーの導入時期を一層早めることができると確信しております」。

本件を含むギガフォトンの最新のEUV光源開発状況については、10月27日から29日まで米国ワシントンDCで開催されるEUVリソグラフィに関する国際シンポジウム（2014 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography）で発表予定です。なお、同社も本シンポジウムを協賛しております。

*本件は、独立行政法人「新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）」の助成プログラムの成果を活用しています。

ギガフォトンについて

2000年に設立されて以来、ギガフォトンはアジア全体、米国およびヨーロッパ地域の主要半導体メーカーによって使用されるユーザーフレンドリーな、高性能DUVレーザー光源を開発、供給してきました。

ギガフォトンの、特許を取得した革新的技術であるLPP EUVソリューションは、費用対効果と生産性に優れた量産向けEUVスキャナーの実現に向けて先導的役割を果たしています。グローバルなビジネス展望を持って、ギガフォトンは、研究開発から製造までのあらゆる事業分野においてエンドユーザーのニーズに焦点をあて、業界最高の信頼性と世界水準の顧客サポートでリソグラフィ光源を供給する世界No. 1企業になるよう努めております。詳細は、http://www.gigaphoton.comをご覧ください。

報道関係者向けの連絡窓口

Prototype LPP EUV Light Source Has Reached Final Stage
for Use in High-Volume-Manufacturing EUV Scanners

OYAMA, JAPAN; October 21, 2014 — Gigaphoton Inc., a major lithography light source manufacturer, announced today that it has succeeded in achieving 3-hour continuous operation of its prototype LPP EUV light source at 50% duty cycle and 42-W output, equivalent to usage in a high-volume-manufacturing (HVM) environment.

The 3-hour continuous operation under such HVM environment as above was achieved by irradiating an Sn target (tin droplet) with a solid-state pre-pulse laser and a CO₂ laser after combining and optimizing these lasers. Achievement of 3-hour continuous operation at a duty cycle of 50% with the high output of 42 W is proof that the development of HVM EUV scanners has entered its final stage. Gigaphoton remains committed to continuing its R&D efforts, and is targeting around-the-clock operation at 150-W output and 250-W output for high-volume manufacturing by the end of 2014 and 2015, respectively. 

The prototype LPP light source attains the emission of EUV by radiating ultra-small tin (Sn) droplets of less than 20 μm in diameter with a solid-state pre-pulse laser and main-pulse CO₂ laser. Additionally, to maximize the life of the collector mirror, a high-output superconducting magnet generates a powerful magnetic field that guides unwanted debris produced by thermal expansion of the tin droplets towards the tin catcher. Moreover, use of  Sn target droplets of less than 20 µm in diameter allows prolongation of the droplet generator life as well as reduction of downtime and cost.

“Our success in 3-hour continuous operation of the prototype LPP EUV light source at 50% duty cycle and 42-W output is clear evidence that achievement of a high-performance LPP EUV light source capable of stable operation at higher output and lower running cost will soon be completed,” said Hitoshi Tomaru, President and CEO of Gigaphoton, “I am confident that Gigaphoton’s expertise and efforts to develop an LPP light source that accelerates development of HVM EUV scanners will enable earlier introduction of these scanners as next-generation lithography tools.”

Gigaphoton will present the latest status of its EUV light source development at the 2014 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, which will be held in Washington, DC on October 27 through 29. The company will also co-sponsor this 2014 EUVL symposium.

This utilizes the achievement of a program subsidized by NEDO（New Energy and Industrial Technology Development Organization）.

About Gigaphoton

Since it was founded in 2000, Gigaphoton has developed and delivered user-friendly, high-performance DUV laser light sources used by major semiconductor manufacturers in the Pan-Asian, US and European regions.

Gigaphoton’s patented, innovative LPP EUV technology solutions lead the way to cost-effective, highly productive lithography light sources for high-volume production. With a global business outlook, Gigaphoton strives to be the world’s number-one lithography light source provider, focusing on end-user needs in every phase of its business, from research and development to manufacturing to best-in-class reliability and world-class customer support. Visit http:// http://www.gigaphoton.com/?lang=en.

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