東芝の四日市フラッシュメモリ工場にギガフォトンの最先端レーザ導入

ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ )は、同社の液浸露光装置用の最先端エキシマレーザ光源「GT61A」が、東芝のフラッシュメモリ量産基地である四日市工場に設置されたと発表しました。

半導体量産工場では、露光装置光源であるエキシマレーザの高稼働率の維持が極めて重要です。また、フラッシュメモリの量産においては性能面、特にスペクトルの安定性が極めて高いことが要求されます。ギガフォトンは、東芝の厳しい要求水準に応えるメーカーとして技術・サポートの両面が高く評価され、今回の量産装置への選定につながりました。

GT61Aが東芝の量産工場に導入されたことについて、ギガフォトン社長の渡辺裕司は次のようにコメントしています。「当社のエキシマレーザ光源が、最先端ArF液浸量産装置として導入されたことは大変光栄です。信頼性・安定性をいち早く市場にお届けするという当社の考えを評価いただいた結果と捉え、今後もさらなる改善を重ねてお客様の生産性向上に寄与していきたいと考えます。」

これまでの最先端半導体リソグラフィプロセスでは、ArFドライリソグラフィが量産工場の主力となっていました。しかし、ますます加速する集積回路パターン微細化に対応すべく、液浸ArFリソグラフィ技術がいよいよ量産プロセスとして使われ始めています。光源のArFエキシマレーザに対しては、液浸ArFリソグラフィに対応できる高い出力、高いスループットを確保するための高周波数、スペクトル安定性能への要求が一層高まってきています。

GT61Aは、N.A. 1.3を超えるHyper N.A露光機に対応するリソグラフィ用光源として、インジェクションロック技術を搭載したArF(フッ化アルゴン)エキシマレーザの新製品で、発振波長は193 nm、発振周波数は6,000 Hzで60ワットの出力を提供します。GT61Aは、GT40A/GT60Aに続くGTシリーズの最新モデルで、業界初のインジェクションロック方式を採用したプラットフォームの3世代目にあたります。ギガフォトンはGT60Aで実現した高出力、高周波数技術に加え、GT61AではN.A. 1.3以上の液浸露光装置へ対応するために、スペクトル幅(E95%)をGT40A/GT60Aから30%向上させることに成功しました。また、性能の向上だけでなくレーザチャンバの寿命を大幅に改善し、ダウンタイム低減・メンテナンス費用削減に大きく貢献します。

ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として設立されました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。ギガフォトンに関する詳細は、ウェブサイト http://www.gigaphoton.comをご覧ださい。

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社名、ロゴ、GT40A/GT60A/GT61Aは、株式会社ギガフォトンの商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。©2007 ギガフォトン

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